具有应力消除层的多层X射线源靶制造技术

一种X射线源靶包括构造为在受到电子束撞击时产生X射线的结构。该结构具有包括X射线产生材料的X射线产生层和与X射线产生层相邻并热连通的导热层。应力消除层与导热层相邻。导热层被夹在X射线产生层和应力消除层之间。

Multilayer X-ray source target with stress relief layer

【技术实现步骤摘要】
具有应力消除层的多层X射线源靶
本文公开的主题涉及X射线靶。具体地，本文公开的主题涉及具有高热导率层和应力消除层的多层X射线靶。
技术介绍
各种医学诊断，实验室，安全检查和工业质量控制成像系统，以及某些其他类型的系统(例如，基于辐射的治疗系统)，在操作过程中利用X射线管作为辐射源。通常，X射线管包括阴极和阳极。阴极内的电子束发射器向阳极发射电子流，该阳极包括受电子撞击的靶。电子束沉积到靶中的大部分能量在靶内产生热量，另一部分能量导致X射线辐射的产生。实际上，仅约1％的电子束X射线靶相互作用产生的能量负责X射线的产生，其余99％导致靶的加热。因此，X射线通量高度取决于在给定的时间段内电子束可以沉积到源靶中的能量的量。但是，如果不减少操作过程中产生的相对大量的热量，可能会损坏X射线源(例如，熔化靶)。因此，常规的X射线源通常通过旋转或主动冷却靶来冷却。然而，当旋转是避免过热的手段时，沉积的热量的量以及相关的X射线通量受到转速(RPM)，靶储热能力，辐射和传导冷却能力以及支撑轴承的热极限的限制。具有旋转靶的管也往往比固定靶管更大和更重。当靶被本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种X射线源靶，其特征在于，包括：/n构造为在受到电子束撞击时产生X射线的结构，所述结构包括：/n包括X射线产生材料的X射线产生层；/n与所述X射线产生层相邻并热连通的导热层；和/n与所述导热层相邻的应力消除层；并且/n其中，所述导热层被夹在所述X射线产生层和所述应力消除层之间。/n

【技术特征摘要】
20181213 US 16/218,7181.一种X射线源靶，其特征在于，包括：
构造为在受到电子束撞击时产生X射线的结构，所述结构包括：
包括X射线产生材料的X射线产生层；
与所述X射线产生层相邻并热连通的导热层；和
与所述导热层相邻的应力消除层；并且
其中，所述导热层被夹在所述X射线产生层和所述应力消除层之间。


2.根据权利要求1所述的X射线源靶，其特征在于，其中，所述X射线产生层包括钨、铼、铑和钼中的一种或多种。


3.根据权利要求1所述的X射线源靶，其特征在于，其中，所述导热层包括高定向热解石墨(HOPG)、金刚石、氧化铍、铍和氮化铝中的一种或多种。


4.根据权利要求1所述的X射线源靶，其特征在于，其中，所述应力消除层包括钨、钼、钛-锆-钼合金(TZM)、钨-铼合金、铜-钨合金、铬、铁、钴、铜、银中的一种或多种。


5.根据权利要求1所述的X射线源靶，其特征在于，其中，所述X射线产...

【专利技术属性】
技术研发人员：乔治·希欧多尔·达拉科斯，斯科特·安德鲁·韦弗，约翰·斯科特·普赖斯，史蒂芬·洛伦科·阿劳约，沙西亚那拉亚南·拉加万，
申请(专利权)人：通用电气公司，
类型：发明
国别省市：美国;US