【技术实现步骤摘要】
硅片清洗装置
本专利技术涉及硅片制作
，具体涉及一种硅片清洗装置。
技术介绍
在硅片清洗设备慢慢提拉工艺槽中，通过慢慢提拉工艺使硅片表面的杂志脱离，提高硅片表面洁净度。然后由于硅片在水蒸气中停留时间过长，硅片表面由热水逐步进入常温状态，表面容易产生冷凝水，在烘干过过程中容易产生水纹印，进而影响外观。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是硅片清洗过程中易产生水纹的技术问题。为了解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案为：一种硅片清洗装置，包括清洗槽，其中设置清洗液，清洗槽上方设置有花篮固定装置，花篮固定装置可带动位于其中的花篮上下移动，所述花篮固定装置下方设置有罩板，所述花篮固定装置在竖直方向的投影落在罩板在竖直方向的投影范围内；所述罩板包括左半部分和右半部分，两部分均倾斜设置，且两者之间关于竖直平面对称设置。进一步的，所述清洗槽顶部两侧设置有风幕机，风幕机形成水平的帘门将清洗槽和其外部隔开。进一步的，所述清洗槽的两个侧边位于风幕机的下方设置有溢流口。进一步的，...
【技术保护点】
1.一种硅片清洗装置，包括清洗槽，其中设置清洗液，清洗槽上方设置有花篮固定装置，花篮固定装置可带动位于其中的花篮上下移动，其特征在于：所述花篮固定装置下方设置有罩板，所述花篮固定装置在竖直方向的投影落在罩板在竖直方向的投影范围内；所述罩板包括左半部分和右半部分，两部分均倾斜设置，且两者之间关于竖直平面对称设置。/n
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗装置，包括清洗槽，其中设置清洗液，清洗槽上方设置有花篮固定装置，花篮固定装置可带动位于其中的花篮上下移动，其特征在于：所述花篮固定装置下方设置有罩板，所述花篮固定装置在竖直方向的投影落在罩板在竖直方向的投影范围内；所述罩板包括左半部分和右半部分，两部分均倾斜设置，且两者之间关于竖直平面对称设置。
2.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于：所述清洗槽顶部两侧设置有风幕机，风幕机形成水平的帘门将清洗...
【专利技术属性】
技术研发人员：李世磊，姜涛，
申请(专利权)人：无锡市正罡自动化设备有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。