一种高折射率差YAG单晶异质结构薄膜波导及其制备方法技术

技术编号:24452908 阅读:51 留言:0更新日期:2020-06-10 14:45
本发明专利技术公开了一种高折射率差YAG单晶异质结构薄膜波导及其制备方法,包括有He离子注入的YAG晶体(1)和YAG晶体衬底(2),其特征在于,在所述He离子注入的YAG晶体(1)的注入面之下依次具有SiO

A high refractive index difference YAG single crystal heterostructure thin film waveguide and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种高折射率差YAG单晶异质结构薄膜波导及其制备方法
本专利技术涉及YAG单晶薄膜
,特别涉及一种高折射率差单晶异质结构及制备方法。
技术介绍
基于晶体单晶薄膜制备新型、高集成度、高效率、低功耗的集成光电子器件,是近年国际新兴的热点研究领域。钇铝石榴石(YAG)晶体属立方晶系的特性是各向同性、并且具有优良的光学、热力学性能,其机械性能和化学稳定性与蓝宝石晶体接近,却无蓝宝石晶体的双折射效应。纯YAG晶体在0.25~5μm区域具有较高透过率,在2-3μm区域无任何吸收。同时YAG晶体优良的物化性能和光学性使其成为高温和高能物理环境中具有重要应用的光学晶体材料。稀土掺杂YAG晶体是当前及近年内最重要、应用最广泛的固态激光器工作物质。波导与周围环境之间的折射率差值越大,对光的限制作用就越强,所以具有高折射率差的薄膜材料是高密度集成光学器件的重要基础。光波导是集成光学最基本的组成结构,由一定厚度的高折射率介质及低折射率的包覆层构成。如果薄膜波导与周围环境之间的折射率差值越大,那么它对光的限制作用就越强,所以具有高折射率差的光学异质结构是高本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高折射率差YAG单晶异质结构薄膜波导,包括有He离子注入的YAG晶体(1)和YAG晶体衬底(2),其特征在于,在所述He离子注入的YAG晶体(1)的注入面之下依次具有SiO

【技术特征摘要】
1.一种高折射率差YAG单晶异质结构薄膜波导,包括有He离子注入的YAG晶体(1)和YAG晶体衬底(2),其特征在于,在所述He离子注入的YAG晶体(1)的注入面之下依次具有SiO2薄膜(3)、第一钛沉积层(41)、第一铜沉积层(51);所述衬底YAG晶体表面之上依次具有第二钛沉积层(42)、第二铜沉积层(52),所述第一铜沉积层(51)和所述第二铜沉积层(52)之间具有Cu-Sn键合层(7)。


2.一种高折射率差YAG单晶异质结构薄膜波导及其制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
步骤1、采用<111>切向YAG晶体材料(8)作为样品,通过注入过程将能量为200keV、剂量为8×1016ions/cm2的He离子注入样品的表面;
步骤2、对有He离子注入的YAG晶体进行标准RCA配方清洗后,在注入面采用等离子体增强化学气相沉积方法制备一层厚度1.6微米的...

【专利技术属性】
技术研发人员:项炳锡阮双琛柴广跃马钰洁王萌
申请(专利权)人:深圳技术大学
类型:发明
国别省市:广东;44

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