【技术实现步骤摘要】
单晶硅等径生长的控制方法、设备及存储介质
本公开涉及晶体制造
,尤其涉及单晶硅等径生长的控制方法、设备及存储介质。
技术介绍
直拉单晶硅的制造,是将多晶硅料放入石英坩埚中,加热融化形成硅溶体,然后经过调温、引晶、放肩、转肩、等径、收尾等步骤,最终制备出单晶硅棒。在单晶硅等径生长过程中,现有控制方式在整个等径生长过程中的控制力度是恒定的。但是,在等径生长前期,晶体头部的直径偏差波动较大,需要较大的控制力度;而在等径生长中后期,晶体的直径波动减小,需要较小的控制力度,因此,现有控制方式已不能满足控制需求。
技术实现思路
本公开实施例提供一种单晶硅等径生长的控制方法、设备及存储介质,能够自动调整晶体等径生长的控制力度,进而更好的控制晶体直径。所述技术方案如下:根据本公开实施例的第一方面,提供一种单晶硅等径生长的控制方法,该方法包括:获取第i个循环周期的PID初始值,PID初始值包括比例分量P的初始值、积分分量I的初始值和微分分量D的初始值,i≥1;对第i个循环周期的PID初始值进行 ...
【技术保护点】
1.一种单晶硅等径生长的控制方法,其特征在于,所述方法包括:/n获取第i个循环周期的PID初始值,所述PID初始值包括比例分量P的初始值、积分分量I的初始值和微分分量D的初始值,i≥1;/n对所述第i个循环周期的PID初始值进行修正,得到所述第i个循环周期的PID修正值,所述PID修正值包括比例分量P的修正值、积分分量I的修正值和微分分量D的修正值;/n根据所述第i个循环周期的PID修正值控制所述第i个循环周期的晶体生长直径。/n
【技术特征摘要】
1.一种单晶硅等径生长的控制方法,其特征在于,所述方法包括:
获取第i个循环周期的PID初始值,所述PID初始值包括比例分量P的初始值、积分分量I的初始值和微分分量D的初始值,i≥1;
对所述第i个循环周期的PID初始值进行修正,得到所述第i个循环周期的PID修正值,所述PID修正值包括比例分量P的修正值、积分分量I的修正值和微分分量D的修正值;
根据所述第i个循环周期的PID修正值控制所述第i个循环周期的晶体生长直径。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取第i个循环周期的PID初始值包括:
将第i-1个循环周期的PID修正值确定为所述第i个循环周期的PID初始值。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对所述第i个循环周期的PID初始值进行修正,得到所述第i个循环周期的PID修正值包括:
设置所述第i个循环周期中比例分量P的目标阈值及对应的自适应参数、所述积分分量I的目标阈值及对应的自适应参数和微分分量D的目标阈值及对应的自适应参数;
根据所述比例分量P的目标阈值及对应的自适应参数,计算得到所述比例分量P的修正值;
根据所述积分分量I的目标阈值及对应的自适应参数,计算得到所述积分分量I的修正值;
根据所述微分分量D的目标阈值及对应的自适应参数,计算得到所述微分分量D的修正值。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述设置所述第i个循环周期中比例分量P的目标阈值及对应的自适应参数包括:
获取所述第i个循环周期的直径差值,所述直径差值为所述晶体目标直径与晶体实时直径的差值;
将所述第i个循环周期直径差值的绝对值的1/100~1/2设置为所述比例分量P的目标阈值;
将所述第i个循环周期中比例分量P的初始值的1/1000~1/10000设置为所述比例分量P的第一自适应参数;
将所述第i个循环周期中比例分量P的初始值的1/10000~1/100000设置为所述比例分量P的第二自适应参数。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据所述比例分量P的目标阈值及对应的自适应参数,计算得到所述比例分量P的修正值包括:
根据所述第i个循环周期的直径差值和所述比例分量P的目标阈值及对应的自适应参数,利用第一公式计算得到所述比例分量P的修正值,所述第一公式包括:
其中,表示所述第i个循环周期中比例分量P的修正值,表示所述第i个循环周期内比例分量P的初始值,表示所述第i个循环周期的直径差值,表示所述比例分量P的第一自适应参数,表示所述比例分量P的第二自适应参数,表示所述第i个循环周期中比例分量P的目标阈值,t表示循环周期的时长。
6.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述获取所述第i个循环周期的直径差值包括:
采集所述第i个循环周期的晶体初始直径;
设置所述第i个循环周期的晶体目标直径;
根据所述第i个循环周期的晶体实时直径和所述第i个循环周期的晶体目标直径,计算得到所述第i个循环周期的直径差值。
7.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述设置所述第i个循环周期中积分分量I的目标阈值及对应的自适...
【专利技术属性】
技术研发人员:王正远,李侨,徐战军,
申请(专利权)人:隆基绿能科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:陕西;61
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