一种适用于液固反应的连续生产装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种适用于液‑固反应的连续生产装置，包括至少两个液相原料罐和至少一个液固原料罐，液固原料罐内设置有搅拌器，与每个液相原料罐连通的输送线路上依次设置有平流泵或隔膜泵、第一预冷器，第一预冷器的输出端与连续流反应器的入口相连，连续流反应器的出口与动态管式反应器的入口相连；与液固原料罐连通的输送线路上依次设置有蠕动泵、第二预冷器，所述第二预冷器的出口也与动态管式反应器的入口相连；动态管式反应器的出口与过滤器的输入端相连，过滤器的液相输出端连接有蒸馏装置。和反应釜搅拌反应相比，本实用新型专利技术由特定的混合结构、换热系统、耐压材质构成的生产装置具有更高的稳定性和安全性更高，能够实现如过渡金属胺基络合物合成的液固的连续高效进行，产量更大，转化率更高，具有更高的生产效率。

A continuous production device suitable for liquid-solid reaction

【技术实现步骤摘要】
一种适用于液固反应的连续生产装置
本专利技术属于半导体材料生产装置领域，尤其涉及一种适用于液固反应的连续生产装置。
技术介绍
前驱体是半导体薄膜沉积工艺的主要原材料，指的是应用于半导体生产制造工艺、携有目标元素、呈气态或易挥发液态、具备化学热稳定性、同时具备相应的反应活性或物理性能的一类物质。在包括薄膜、光刻、互连、掺杂技术等的半导体制造过程中，前驱体主要应用于气相沉积(包括物理沉积PVD、化学气相沉积CVD及原子气相沉积ALD)，以形成符合半导体制造要求的各类薄膜层。此外，前驱体也可用于半导体外延生长、蚀刻、离子注入掺杂以及清洗等，是半导体制造的核心材料之一。其中，过渡金属胺基络合物作为一类用于生成电容及栅极的代表性前驱体，是目前制备高介电常数(k)薄膜的最好选择，同时也适用于ALD工艺，具有广阔的市场潜力。然而，该类材料的原料和产物均对空气极其敏感，且反应放热量大、难以精确控制，又涉及到固-固、固-液反应，反应效率较低，原料闪点低也给安全生产带来较大压力。因此，高纯度的该类产品的制备十分困难。目前，该类材料的合成仍然以实验室本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种适用于液固反应的连续生产装置，其特征在于，包括至少两个液相原料罐和至少一个液固原料罐，液固原料罐内设置有搅拌器，与每个液相原料罐连通的输送线路上依次设置有平流泵或隔膜泵、第一预冷器，第一预冷器的输出端与连续流反应器的入口相连，连续流反应器的出口与动态管式反应器的入口相连；与液固原料罐连通的输送线路上依次设置有蠕动泵、第二预冷器，所述第二预冷器的出口也与动态管式反应器的入口相连；动态管式反应器的出口与过滤器的输入端相连，过滤器的液相输出端连接有蒸馏装置。/n

【技术特征摘要】
1.一种适用于液固反应的连续生产装置，其特征在于，包括至少两个液相原料罐和至少一个液固原料罐，液固原料罐内设置有搅拌器，与每个液相原料罐连通的输送线路上依次设置有平流泵或隔膜泵、第一预冷器，第一预冷器的输出端与连续流反应器的入口相连，连续流反应器的出口与动态管式反应器的入口相连；与液固原料罐连通的输送线路上依次设置有蠕动泵、第二预冷器，所述第二预冷器的出口也与动态管式反应器的入口相连；动态管式反应器的出口与过滤器的输入端相连，过滤器的液相输出端连接有蒸馏装置。


2.根据权利要求1所述的适用于液固反应的连续生产装置，其特征在于，所述蒸馏装置的后端设置有精馏装置。


3.根据权利要求1所述的适用于液固反应的连续生产装置，其特征在于，所述连续流反应器包括内侧中空管、外侧夹套层以及位于内侧中空管、外侧夹套层之间的两个通过对流孔相互连通的上下层叠设置的微流道，所述微流道的宽度为1～10mm，所述内侧中空管、外侧夹套层内填充有传热介质。...

【专利技术属性】
技术研发人员：高雄，张学奇，李磊，朱思坤，李建恒，
申请(专利权)人：合肥安德科铭半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽;34