一种可调节底座高度的推片器装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种可调节底座高度的推片器装置，推片器，其内部设有调解室；调节高度装置，安装在调解室内，用于对晶舟的高度调节；固定放置底座，安装在推片器平台上，用于放置晶舟。本实用新型专利技术有益技术效果：产品工序进行转换时，更换专用晶舟进行作业，每道工序所使用的晶舟之间存在差异，通过调节高度装置调整放置晶舟底座的高度，实现正常推片动作，减少对晶片造成划伤和表面脏污情况。

A tablet pushing device with adjustable base height

【技术实现步骤摘要】
一种可调节底座高度的推片器装置
本技术涉及一种可调节底座高度的推片器装置，属于晶片制造装置

技术介绍
PSS（PatternedSapphireSubstrate，图形化蓝宝石衬底）是在蓝宝石衬底表面形成具有微观图形的蓝宝石衬底。图形化衬底一方面能够有效降低外延结构层的位错密度，提高外延材料的晶体质量和均匀性，进而提高发光二极管的内部量子效率；另一方面，由于图形结构增加了光的散射，改变了发光二极管的光学线路，提升出光几率。PSS工艺包括清洗/刷洗、涂胶、光刻、显影、刻蚀等；每道工序进行转换时，需要更换专用晶舟进行作业，而每道工序所使用的晶舟之间存在差异，导致无法正常进行推片动作。原推片器晶舟放置底座为固定的，晶舟与晶舟之前存在差异时，产品工序进行转换时，需要更换专用晶舟进行作业，每道工序所使用的晶舟之间存在差异，导致无法正常进行推片动作，容易对晶片造成划伤和表面脏污。
技术实现思路
为了克服上述现有技术的不足，本技术提供了一种克服不同晶舟无法推片问题的装置；具体为一种可调节底座高度的推片器装置。本技术是通过如下技术方案实现的，一种可调节底座高度的推片器装置，推片器，其内部设有调解室；调节高度装置，安装在调解室内，用于对晶舟的高度调节；固定放置底座，安装在推片器平台上，用于放置晶舟。作为本技术所述的一种可调节底座高度的推片器装置的优选方案：所述调节高度装置，包括底座，以及穿过调解室底部的丝杆；所述丝杆通过螺母与调解室底部连接，丝杆与螺母二者螺纹连接；所述丝杆通过轴承与底座的底部固定连接。作为本技术所述的一种可调节底座高度的推片器装置的优选方案：所述底座的底部还安装有穿过调解室底部的移动导杆。作为本技术所述的一种可调节底座高度的推片器装置的优选方案：所述移动导杆应大于调解室深度3-5cm。相关术语解释晶舟:盛放晶片的晶舟。晶片：是指LED或半导体集成电路等制作所用的晶片，由于其形状为圆形，又称晶圆，材质有蓝宝石，硅，碳化硅，铌酸锂等。推片器：实现晶片从一个晶舟平移至另一个晶舟内的推片装置。本技术有益技术效果：产品工序进行转换时，更换专用晶舟进行作业，每道工序所使用的晶舟之间存在差异，通过调节高度装置调整放置晶舟底座的高度，实现正常推片动作，减少对晶片造成划伤和表面脏污情况。附图说明图1是本技术结构示意图；图2是图1中A-A剖视图；图3是本技术调节使用示意图；图中：10-推片器；11-调解室；20-调节高度装置；21-底座；22-移动导杆；23-轴承；24-丝杆；25-螺母；30-固定放置底座。具体实施方式为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合说明书附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术，但是本技术还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似推广，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。其次，此处所称的“一个实施例”或“实施例”是指可包含于本技术至少一个实现方式中的特定特征、结构或特性。在本说明书中不同地方出现的“在一个实施例中”并非均指同一个实施例，也不是单独的或选择性的与其他实施例互相排斥的实施例。参照图1和图2，作为本技术第一个实施例，提供了一种可调节底座高度的推片器装置，推片器10，其内部设有调解室11；调节高度装置20，安装在调解室11内，用于对晶舟的高度调节；固定放置底座30，安装在推片器10平台上，用于放置晶舟。具体地，产品工序进行转换时，更换专用晶舟进行作业，每道工序所使用的晶舟之间存在差异，通过调节高度装置20的高度调整，将固定放置底座30上晶舟内的晶片转移到调节高度装置20上晶舟，实现正常推片动作，减少对晶片造成划伤和表面脏污情况。参照图2，所述调节高度装置20，包括底座21，以及穿过调解室11底部的丝杆24；所述丝杆24通过螺母25与调解室11底部连接，丝杆24与螺母25二者螺纹连接；所述丝杆24通过轴承23与底座21的底部固定连接。具体地，通过手动方式转动丝杆24，丝杆24通过螺母25实现向上或向下的位移，丝杆24通过轴承23与底座21的底部固定连接，因此丝杆24转动不会带动底座21转动，底座21会受到丝杆24作用向下或向上发生位移；从而调整底座21上的晶舟高度。为了保证底座21移动的平稳性，增加了新的技术特征，具体为：所述底座21的底部还安装有穿过调解室11底部的移动导杆22。所述移动导杆22应大于调解室11深度3-5cm。保证移动导杆22长度满足大于底座21移动的距离。应说明的是，以上实施例仅用以说明本技术的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本技术进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本技术的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本技术技术方案的精神和范围，其均应涵盖在本技术的权利要求范围当中。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种可调节底座高度的推片器装置，其特征在于：/n推片器（10），其内部设有调解室（11）；/n调节高度装置（20），安装在调解室（11）内，用于对晶舟的高度调节；/n固定放置底座（30），安装在推片器（10）平台上，用于放置晶舟。/n

【技术特征摘要】
1.一种可调节底座高度的推片器装置，其特征在于：
推片器（10），其内部设有调解室（11）；
调节高度装置（20），安装在调解室（11）内，用于对晶舟的高度调节；
固定放置底座（30），安装在推片器（10）平台上，用于放置晶舟。


2.根据权利要求1所述的一种可调节底座高度的推片器装置，其特征在于：
所述调节高度装置（20），包括底座（21），以及穿过调解室（11）底部的丝杆（24）；
所述丝杆（24）通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘莲蓬，丁建峰，王祥，于玉斋，魏明德，
申请(专利权)人：徐州同鑫光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32