成像薄膜及电子设备壳体制造技术

本实用新型专利技术涉及光学薄膜技术领域，尤其涉及一种成像薄膜及电子设备壳体。所述成像薄膜包括本体，所述本体具有相背对的第一表面和第二表面，所述第一表面形成有聚焦层，所述第二表面形成有或所述本体嵌设有图文层；所述聚焦层和所述图文层之间的距离为2～150微米；所述图文层存在渐变，所述图文层与所述聚焦层相适配，以通过所述聚焦层形成影像，且所述影像具有渐变效果。本实用新型专利技术提供的成像薄膜的图文层存在渐变，使得形成的影像具有渐变效果，从而使成像薄膜起到渐变且具有立体的效果，用于电子设备外壳时起到美观的作用。

Imaging film and electronic equipment shell

【技术实现步骤摘要】
成像薄膜及电子设备壳体
本技术涉及光学薄膜
，尤其涉及一种成像薄膜及电子设备壳体。
技术介绍
现有的很多
要求产品的颜色或者图文呈渐变的效果，这样给人们一个视觉上的过度，在某些程度上也能起到安全的效果；例如，现有产品市场上电器的外壳、手机的外壳、或者一些电子设备上的贴膜、或者交通工具上的贴膜也需要渐变的效果。现有技术中的颜色渐变采用的技术方案有多种选择，例如：采用印刷技术印刷不同的油墨，通过调色是的颜色或者图案产生渐变；或者通过采用提拉的方式得到颜色的渐变的效果，再或者使用磁粉材料实现颜色的渐变效果。但是这些技术方案都会带来一些技术问题，采用第一种技术方案通过调色来实现的，这样使的产品的分辨率不够高，出现点纹；第二种技术方案所形成的产品在图文之间会出现不稳定以及重复性差；第三种采用磁粉实现渐变的效果成本太高，作为工业生产价格比较高。因此，目前亟待需要一种成像薄膜及电子设备壳体来解决上述问题。
技术实现思路
本技术提供了一种成像薄膜及电子设备壳体，以实现成像薄膜具有渐变的效果。本技术提供了一种成像薄膜，包括本体，所述本体具有相背对的第一表面和第二表面，所述第一表面形成有聚焦层，所述第二表面形成有或所述本体嵌设有图文层；所述聚焦层和所述图文层之间的距离为2～150微米；所述图文层存在渐变，所述图文层与所述聚焦层相适配，以通过所述聚焦层形成影像，且所述影像具有渐变效果。优选地，所述图文层具有多个微图文，每个所述微图文存在渐变和/或多个所述微图文在所述图文层中的分布存在渐变。优选地，所述微图文包括凹槽结构和/或凸起结构，所述凹槽结构和/或所述凸起结构形成所述微图文。优选地，所述凹槽结构填充有填充物，填充有填充物的所述凹槽结构形成所述微图文。优选地，所述填充物的颜色存在渐变。优选地，多个所述微图文中的所述凹槽结构在所述图文层中的占空比、凹陷深度、凹陷开口大小、分布周期和分布密度中的一种或多种存在变化设置。优选地，多个所述微图文中的所述凸起结构在所述图文层中的凸出高度、凸出面积大小、分布周期和分布密度中的一种或多种存在变化设置。优选地，所述凹槽结构的内表面和/或所述凸起结构的外表面设置有镀膜层。优选地，所述填充物的外表面和/或所述凸起结构的外表面设置有镀膜层。优选地，所述微图文通过镀膜方式形成。优选地，所述微图文包括凹槽结构，所述凹槽结构填充有填充物，所述填充物通过镀膜方式填充于所述凹槽结构中。优选地，所述微图文包括凸起结构，所述凸起结构通过镀膜方式形成。优选地，所述聚焦层和所述图文层分别采用一种或多种聚合物制成。优选地，所述本体还包括间隔层，所述聚焦层和所述图文层分别设置于所述间隔层的两侧。优选地，所述间隔层和所述聚焦层分别采用一种或多种聚合物制成，所述间隔层和所述图文层分别采用一种或多种聚合物制成。优选地，所述渐变的种类包括颜色的渐变、灰度的渐变、透过率的渐变、反射率的渐变和明暗的渐变中的一种或几种。优选地，所述聚焦层具有多个聚焦单元，所述聚焦单元与所述微图文相适配。优选地，所述聚焦单元为柱面镜、微透镜和菲涅尔透镜中的一种或几种。优选地，相邻两个所述聚焦单元之间为无间隔设置或有间隔设置。一种电子设备壳体，包括基层和粘结于所述基层上的成像薄膜，所述成像薄膜为上述的成像薄膜；所述成像薄膜还包括设置于所述聚焦层上的反射层、设置于所述反射层上的着色层和设置于所述图文层上的粘胶层；所述成像薄膜通过所述粘胶层粘结于所述基层上。有益效果：本技术提供的成像薄膜的图文层存在渐变，使得形成的影像具有渐变效果，从而使成像薄膜起到渐变且具有立体的效果，用于电子设备外壳时起到美观的作用。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本技术。附图说明图1为本技术提供的成像薄膜的一种剖面示意图；图2为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图3为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图4为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图5为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图6为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图7为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图8为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图9为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图10为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图11为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图12为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图13为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图14为本技术提供的成像薄膜的又一种剖面示意图；图15为本技术提供的电子设备壳体的剖面示意图。附图标记：1-聚焦层；11-聚焦单元；12-融合部；2-图文层；21-凹槽结构；22-填充物；23-凸起结构；24-镀膜层；3-间隔层；4-基层；5-粘胶层；6-反射层；7-着色层。此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本技术的实施例，并与说明书一起用于解释本技术的原理。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“第一”、“第二”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；除非另有规定或说明，术语“多个”是指两个或两个以上；术语“连接”、“固定”等均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接，或电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。本说明书的描述中，需要理解的是，本技术实施例所描述的“上”、“下”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本技术实施例的限定。此外，在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件连接在另一个元件“上”或者“下”时，其不仅能够直接连接在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接连接在另一个元件“上”或者“下”。如图1至图14所示，其分别为本技术提供的成像薄膜的剖面示意图。该成像薄膜包括本体，该本体具有相背对相背对的第一表面和第二表面，第一表面形成有聚焦层1，第二表面2或本体的内部形成有图文层2；聚焦层1和图文层2之间的距离为2～150微米，图文层2存在渐变本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种成像薄膜，其特征在于，包括本体，所述本体具有相背对的第一表面和第二表面，所述第一表面形成有聚焦层，所述第二表面形成有或所述本体嵌设有图文层；/n所述聚焦层和所述图文层之间的距离为2～150微米；/n所述图文层存在渐变，所述图文层与所述聚焦层相适配，以通过所述聚焦层形成影像，且所述影像具有渐变效果。/n

【技术特征摘要】
1.一种成像薄膜，其特征在于，包括本体，所述本体具有相背对的第一表面和第二表面，所述第一表面形成有聚焦层，所述第二表面形成有或所述本体嵌设有图文层；
所述聚焦层和所述图文层之间的距离为2～150微米；
所述图文层存在渐变，所述图文层与所述聚焦层相适配，以通过所述聚焦层形成影像，且所述影像具有渐变效果。


2.根据权利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述图文层具有多个微图文，每个所述微图文存在渐变和/或多个所述微图文在所述图文层中的分布存在渐变。


3.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，所述微图文包括凹槽结构和/或凸起结构，所述凹槽结构和/或所述凸起结构形成所述微图文。


4.根据权利要求3所述的成像薄膜，其特征在于，所述凹槽结构填充有填充物，填充有填充物的所述凹槽结构形成所述微图文。


5.根据权利要求4所述的成像薄膜，其特征在于，所述填充物的颜色存在渐变。


6.根据权利要求3所述的成像薄膜，其特征在于，多个所述微图文中的所述凹槽结构在所述图文层中的占空比、凹陷深度、凹陷开口大小、分布周期和分布密度中的一种或多种存在变化设置。


7.根据权利要求3所述的成像薄膜，其特征在于，多个所述微图文中的所述凸起结构在所述图文层中的凸出高度、凸出面积大小、分布周期和分布密度中的一种或多种存在变化设置。


8.根据权利要求3所述的成像薄膜，其特征在于，所述凹槽结构的内表面和/或所述凸起结构的外表面设置有镀膜层。


9.根据权利要求4所述的成像薄膜，其特征在于，所述填充物的外表面和/或所述凸起结构的外表面设置有镀膜层。


10.根据权利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，所述微图文通过镀膜方式形成。


11...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘立冬，宋忠阳，包卫英，江州，
申请(专利权)人：昇印光电昆山股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32