一种射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法技术

本发明专利技术公开了一种射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法。该方法包括以下步骤：(1)设计在不同径向尺寸上相同电池形状的掩模版；(2)在衬底基片上覆盖掩模版，在磁控溅射设备上装样，安装靶材；(3)射频磁控溅射法溅射正极集流体、正极、电解质、负极、负极集流体，制备薄膜电池；(4)对不同径向尺寸上获得的电池分别进行充放电性能测试；(5)分析获得径向性能最优的区域。采用本发明专利技术的方法通过对不同径向尺寸上获得的薄膜电池进行性能分析，可以获得具有最佳性能的径向区域。

A method of preparing high performance all solid state thin film lithium battery by RF magnetron sputtering

【技术实现步骤摘要】
一种射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法
本专利技术涉及一种射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法，属于锂离子电池

技术介绍
全固态薄膜锂电池具有高能量密度，低自放电率，高安全性、高循环寿命等优点，是锂离子电池研发的热点。射频磁控溅射法制备薄膜电池原理是基于在电场作用下Ar离子轰击靶材，靶材原子溅射沉积在衬底基片上。电池的形状与尺寸通常由覆盖在衬底基片上的掩模版控制。利用该方法在圆形衬底上沉积的原子层均匀性不一致，因而在不同区域镀覆得到的电池性能不同。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法，采用该方法通过对不同径向尺寸上获得的薄膜电池进行性能分析，可以获得具有最佳性能的径向区域。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案：一种射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法，该方法包括以下步骤：(1)设计在不同径向尺寸上相同电池形状的掩模版；(2)在衬底基片上覆盖掩模版，在磁控溅射设备上装样，安装靶材；(3)本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：/n(1)设计在不同径向尺寸上相同电池形状的掩模版；/n(2)在衬底基片上覆盖掩模版，在磁控溅射设备上装样，安装靶材；/n(3)射频磁控溅射法溅射正极集流体、正极、电解质、负极、负极集流体，制备薄膜电池；/n(4)对不同径向尺寸上获得的电池分别进行充放电性能测试；/n(5)分析获得径向性能最优的区域。/n

【技术特征摘要】
1.一种射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
(1)设计在不同径向尺寸上相同电池形状的掩模版；
(2)在衬底基片上覆盖掩模版，在磁控溅射设备上装样，安装靶材；
(3)射频磁控溅射法溅射正极集流体、正极、电解质、负极、负极集流体，制备薄膜电池；
(4)对不同径向尺寸上获得的电池分别进行充放电性能测试；
(5)分析获得径向性能最优的区域。


2.根据权利要求1所述的射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法，所述掩模版的直径为52mm，其设计方式为：在半径为r＝3.54mm，7.91mm，12.75mm，17.68mm，22.64mm的位置分别布局尺寸为Φ3(直径为3mm)的圆形电池。


3.根据权利要求1所述的射频磁控溅射法制备高性能全固态薄膜锂电池的方法，所用衬底基片的尺寸与掩模版的尺寸相同，溅射过程中衬底基片的温度为室温。


4.根据权利要求1所述的射频...

【专利技术属性】
技术研发人员：李硕，谭飞虎，梁晓平，魏峰，杜军，
申请(专利权)人：有研工程技术研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11