【技术实现步骤摘要】
一种定光学深度的时变浑浊场模拟装置
本专利技术涉及光学研究领域，特别涉及一种定光学深度的时变浑浊场模拟装置。
技术介绍
激光诊断近年来在诸如流场分析、皮肤组织诊断等方面应用甚广。其中，激光经过某一介质后出射光或反射光的角度分布，因其能够准确描述场内粒子粒径与分布，而受到广泛关注。许多研究者构建相关算法来模拟光在介质中的散射过程，并通过出射角分布来反推场的性质。到现在为止，有关光子经过某一介质时发生散射的相关算法及实验光路的搭建已经得到了充分的研究，但其准确性只能通过计算机模拟得以验证，缺乏实验支持。想要通过实验验证算法准确性，进而将算法应用于实际，就必须构建一种已知光学性质的介质场，令激光透射该场，得到其角度分布，与算法模拟结果进行比对。专利US2018239946A1提出了平板薄层介质的激光诊断方法，但其并没有对已知性质介质进行检测，其准确性无法被证明。文章Determinationofparticlesizebyusingtheangulardistributionofbackscatteredlightasmeasur...
【技术保护点】
1.一种定光学深度的时变浑浊场模拟装置，其特征在于，包括容器、液体环境、散射介质；所述液体环境和所述散射介质放置在所述容器中；所述散射介质的材料为亲水氧化铝颗粒或二氧化硅颗粒，所述容器的材料为聚甲基丙烯酸甲酯或石英玻璃，所述液体环境的材料为水。/n
【技术特征摘要】
1.一种定光学深度的时变浑浊场模拟装置，其特征在于，包括容器、液体环境、散射介质；所述液体环境和所述散射介质放置在所述容器中；所述散射介质的材料为亲水氧化铝颗粒或二氧化硅颗粒，所述容器的材料为聚甲基丙烯酸甲酯或石英玻璃，所述液体环境的材料为水。
2.如权利要求1所述的定光学深度的时变浑浊场模拟装置，其特征在于，所述亲水氧化铝颗粒的粒径在1微米到数10微米之间。
3.如权利要求1所述的定光学深度的时变浑浊场模拟装置，其特征在于，不同尺寸的所述亲水氧化铝颗粒或二氧化硅颗粒的组合，所调配出的所述散射介质有不同的光学性质。
4.如权利要求1所述的定光学深度的时变浑浊场模拟置，其特征在于，所述亲水氧化铝颗粒的密度为3.9g/cm3。
5.如权利要求1所述的定光学深度的时变浑浊场模拟装置，其特征在于，所述亲水氧化铝颗粒的折射率为1.765。
6.如权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：李雪松，许敏，王上宁，杨尚泽，肖迪，袁志远，徐宏昌，王森，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：上海;31
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