一种厚干膜显影工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种厚干膜显影工艺，首先将干膜显影槽用去离子水清洗干净；其次向干膜显影槽中加入干膜显影剂；接着将待显影的基片可拆卸地与支撑框连接；然后将支撑框连同基片送入显影槽内的传送滚轮，喷淋浸泡；最后显影结束之后，取出已显影的基片，清洗干净，并吹干。本发明专利技术的有益效果：采用上述工艺经过多批次验证，该工艺使得厚干膜显影工艺的良品率起到很大的改善，显影后干膜倒塌不良率降低15％。

A thick dry film developing process

【技术实现步骤摘要】
一种厚干膜显影工艺
本申请属于触摸屏制造领域，具体地说，涉及一种干膜显影工艺。
技术介绍
随着科技的发展，触摸屏被广泛应用于生产生活中，触摸屏常用的线路生产工艺无法生产高铜厚细间距的产品，故选择性镀铜工艺应运而生，但选镀工艺需要用到抗镀型厚干膜，干膜材料质脆易倒塌，所以厚干膜的显影是此技术难点，如何保证厚干膜不破裂和倒塌等是此技术成功的关键指标之一。
技术实现思路
有鉴于此，本申请所要解决的技术问题是提供了一种厚干膜显影工艺，有效地解决了厚干膜易倒塌的问题，提升产品良品率。为了解决上述技术问题，本申请公开了一种厚干膜显影工艺，包括以下步骤：S1：将干膜显影槽用去离子水清洗干净；S2：向干膜显影槽中加入干膜显影剂；S3：将待显影的基片可拆卸地与支撑框连接；S4：将支撑框连同基片送入显影槽内的传送滚轮，喷淋浸泡；S5：显影结束之后，取出已显影的基片，清洗干净，并吹干。更佳的：S3中，所述基片与支撑框通过耐高温胶带连接。更佳的：S3中，用支撑网代替所述支撑框，所述支撑本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种厚干膜显影工艺，其特征在于：包括以下步骤：/nS1：将干膜显影槽用去离子水清洗干净；/nS2：向干膜显影槽中加入干膜显影剂；/nS3：将待显影的基片可拆卸地与支撑框连接；/nS4：将支撑框连同基片送入显影槽内的传送滚轮，喷淋浸泡；/nS5：显影结束之后，取出已显影的基片，清洗干净，并吹干。/n

【技术特征摘要】
1.一种厚干膜显影工艺，其特征在于：包括以下步骤：
S1：将干膜显影槽用去离子水清洗干净；
S2：向干膜显影槽中加入干膜显影剂；
S3：将待显影的基片可拆卸地与支撑框连接；
S4：将支撑框连同基片送入显影槽内的传送滚轮，喷淋浸泡；
S5：显影结束之后，取出已显影的基片，清洗干净，并吹干。


2.根据权利要求1所述的厚干膜显影工艺，其特征在于：S3中，所述基片与支撑框通过耐高温胶带连接。


3.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾再兴，陈世彦，于德强，
申请(专利权)人：江西一诺新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36