一种电解铜箔的制作方法技术

技术编号:24442565 阅读:37 留言:0更新日期:2020-06-10 12:20
本发明专利技术公开一种电解铜箔的制作方法,包括在电解槽中加入电解液,在50‑60℃条件下进行电解,电解液循环流量41‑43L/min,所述电解液中Cu

A method of making electrolytic copper foil

【技术实现步骤摘要】
一种电解铜箔的制作方法
本专利技术涉及铜箔制备
,特别是涉及一种电解铜箔的制作方法。
技术介绍
电解铜箔是电子和电气工业的重要原材料,主要用于覆铜板和印制线路板的制作。随着电子信息产品向小型化、轻量化、薄型化、多功能和高可靠方向发展,印刷电路板也向着密、薄、平的方向发展,这对电解铜箔的抗拉强度、延伸率、抗剥离强度、防氧化性等物化性能指标提出了更高要求,而且要求电解铜箔微观形貌结构更均匀精细。然而现有技术中缺乏品质优良薄铜箔的制备方法,因此本专利技术提出了一种电解铜箔的制备方法,用来解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种电解铜箔的制作方法,以解决上述现有技术存在的问题,保证铜箔厚度的同时,提高铜箔品质。为实现上述目的,本专利技术提供了如下方案:本专利技术提供一种电解铜箔的制作方法,包括如下步骤:步骤1、在电解槽中加入电解液,在50-60℃条件下进行电解,电解液循环流量41-43L/min,所述电解液中Cu2+浓度为75~85g/L,H2SO4浓度为105-110g/L,添加剂1-40mg本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电解铜箔的制作方法,其特征在于:包括如下步骤:/n步骤1、在电解槽中加入电解液,在50-60℃条件下进行电解,电解液循环流量41-43L/min,所述电解液中Cu

【技术特征摘要】
1.一种电解铜箔的制作方法,其特征在于:包括如下步骤:
步骤1、在电解槽中加入电解液,在50-60℃条件下进行电解,电解液循环流量41-43L/min,所述电解液中Cu2+浓度为78~85g/L,H2SO4浓度为105-110g/L,添加剂1-40mg·L-1;
步骤2、在电解液中放入阴极材料和阳极材料,并进行搅拌,根据所需铜箔的厚度,控制制备时间;
步骤3、在阴极上形成铜箔,取下阴极,浸泡后剥离铜箔,使用聚乙二醇、偶联剂对铜箔的表面进行处理;
步骤4、进行烘干,剪切,包装。


2.根据权利要求1所述的电解铜箔的制作方法,其特征在于:所述阴极材料为阴极辊,所述辊面粗糙度Ra<0.2μm。


3.根据权利要求1所述的电解铜箔的制作方法,其特征在于:所述阳极材料为钛基质和涂层,所述涂层是铱和钽混合物。


4.根据权利要求1所述的电解铜箔的制作方法,其特征在于:...

【专利技术属性】
技术研发人员:叶铭李永根朱恩信李奇兰谢基贤刘杰
申请(专利权)人:广东嘉元科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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