大口径光学元件清洗装置及大口径光学元件的清洗方法制造方法及图纸

本申请公开一种大口径光学元件清洗装置及大口径光学元件的清洗方法。大口径光学元件清洗装置，包括夹持机构、翻转架、翻转驱动部和竖向旋转部。夹持机构用于夹持光学元件，夹持机构可转动地设于翻转架上，翻转驱动部设于翻转架且驱动夹持机构转动，以使得光学元件相对于水平面发生翻转。竖向旋转部与翻转架配合，以使得翻转架可绕竖直方向转动。本申请提供的技术方案能够高效、便捷、安全地实现大口径光学元件的全口径人工擦洗。

Cleaning device of large diameter optical elements and cleaning method of large diameter optical elements

【技术实现步骤摘要】
大口径光学元件清洗装置及大口径光学元件的清洗方法
本申请涉及光学元件清洗
，具体而言，涉及一种大口径光学元件清洗装置及大口径光学元件的清洗方法。
技术介绍
在强光光学元件镀膜领域，缺陷是影响光学元件抗激光损伤阈值的关键因素之一，因此抑制光学元件缺陷的产生至关重要。针对薄膜光学元件，缺陷的来源与元件清洗质量密切相关。大型激光装置应用的大口径光学元件，其清洗主要有超声清洗和人工擦洗等方法。在人工擦洗过程中，由于部分元件口径与重量均较大或元件较薄，翻转或擦洗十分困难，影响擦洗效率、擦洗质量，并存在倾倒的安全隐患。因此，有必要针对大口径光学元件研发出一种便于人工擦洗的装置和方法。
技术实现思路
本申请提供了一种大口径光学元件清洗装置以及大口径光学元件的清洗方法，以便于高效、便捷、安全地实现大口径光学元件的全口径人工擦洗。第一方面，本申请提供了一种大口径光学元件清洗装置，包括夹持机构、翻转架、翻转驱动部和竖向旋转部。夹持机构用于夹持光学元件，夹持机构可转动地设于翻转架上，翻转驱动部设于翻转架且驱动夹持机构转动，以使得光学元件相对于水平面发生翻转。竖向旋转部与翻转架配合，以使得翻转架可绕竖直方向转动。上述方案中，提供了一种便于人工擦洗光学元件的清洗装置。首先将光学元件夹持于夹持机构上，通过翻转驱动部的驱动与翻转架以竖直方向为转动轴线的旋转，使得夹持机构可实现双轴向旋转，清洗人员能够在不变换擦洗位置的前提下便捷地对光学元件的全口径擦洗。同时，由于夹持机构的稳定夹持，避免了元件倾倒等安全事故的发生。可选地，在一种可能的实现方式中，夹持机构包括框架、两个上层夹持组件以及两个下层夹持组件；两个上层夹持组件相对设于框架的壁面，两个下层夹持组件相对设于框架的壁面；同一侧的上层夹持组件和下层夹持组件自上而下依次分布。上述方案中，提供了夹持机构的一种具体结构，通过上层夹持组件和下层夹持组件能够稳定地夹持光学元件，且配合翻转动作，能够实现光学元件的拆装镀膜工装的动作。可选地，在一种可能的实现方式中，上层夹持组件包括上层驱动组件、上层滑块以及上层卡爪；上层驱动组件设于框架且驱动上层滑块滑动，上层卡爪设于上层滑块的端面；下层夹持组件包括下层驱动组件、下层滑块以及下层卡爪；下层驱动组件设于框架且驱动下层滑块滑动，下层卡爪设于下层滑块的端面。可选地，在一种可能的实现方式中，上层驱动组件包括上层手轮、上层丝杆以及上层滑杆；上层滑块可滑动地设于上层滑杆，上层丝杆的一端与上层手轮传动连接，上层丝杆与框架螺纹配合且其另一端连接上层滑块；下层驱动组件包括下层手轮、下层丝杆以及下层滑杆；下层滑块可滑动地设于下层滑杆，下层丝杆的一端与下层手轮传动连接，下层丝杆与框架螺纹配合且其另一端连接下层滑块。可选地，在一种可能的实现方式中，上层驱动组件还包括上层电磁抱闸，上层电磁抱闸设于上层手轮和上层丝杆之间；下层驱动组件还包括下层电磁抱闸，下层电磁抱闸设于下层手轮和下层丝杆之间。可选地，在一种可能的实现方式中，上层卡爪的上段形成有上层凸块，上层凸块用于卡持于光学元件的上表面；下层卡爪的下段形成有下层凸块，下层凸块用于卡持于光学元件的下表面。可选地，在一种可能的实现方式中，框架通过转轴可转动地设于翻转架；翻转驱动部包括电机、第一带轮、传动带以及第二带轮，电机设于翻转架的底端，电机的输出轴连接第一带轮，第二带轮设于转轴，传动带连接第一带轮和第二带轮。可选地，在一种可能的实现方式中，竖向旋转部包括底盘和转轴，翻转架以竖直方向为转动轴线，通过转轴可转动地与底盘连接。第二方面，本申请还提供一种大口径光学元件的清洗方法，方法包括：提供大口径光学元件清洗装置，大口径光学元件清洗装置包括夹持机构、翻转架以及翻转驱动部，翻转驱动部设于翻转架且驱动夹持机构转动，以使得光学元件相对于水平面发生翻转；将光学元件夹持于大口径光学元件清洗装置的夹持机构上，且翻转夹持机构进行清洗。可选地，在一种可能的实现方式中，夹持机构包括两个上层夹持组件以及两个下层夹持组件；清洗方法还包括拆装镀膜工装，拆装镀膜工装的步骤包括：控制两个上层夹持组件之间或两个下层夹持组件之间的距离，翻转夹持机构，以装载或拆卸镀膜工装。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。图1为本实施例中大口径光学元件清洗装置的结构示意图；图2为本实施例中上层夹持组件和下层夹持组件的结构示意图；图3为本实施例中将光学元件夹持于夹持机构的示意图；图4和图5为本实施例中装载镀膜工装的流程示意图。图标：10-大口径光学元件清洗装置；10A-光学元件；10a-搬运夹持机械手；10b-镀膜工装；11-夹持机构；12-翻转架；13-翻转驱动部；14-底盘；80-上层电磁抱闸；81-下层电磁抱闸；110-框架；111-上层夹持组件；112-下层夹持组件；130-电机；131-第一带轮；132-传动带；133-第二带轮；20-上层驱动组件；21-上层滑块；22-上层卡爪；200-上层手轮；201-上层丝杆；202-上层滑杆；220-上层凸块；30-下层驱动组件；31-下层滑块；32-下层卡爪；300-下层手轮；320-下层凸块。具体实施方式为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。在本申请实施例的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。在本申请实施例的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种大口径光学元件清洗装置，其特征在于，包括：/n夹持机构，所述夹持机构用于夹持光学元件；/n翻转架，所述夹持机构可转动地设于所述翻转架上；/n翻转驱动部，所述翻转驱动部设于所述翻转架且驱动所述夹持机构转动，以使得光学元件相对于水平面发生翻转；以及/n竖向旋转部，所述竖向旋转部与所述翻转架配合，以使得所述翻转架可绕竖直方向转动。/n

【技术特征摘要】
1.一种大口径光学元件清洗装置，其特征在于，包括：
夹持机构，所述夹持机构用于夹持光学元件；
翻转架，所述夹持机构可转动地设于所述翻转架上；
翻转驱动部，所述翻转驱动部设于所述翻转架且驱动所述夹持机构转动，以使得光学元件相对于水平面发生翻转；以及
竖向旋转部，所述竖向旋转部与所述翻转架配合，以使得所述翻转架可绕竖直方向转动。


2.根据权利要求1所述的大口径光学元件清洗装置，其特征在于，
所述夹持机构包括框架、两个上层夹持组件以及两个下层夹持组件；
两个所述上层夹持组件相对设于所述框架的壁面，两个所述下层夹持组件相对设于所述框架的壁面；
同一侧的所述上层夹持组件和所述下层夹持组件自上而下依次分布。


3.根据权利要求2所述的大口径光学元件清洗装置，其特征在于，
所述上层夹持组件包括上层驱动组件、上层滑块以及上层卡爪；
所述上层驱动组件设于所述框架且驱动所述上层滑块滑动，所述上层卡爪设于所述上层滑块的端面；
所述下层夹持组件包括下层驱动组件、下层滑块以及下层卡爪；
所述下层驱动组件设于所述框架且驱动所述下层滑块滑动，所述下层卡爪设于所述下层滑块的端面。


4.根据权利要求3所述的大口径光学元件清洗装置，其特征在于，
所述上层驱动组件包括上层手轮、上层丝杆以及上层滑杆；
所述上层滑块可滑动地设于所述上层滑杆，所述上层丝杆的一端与所述上层手轮传动连接，所述上层丝杆与所述框架螺纹配合且其另一端连接所述上层滑块；
所述下层驱动组件包括下层手轮、下层丝杆以及下层滑杆；
所述下层滑块可滑动地设于所述下层滑杆，所述下层丝杆的一端与所述下层手轮传动连接，所述下层丝杆与所述框架螺纹配合且其另一端连接所述下层滑块。


5.根据权利要求4所述的大口径光学元件清洗装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：王震，许乔，卫耀伟，王健，李树刚，刘民才，张飞，唐明，吴倩，罗晋，罗振飞，周永勤，程建国，白友民，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川;51