清洗工艺制造技术

一种清洗工艺，包括：将待清洗设备密封输运至第一清洗室；向第一清洗室添加第一清洗剂，加热第一清洗室，使污染物从所待清洗设备上脱附；从第一清洗室回收第一清洗剂和待清洗设备的污染物；向第二清洗室添加第二清洗剂清洗待清洗设备，去除残留污染物和第一清洗剂；用第三清洗剂清洗待清洗设备，去除残留的第一清洗剂和第二清洗剂。

Cleaning process

【技术实现步骤摘要】
清洗工艺
本专利技术的实施例涉及反应堆设备清洗
，具体涉及一种清洗工艺。
技术介绍
在核
，金属钠可被用作冷却剂和导热剂，因此会产生大量的粘钠设备，例如，充钠装置中的储罐、连接件、阀门、管道等，以及钠回路系统中的主要组成部分各种钠阀和钠管道。上述设备在使用之后需要经过清洗除钠的过程再进行保存，以便消除由于钠在空气中的氧化反应造成的安全隐患。目前对粘钠设备的清洗方法有基于钠与水反应的水清洗法、基于氮气气氛下的钠与水蒸汽反应的水蒸汽清洗法、基于氮气和二氧化碳作为载气的水雾与钠反应的水雾清洗法、基于高温真空环境下钠蒸馏的真空蒸馏法、基于真空环境下水和钠反应的真空清洗法等。现有技术提供的方法需要钠参与反应或者需要制备真空环境，针对粘钠量较大的设备以及大型的粘钠设备，大量的钠参与反应会增加反应速率的控制难度，增加安全隐患，并且针对大型设备的清洗过程制备真空清洗环境是具有一定难度的。
技术实现思路
根据本专利技术的实施例，提供了一种清洗工艺用于清洗粘钠设备，以解决上述现有技术中存在的问题的至少一个方面。一种清本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种清洗工艺，其特征在于，包括：/n将待清洗设备密封输运至第一清洗室；/n向所述第一清洗室添加第一清洗剂，加热所述第一清洗室，使污染物从所述待清洗设备上脱附；/n从所述第一清洗室回收所述第一清洗剂和所述待清洗设备的污染物；/n向所述第二清洗室添加第二清洗剂清洗所述待清洗设备，去除残留污染物和所述第一清洗剂；/n用第三清洗剂清洗所述待清洗设备，去除残留的所述第一清洗剂和所述第二清洗剂。/n

【技术特征摘要】
1.一种清洗工艺，其特征在于，包括：
将待清洗设备密封输运至第一清洗室；
向所述第一清洗室添加第一清洗剂，加热所述第一清洗室，使污染物从所述待清洗设备上脱附；
从所述第一清洗室回收所述第一清洗剂和所述待清洗设备的污染物；
向所述第二清洗室添加第二清洗剂清洗所述待清洗设备，去除残留污染物和所述第一清洗剂；
用第三清洗剂清洗所述待清洗设备，去除残留的所述第一清洗剂和所述第二清洗剂。


2.根据权利要求1所述的工艺，其特征在于：所述第一清洗剂采用矿物油，所述第二清洗剂采用液态醇类化合物，所述第三清洗剂采用挥发性有机溶剂。


3.根据权利要求1所述的工艺，其特征在于：在前述密封输运的步骤中，采用隔离室进行密封输运所述待清洗设备，所述隔离室设置所述第一清洗剂，所述第一清洗剂覆盖所述待清洗设备。


4.根据权利要求3所述的工艺，其特征在于：用所述隔离室将待清洗设备输运至第一清洗室的步骤包括：
拆解和/或切割所述待清洗设备，使所述待清洗设备表面可以被所述第一清洗剂均匀覆盖；
密封所述隔离室，使所述待清洗设备与空气隔离；
将所述待清洗设备输运至所述第一清洗室。


5.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：王荣东，谢淳，杨红义，朴君，姚泽文，杜海鸥，李君瑜，
申请(专利权)人：中国原子能科学研究院，
类型：发明
国别省市：北京;11