透明显示装置及其制作方法制造方法及图纸

技术编号:24407929 阅读:27 留言:0更新日期:2020-06-06 07:54
本发明专利技术涉及一种透明显示装置,包括:准直光源组件,用于形成准直光,并控制出光方向、使得入射至导光板内的光线以全反射的方式传输;第一取光层,使得导光板内部传输的光线从光取出口准直取出;消光层和第二取光层,消光层包括间隔设置的导光区和吸光区,第二取光层包括多个光取入口,使得从光取入口进入的光线入射至导光区、并在导光区内以全反射的方式传输至吸光区;反射层,设置于第二取光层靠近导光板的一侧,反射从光取出口取出的准直光至导光板;液晶调光层,第一状态下,从光取出口出射的光线经液晶层发生偏转、入射至反射层;第二状态下,从光取出口出射的光线经液晶层、从光取入口进入消光层。本发明专利技术还涉及一种透明显示装置的制作方法。

Transparent display device and its making method

【技术实现步骤摘要】
透明显示装置及其制作方法
本专利技术涉及显示产品制作
,尤其涉及一种透明显示装置及其制作方法。
技术介绍
近几年,越来越多的厂商致力于研发透明显示产品,透明显示设备轻薄、易于携带,还能支持3D显示技术,并且耗能低,有利于环保节能。除此之外,它最大的优势就是借助透明屏幕,我们将可以穿过屏幕,“抓住”屏幕里面的东西,从而带来一种全新的人机交互体验。D-view显示技术:采用透明的导光板,通过纳米压印,形成取光口,再利用液晶棱镜实现光的打散。在显示设计中预留出显示区与非显示区,非显示区引入环境光,从而实现透明显示。为了提高显示的对比度以及器件光效,将D-View显示技术进行改善,通过反射斜面将出光口的准直光反射至下基板射出,与上述技术不同的是本技术出光特性为反射准直光,器件光效更高,对比度更高。但BM(遮光)材料并非完全把L0条件下的入射光吸收,而是存在5%的反射,也就是说在暗态下依然存在BM材料反射引起的漏光,最终降低显示器的对比度。同时,暗态条件的折射光与亮态条件下的入射光的照射范围有重叠,最终导致暗态下折射光有一小部分光会照射到反本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透明显示装置,包括相对设置的导光板和阵列基板,导光板和阵列基板之间设置有液晶调光层,其特征在于,还包括:/n设置于所述导光板的入光面的准直光源组件,用于形成准直光,并控制出光方向、以使得入射至所述导光板内的光线以全反射的方式传输;/n第一取光层,设置于所述导光板的、与入光面相邻的第一面上,所述第一取光层上具有多个光取出口,用于使得所述导光板内部传输的光线从所述光取出口准直的取出;/n沿着靠近所述导光板的方向、依次叠置于所述阵列基板面向所述导光板的第一面的一面上的消光层和第二取光层,所述消光层包括间隔设置的导光区和吸光区,所述第二取光层包括多个光取入口,所述光取入口在所述消光层上的正投影...

【技术特征摘要】
1.一种透明显示装置,包括相对设置的导光板和阵列基板,导光板和阵列基板之间设置有液晶调光层,其特征在于,还包括:
设置于所述导光板的入光面的准直光源组件,用于形成准直光,并控制出光方向、以使得入射至所述导光板内的光线以全反射的方式传输;
第一取光层,设置于所述导光板的、与入光面相邻的第一面上,所述第一取光层上具有多个光取出口,用于使得所述导光板内部传输的光线从所述光取出口准直的取出;
沿着靠近所述导光板的方向、依次叠置于所述阵列基板面向所述导光板的第一面的一面上的消光层和第二取光层,所述消光层包括间隔设置的导光区和吸光区,所述第二取光层包括多个光取入口,所述光取入口在所述消光层上的正投影位于所述导光区内、以使得从所述光取入口进入的光线入射至所述导光区、并在所述导光区内以全反射的方式传输至所述吸光区;
反射层,设置于所述第二取光层靠近所述导光板的一侧,包括位于相邻两个所述光取入口之间的多个反射部,用于反射从所述光取出口取出的准直光至所述导光板、并从所述导光板的第二面出射,所述第二面与所述第一面相对设置;
所述液晶调光层包括相对设置的第一电极、第二电极以及设置于第一电极和第二电极之间的液晶层,在第一状态下,对所述第一电极和所述第二电极施加电压,从所述光取出口出射的光线经所述液晶层后发生偏转、入射至所述反射层;在第二状态下,未对所述第一电极和所述第二电极施加电压,从所述光取出口出射的光线经所述液晶层后、从所述光取入口进入所述消光层。


2.根据权利要求1所述的透明显示装置,其特征在于,每个所述反射部面向所述导光板的反射面为斜面,该斜面与所述导光板的第一面之间的夹角为锐角。


3.根据权利要求2所述的透明显示装置,其特征在于,每个所述反射部包括:
由光刻胶形成的楔形连接件,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:董立文张锋刘文渠吕志军崔钊孟德天王利波宋晓欣
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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