在显示区域具有通孔的电致发光显示器制造技术

公开了一种在显示区域具有通孔的电致发光显示装置。所述电致发光显示装置包括：显示区域，其中多个像素设置在基板上，每个像素包括显示图像的发光元件和驱动所述发光元件的驱动元件；非显示区域，在所述基板上围绕所述显示区域；通孔，设置在所述显示区域中，并且不包括所述基板、所述发光元件和所述驱动元件；围绕所述通孔的内坝；以及凹凸图案，在所述通孔和所述内坝之间围绕所述通孔。

Electroluminescent display with through hole in display area

【技术实现步骤摘要】
在显示区域具有通孔的电致发光显示器
本专利技术涉及一种在显示区域中具有通孔的电致发光显示装置。具体地，本专利技术涉及一种在显示区域中设置有相机孔或通孔的电致发光显示装置，其中在相机孔中设置有经由基板接收光的装置，穿透基板的附加装置插入通孔中。
技术介绍
显示装置中的电致发光显示装置采用自发发光系统，具有优异的视角、对比度等，并且可以减小重量和厚度，由于不需要单独的背光而在功耗方面具有优势。特别地，电致发光显示装置中的有机发光显示(OLED)装置可以用低DC电压驱动，具有高响应速度，并且具有低制造成本。电致发光显示装置包括多个电致发光二极管。电致发光二极管包括阳极电极、形成在阳极电极上的发光层、以及形成在发光层上的阴极电极。当高电位电压施加到阳极电极并且低电位电压施加到阴极电极时，阳极电极中的空穴和阴极电极中的电子移动到发光层。当空穴和电子在发光层中耦合时，在激励过程中形成激子，由于来自激子的能量而生成光。电致发光显示装置通过电控制在由堤部单独划分的多个电致发光二极管的发光层中生成的光量来显示图像。电致发光显示装置的厚度可以大大减小并且具有优异的柔性，应用于各种领域的各种产品。然而，电致发光显示装置对湿气和氧抵抗力较差。由于这个问题，为了应用于各种领域和开发为各种类型的显示装置，防止湿气和氧的外部渗透是非常重要的。
技术实现思路
本专利技术提供了一种电致发光显示装置，其中通过在显示区域中设置相机孔或通孔来使显示区域最大化，其中在相机孔中设置有经由基板接收光的附加装置，穿透基板的部件插入到通孔中。本专利技术还提供一种电致发光显示装置，其具有即使通孔设置在显示区域中也能够防止湿气渗透到发光元件中的结构，其中发光元件是围绕通孔设置的显示元件。根据本专利技术的实施方式，提供了一种电致发光显示装置，包括显示区域、非显示区域、通孔、内坝和凹凸图案。在显示区域中，多个像素设置在基板上，每个像素包括显示图像的发光元件和驱动发光元件的驱动元件。非显示区域在基板上围绕显示区域。通孔设置在显示区域中，并且不包括基板、发光元件和驱动元件。内坝围绕通孔。凹凸图案在通孔和内坝之间围绕通孔。例如，每个发光元件可以包括像素电极、发光层和公共电极。像素电极连接到相应的驱动元件。发光层整体地设置在显示区域中并堆叠在像素电极上。公共电极堆叠在发光层上。例如，凹凸图案可以包括两个凹部和一个凸部。两个凹部设置为在通孔和内坝之间暴露基板的顶表面并且彼此相邻。凸部设置在两个凹部之间。例如，凹凸图案可以包括底表面、顶表面和侧壁。底表面由凹部暴露的基板的顶表面限定。凹凸图案的顶表面限定在凸部的最上表面上。侧壁连接底表面和凹凸图案的顶表面。每个发光元件的发光层堆叠在除了侧壁之外的底表面和凹凸图案的顶表面上。例如，凹凸图案的侧壁可以包括锯齿形表面，锯齿形表面包括交替连续的突出表面和凹入表面。例如，发光层可以具有发光层在突出表面和凹入表面之间切断的结构。例如，每个发光元件可以设置在堆叠在基板上的缓冲膜、堆叠在缓冲膜上的栅极绝缘膜、堆叠在栅极绝缘膜上的中间绝缘膜、以及堆叠在中间绝缘膜上的平坦化膜上。凹凸图案可以包括底表面和侧壁。底表面是基板的顶表面，其在通孔与内坝之间通过缓冲膜、栅极绝缘膜、中间绝缘膜和平坦化膜暴露。侧壁连接底表面和平坦化膜的顶表面。发光层堆叠在平坦化膜的顶表面和除了侧壁之外的底表面上。例如，侧壁可以包括由于缓冲膜、栅极绝缘膜、中间绝缘膜和平坦化膜之间的蚀刻速率的差异而交替连续的突出表面和凹入表面。发光层可以具有发光层在突出表面和凹入表面之间的台阶部分中切断的结构。例如，电致发光显示装置还可以包括相机，相机设置为对应于通孔。例如，电致发光显示装置还可以包括缓冲膜、薄膜晶体管层、平坦化膜、像素驱动电极和堤部。缓冲膜堆叠在基板上。薄膜晶体管层设置在缓冲膜上。平坦化膜覆盖薄膜晶体管层。像素驱动电极连接到设置在薄膜晶体管层中的薄膜晶体管并设置在平坦化膜上。堤部在像素驱动电极中限定发光区域。凹凸图案可以包括两个凹部和一个凸部。两个凹部形成为通过去除堤部、平坦化膜、薄膜晶体管层和缓冲膜来暴露基板的顶表面，并且设置为彼此分开预定距离。凸部的宽度与两个凹部之间的预定距离相对应。例如，凹凸图案可以包括底表面、顶表面和侧壁。底表面由凹部所暴露的基板的顶表面限定。凹凸图案的顶表面限定在凸部的最上表面上。侧壁连接底表面和凹凸图案的顶表面。每个发光元件的发光层可以堆叠在除了侧壁之外的底表面和凹凸图案的顶表面上。例如，每个侧壁可以包括锯齿形表面，锯齿形表面通过有差别地蚀刻堤部、平坦化膜、薄膜晶体管层和缓冲膜而形成。例如，电致发光显示装置还可以包括外坝、发光层、公共电极和封装膜。外坝设置在非显示区域中并围绕显示区域。发光层在外坝与通孔、内坝和凹凸图案之间覆盖位于堤部上的像素。公共电极堆叠在发光层上。封装膜覆盖公共电极。例如，通孔可以不包括缓冲膜、薄膜晶体管层、平坦化膜、发光层、公共电极和封装膜。发光层可以从通孔的侧表面暴露。例如，封装层可以包括第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层。有机封装层设置在第一无机封装层上。第二无机封装层设置在有机封装层的顶表面上。有机封装层可以与内坝的内表面的一部分接触。通孔和内坝之间的第一无机封装层和第二无机封装层可以彼此表面接触。附图说明被包括用来提供对本专利技术的进一步理解并且并入本申请且构成本申请的一部分的附图示出了本专利技术的实施方式，并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。在附图中：图1是示出根据本专利技术在显示区域中包括通孔的电致发光显示装置的平面图。图2是示出根据本专利技术设置在电致发光显示装置的显示区域中的通孔的结构的放大平面图。图3是沿图1中的线I-I'截取的截面图，示出了根据本专利技术示例性实施方式的电致发光显示装置中设置通孔的部分的结构；图4是沿图1中的线II-II'截取的截面图，示出了根据本专利技术示例性实施方式的电致发光显示装置的一个边缘的结构；图5A是示出在本专利技术的示例中紧接在形成凹凸图案之后的凹凸图案的结构的放大截面图。图5B是示出在本专利技术的示例中在形成凹凸图案和发光元件后的凹凸图案的结构的放大截面图。图6是示出根据本专利技术另一示例性实施方式的电致发光显示装置的显示区域中设置的通孔和凹凸图案的结构的平面图；图7是示出根据本专利技术的示例性实施方式相机设置在包括通孔的电致发光显示装置中的示例的放大截面图；及图8是示出根据本专利技术的另一示例性实施方式采用包括通孔的电致发光显示装置的钟表的图。具体实施方式通过参照附图描述的以下实施方式，将阐明本专利技术的优点和特征及其实现方法。然而，本专利技术可以以不同的形式实施，并且不应被解释为限于本文阐述的实施方式。而是，提供这些实施方式是为了使本公开内容透彻和完整，并且向所属领域技术人员充分地传达本专利技术的范围。此外，本专利技术仅由权利要求书的范围限定。用于描述本专利技术的实施方式而在附图中公开的形状、尺寸、比率、角度本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电致发光显示装置，包括：/n显示区域，其中多个像素设置在基板上，每个像素包括显示图像的发光元件和驱动所述发光元件的驱动元件；/n非显示区域，在所述基板上围绕所述显示区域；/n通孔，设置在所述显示区域中，并且不包括所述基板、所述发光元件和所述驱动元件；/n围绕所述通孔的内坝；以及/n凹凸图案，在所述通孔和所述内坝之间围绕所述通孔。/n

【技术特征摘要】
20181204 KR 10-2018-01545841.一种电致发光显示装置，包括：
显示区域，其中多个像素设置在基板上，每个像素包括显示图像的发光元件和驱动所述发光元件的驱动元件；
非显示区域，在所述基板上围绕所述显示区域；
通孔，设置在所述显示区域中，并且不包括所述基板、所述发光元件和所述驱动元件；
围绕所述通孔的内坝；以及
凹凸图案，在所述通孔和所述内坝之间围绕所述通孔。


2.根据权利要求1所述的电致发光显示装置，其中，每个发光元件包括：
像素电极，连接到相应的驱动元件；
发光层，整体地设置在所述显示区域中并堆叠在所述像素电极上；以及
公共电极，堆叠在所述发光层上。


3.根据权利要求2所述的电致发光显示装置，其中，一个凹凸图案包括：
两个凹部，设置为在所述通孔和所述内坝之间暴露所述基板的顶表面并且彼此相邻；及
凸部，设置在所述两个凹部之间。


4.根据权利要求3所述的电致发光显示装置，其中，所述凹凸图案包括：
底表面，由通过所述凹部暴露的所述基板的顶表面限定；
顶表面，限定在所述凸部的最上表面上；及
侧壁，连接所述底表面和所述凹凸图案的顶表面，
其中，每个发光元件的发光层堆叠在除了所述侧壁之外的所述底表面和所述凹凸图案的顶表面上。


5.根据权利要求4所述的电致发光显示装置，其中，所述凹凸图案的侧壁包括锯齿形表面，所述锯齿形表面包括交替连续的突出表面和凹入表面。


6.根据权利要求5所述的电致发光显示装置，其中，所述发光层具有所述发光层在所述突出表面和所述凹入表面之间被切断的结构。


7.根据权利要求2所述的电致发光显示装置，其中，每个发光元件设置在堆叠在所述基板上的缓冲膜上、堆叠在所述缓冲膜上的栅极绝缘膜上、堆叠在所述栅极绝缘膜上的中间绝缘膜上、以及堆叠在所述中间绝缘膜上的平坦化膜上，
其中，所述凹凸图案包括：
作为所述基板的顶表面的底表面，在所述通孔与所述内坝之间通过所述缓冲膜、所述栅极绝缘膜、所述中间绝缘膜和所述平坦化膜暴露；及
侧壁，连接所述底表面和所述平坦化膜的顶表面，
其中，所述发光层堆叠在所述平坦化膜的顶表面和除了所述侧壁之外的所述底表面上。


8.根据权利要求7所述的电致发光显示装置，其中，所述侧壁包括通过所述缓冲膜、所述栅极绝缘膜、所述中间绝缘膜和所述平坦化膜之间的蚀刻速率的差异而交替连续的突出表面和凹入表面，
其中，所述发光层具有所述发光层在所述突出表面和所述凹入表面之间的台阶部分中被切断的结构。


9.根据权利要求1所述的电致发光显示装置，还包括相机，所述相机设置为对应于所述通孔。


10.根据权利要求1所述的电致发光显示装置，还包括：
缓冲膜，堆叠在所述基板上；
薄膜晶体管层，设置在所述缓冲膜上；
平坦化膜，覆盖所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：金可卿，安载瀚，朴贵福，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR