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文档序号:24658638
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一种清洗工艺,包括:将待清洗设备密封输运至第一清洗室;向第一清洗室添加第一清洗剂,加热第一清洗室,使污染物从所待清洗设备上脱附;从第一清洗室回收第一清洗剂和待清洗设备的污染物;向第二清洗室添加第二清洗剂清洗待清洗设备,去除残留污染物和第一清...
该专利属于中国原子能科学研究院所有,仅供学习研究参考,未经过中国原子能科学研究院授权不得商用。
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