【技术实现步骤摘要】
大口径光学元件清洗装置及大口径光学元件的清洗方法
本申请涉及光学元件清洗
，具体而言，涉及一种大口径光学元件清洗装置及大口径光学元件的清洗方法。
技术介绍
在强光光学元件镀膜领域，缺陷是影响光学元件抗激光损伤阈值的关键因素之一，因此抑制光学元件缺陷的产生至关重要。针对薄膜光学元件，缺陷的来源与元件清洗质量密切相关。大型激光装置应用的大口径光学元件，其清洗主要有超声清洗和人工擦洗等方法。在人工擦洗过程中，由于部分元件口径与重量均较大或元件较薄，翻转或擦洗十分困难，影响擦洗效率、擦洗质量，并存在倾倒的安全隐患。因此，有必要针对大口径光学元件研发出一种便于人工擦洗的装置和方法。
技术实现思路
本申请提供了一种大口径光学元件清洗装置以及大口径光学元件的清洗方法，以便于高效、便捷、安全地实现大口径光学元件的全口径人工擦洗。第一方面，本申请提供了一种大口径光学元件清洗装置，包括夹持机构、翻转架、翻转驱动部和竖向旋转部。夹持机构用于夹持光学元件，夹持机构可转动地设于翻转架上，翻转驱动部设于翻转架且...
【技术保护点】
1.一种大口径光学元件清洗装置，其特征在于，包括：/n夹持机构，所述夹持机构用于夹持光学元件；/n翻转架，所述夹持机构可转动地设于所述翻转架上；/n翻转驱动部，所述翻转驱动部设于所述翻转架且驱动所述夹持机构转动，以使得光学元件相对于水平面发生翻转；以及/n竖向旋转部，所述竖向旋转部与所述翻转架配合，以使得所述翻转架可绕竖直方向转动。/n
【技术特征摘要】
1.一种大口径光学元件清洗装置，其特征在于，包括：
夹持机构，所述夹持机构用于夹持光学元件；
翻转架，所述夹持机构可转动地设于所述翻转架上；
翻转驱动部，所述翻转驱动部设于所述翻转架且驱动所述夹持机构转动，以使得光学元件相对于水平面发生翻转；以及
竖向旋转部，所述竖向旋转部与所述翻转架配合，以使得所述翻转架可绕竖直方向转动。
2.根据权利要求1所述的大口径光学元件清洗装置，其特征在于，
所述夹持机构包括框架、两个上层夹持组件以及两个下层夹持组件；
两个所述上层夹持组件相对设于所述框架的壁面，两个所述下层夹持组件相对设于所述框架的壁面；
同一侧的所述上层夹持组件和所述下层夹持组件自上而下依次分布。
3.根据权利要求2所述的大口径光学元件清洗装置，其特征在于，
所述上层夹持组件包括上层驱动组件、上层滑块以及上层卡爪；
所述上层驱动组件设于所述框架且驱动所述上层滑块滑动，所述上层卡爪设于所述上层滑块的端面；
所述下层夹持组件包括下层驱动组件、下层滑块以及下层卡爪；
所述下层驱动组件设于所述框架且驱动所述下层滑块滑动，所述下层卡爪设于所述下层滑块的端面。
4.根据权利要求3所述的大口径光学元件清洗装置，其特征在于，
所述上层驱动组件包括上层手轮、上层丝杆以及上层滑杆；
所述上层滑块可滑动地设于所述上层滑杆，所述上层丝杆的一端与所述上层手轮传动连接，所述上层丝杆与所述框架螺纹配合且其另一端连接所述上层滑块；
所述下层驱动组件包括下层手轮、下层丝杆以及下层滑杆；
所述下层滑块可滑动地设于所述下层滑杆，所述下层丝杆的一端与所述下层手轮传动连接，所述下层丝杆与所述框架螺纹配合且其另一端连接所述下层滑块。
5.根据权利要求4所述的大口径光学元件清洗装置，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：王震，许乔，卫耀伟，王健，李树刚，刘民才，张飞，唐明，吴倩，罗晋，罗振飞，周永勤，程建国，白友民，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：四川;51
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