【技术实现步骤摘要】
一种干法刻蚀设备的上部电极及干法刻蚀设备
本专利技术涉及了干刻蚀装备
,特别是涉及了一种干法刻蚀设备的上部电极及干法刻蚀设备。
技术介绍
在显示
,通常通过干法刻蚀工艺对玻璃基板进行刻蚀,以制作相应的图形。干法刻蚀是一种利用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。现有技术中干法刻蚀设备包括:反应腔、位于反应腔内的上部电极和下部电极,所述下部电极用于载置待刻蚀的玻璃基板;在具体实施时,将待刻蚀的玻璃基置于下部电极上,反应腔内通入等离子气体,将反应腔密闭,为上部电极和下部电极施加电压,二者之间形成电势差,从而促使等离子体向玻璃基板运动,对玻璃基板进行刻蚀。上部电极是干法刻蚀设备的主要部件。现有技术中上部电极主要为铝基板加工很多通气孔,在铝基板表面和通气孔内进行阳极氧化形成氧化铝绝缘膜,达到绝缘阴极耐蚀效果。但本申请的专利技术人在实现本申请实施例的过程中,发现上述技术至少存在如下技术问题:上部电极上的通气孔的孔径一般在0.6-1.2mm,现在技术是消耗母材铝基板进行表面阳极处理,形成氧化铝绝缘膜。在干法刻蚀工艺过程 ...
【技术保护点】
1.一种干法刻蚀设备的上部电极,其特征在于,其包括上部电极主体和用于套合所述上部电极主体的辅助装置;所述上部电极主体包括母材,所述母材上设有多个第一通气孔;所述辅助装置包括基板,所述基板上设有与所述第一通气孔对应的第二通气孔;所述基板覆盖所述母材表面,所述第二通气孔向外延伸至所述第一通气孔内,所述基板表面及所述第二通气孔表面具有绝缘膜。/n
【技术特征摘要】
1.一种干法刻蚀设备的上部电极,其特征在于,其包括上部电极主体和用于套合所述上部电极主体的辅助装置;所述上部电极主体包括母材,所述母材上设有多个第一通气孔;所述辅助装置包括基板,所述基板上设有与所述第一通气孔对应的第二通气孔;所述基板覆盖所述母材表面,所述第二通气孔向外延伸至所述第一通气孔内,所述基板表面及所述第二通气孔表面具有绝缘膜。
2.如权利要求1所述的干法刻蚀设备的上部电极,其特征在于,所述辅助装置与所述上部电极主体可分离式设置。
3.如权利要求1所述的干法刻蚀设备的上部电极,其特征在于,所述基板与所述母材具有相同的形状。
4.如权利要求1所述的干法刻蚀设备的上部电极,其特征在于,所述辅助装置由绝缘...
【专利技术属性】
技术研发人员:王金宝,冷问竹,陈飞,李岩,
申请(专利权)人:信利仁寿高端显示科技有限公司,
类型:发明
国别省市:四川;51
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