高纯化学品容器清洗控制装置制造方法及图纸

技术编号:24576851 阅读:77 留言:0更新日期:2020-06-21 00:30
本实用新型专利技术公开了高纯化学品容器清洗控制装置,包括工作箱和门板,所述工作箱的前端中间偏左位置处设置有门板,本实用新型专利技术在现有的设备的基础上加装了新型的工作箱,工作向内设置有顶部喷淋板、右侧喷淋板、底部喷淋板和左侧喷淋板,可以有效的全方位的对放置板上的化学品容器进行清洗冲淋工作,有效的提高本实用新型专利技术的喷淋清洗的工作效率和工作质量,本实用新型专利技术在现有的设备的基础上加装了新型的放置板,放置板上在放置架之间设置有漏板,漏板可以有效的将清洗液漏至下层放置板上,可以有效的提高清洗液的清洗工作效率,减少清洗液的浪费,可以有效的节约使用者的工作成本,同时也可以有效的提高本实用新型专利技术的工作效率。

High purity chemical container cleaning control device

【技术实现步骤摘要】
高纯化学品容器清洗控制装置
本技术属于清洗控制装置相关
,具体涉及高纯化学品容器清洗控制装置。
技术介绍
高纯化学品容器在使用完成后需要进行清洗消毒工作后才可以再次投入使用,通过人工清洗不仅效率低而且危险性较高,通过机器设备进行清洗可以有效的降低人工成本,但是增加了清洗工作的成本。现有的清洗控制装置技术存在以下问题:现有的清洗控制装置在清洗的过程中多通过顶部的喷淋装置进行喷淋清洗液进行清洗工作,设备的工作效率较低,同时现有的清洗控制装置在清洗的过程中大量的清洗液会在清洗的过程中浪费,增加了使用者的工作成本。
技术实现思路
本技术的目的在于提供高纯化学品容器清洗控制装置,以解决上述
技术介绍
中提出的喷淋清洗效率较低和清洗液浪费较多的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:高纯化学品容器清洗控制装置,包括工作箱和门板,所述工作箱的前端中间偏左位置处设置有门板,所述门板的前端中间右侧位置处设置有门把手,所述门板的右侧中间偏上位置处设置有显示屏,所述显示屏的下方位置处设置有控制键盘,所述工作箱的右侧顶部偏下位置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.高纯化学品容器清洗控制装置,包括工作箱(7)和门板(8),其特征在于:所述工作箱(7)的前端中间偏左位置处设置有门板(8),所述门板(8)的前端中间右侧位置处设置有门把手(4),所述门板(8)的右侧中间偏上位置处设置有显示屏(2),所述显示屏(2)的下方位置处设置有控制键盘(3),所述工作箱(7)的右侧顶部偏下位置处设置有顶部散热风扇(1),所述工作箱(7)的右侧底部偏上位置处设置有底部散热风扇(5),所述工作箱(7)的底部位置处设置有脚垫(6),所述工作箱(7)包括顶部喷淋板(71)、套轴(72)、放置板(73)、右侧喷淋板(74)、底部喷淋板(75)和左侧喷淋板(76),所述顶部喷淋板...

【技术特征摘要】
1.高纯化学品容器清洗控制装置,包括工作箱(7)和门板(8),其特征在于:所述工作箱(7)的前端中间偏左位置处设置有门板(8),所述门板(8)的前端中间右侧位置处设置有门把手(4),所述门板(8)的右侧中间偏上位置处设置有显示屏(2),所述显示屏(2)的下方位置处设置有控制键盘(3),所述工作箱(7)的右侧顶部偏下位置处设置有顶部散热风扇(1),所述工作箱(7)的右侧底部偏上位置处设置有底部散热风扇(5),所述工作箱(7)的底部位置处设置有脚垫(6),所述工作箱(7)包括顶部喷淋板(71)、套轴(72)、放置板(73)、右侧喷淋板(74)、底部喷淋板(75)和左侧喷淋板(76),所述顶部喷淋板(71)的左侧下方位置处设置有左侧喷淋板(76),所述左侧喷淋板(76)的右侧下方位置处设置有底部喷淋板(75),所述底部喷淋板(75)的右侧上方位置处设置有右侧喷淋板(74),所述右侧喷淋板(74)的左侧位置处设置有套轴(72),所述套轴(72)上套接有放置板(73)。


2.根据权利要求1所述的高纯化学品容器清洗控制装置,其特征在于:所述顶部喷淋板(71)包括纵向水路管(711)、内圈水路管(712)、横向水路管(713)、外圈水路管(714)和喷头(715),所述外圈水路管(714)的中间内侧位置处设置有横向水路管(713),所述横向水路管(713)的中间位置处设置有纵向水路管(711),所述纵向水路管(711)上设置有内圈水路管(712),所述纵向水路管(711)、内圈水路管(712)、横向水路管(713)和外圈水路管(714)上均设置有喷头(715)。

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【专利技术属性】
技术研发人员:梁小朝连杰姚浩川黄德新
申请(专利权)人:合肥中聚合臣电子材料有限公司
类型:新型
国别省市:安徽;34

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