一种示踪粒子发生器制造技术

技术编号:24405554 阅读:72 留言:0更新日期:2020-06-06 06:59
本发明专利技术属于流场显示技术领域,公开了一种示踪粒子发生器。该示踪粒子发生器包括支撑组件;粒子收集器,与支撑组件连接;外筒,包括具有容纳腔的外层筒体,外层筒体的上端密封,下端连接粒子收集器;内筒,设置在容纳腔中并与外层筒体固连,内筒包括内层筒体,内层筒体中设有过滤器,过滤器上铺设示踪粒子,过滤器将内层筒体的内腔分隔成上下设置的混合腔和高压腔,内层筒体上连接有进气管,进气管连通高压腔和外部高压气源;内层筒体的筒壁上部沿周向开设有多个切向通孔,切向通孔能使进入容纳腔的气‑固混合物具有切向速度;排气管,设置在外筒的顶部,排气管连通容纳腔和流场试验段。提高了进入流场试验段的示踪粒子的大小均匀性和气流跟随性。

A tracer particle generator

【技术实现步骤摘要】
一种示踪粒子发生器
本专利技术涉及流场显示
,尤其涉及一种示踪粒子发生器。
技术介绍
激光多普勒测速技术(LDV)和粒子图像测速技术(PIV)是目前应用较为广泛的非接触式流场光学诊断技术,能够实现非接触、瞬时流场的速度测量。PIV与LDV测量流场,都需要在流场中播撒示踪粒子,通过捕捉示踪粒子的散射光,确定示踪粒子的运动状态,从而获得流场的流动状态。上述两种非接触式流场测量方法,对示踪粒子的要求较为严苛,粒径较大的示踪粒子会直接破坏原有的流场结构,从而影响测量结构的精确程度;与此同时,流场中示踪粒子的粒径不均匀会使PIV实验的图像采集结果变差,影响实验结果。常用的示踪粒子一般在1μm-5μm之间,使用过程中对流场结构影响较小,可以忽略不计。但在实际的使用过程中,受环境等因素的影响,一部分示踪粒子会聚集成较大的颗粒,如果将这些粒子直接播撒进试验段,将对试验结果产生较大影响。市场中常见的示踪粒子发生器利用高速气流直接吹动容器中示踪粒子层的表面,利用气流将示踪粒子带入流场试验段,很难保证示踪粒子的粒径均匀性及气流跟随性,最终影响试验测试的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种示踪粒子发生器,其特征在于,包括:/n支撑组件(1);/n粒子收集器(2),所述粒子收集器(2)的一端与所述支撑组件(1)连接;/n外筒(3),包括具有两端开口的容纳腔的外层筒体(31),所述外层筒体(31)的上端密封,下端连接所述粒子收集器(2)的另一端;/n内筒(4),设置在所述容纳腔中并与所述外层筒体(31)固连,所述内筒(4)包括内层筒体(41),所述内层筒体(41)两端密封,所述内层筒体(41)中设置有过滤器(42),所述过滤器(42)上铺设有示踪粒子(100),所述过滤器(42)将所述内层筒体(41)的内腔分隔成上下设置的混合腔和高压腔,所述内层筒体(41)上连接有进气管(...

【技术特征摘要】
1.一种示踪粒子发生器,其特征在于,包括:
支撑组件(1);
粒子收集器(2),所述粒子收集器(2)的一端与所述支撑组件(1)连接;
外筒(3),包括具有两端开口的容纳腔的外层筒体(31),所述外层筒体(31)的上端密封,下端连接所述粒子收集器(2)的另一端;
内筒(4),设置在所述容纳腔中并与所述外层筒体(31)固连,所述内筒(4)包括内层筒体(41),所述内层筒体(41)两端密封,所述内层筒体(41)中设置有过滤器(42),所述过滤器(42)上铺设有示踪粒子(100),所述过滤器(42)将所述内层筒体(41)的内腔分隔成上下设置的混合腔和高压腔,所述内层筒体(41)上连接有进气管(5),所述进气管(5)的一端连通于所述高压腔,另一端连通至外部高压气源;所述内层筒体(41)于所述混合腔的腔壁上部沿周向开设有多个切向通孔(43),所述切向通孔(43)被配置为能使从所述混合腔进入所述容纳腔的气-固混合物具有切向速度;
排气管(6),设置在所述外筒(3)的顶部,且所述排气管(6)的一端与所述容纳腔连通,另一端连通于流场试验段。


2.根据权利要求1所述的示踪粒子发生器,其特征在于,所述外筒(3)还包括第一密封法兰(32)和第二密封法兰(33),所述第一密封法兰(32)密封盖设在所述外层筒体(31)的顶端,所述排气管(6)连接在所述第一密封法兰(32)上,所述第二密封法兰(33)连接在所述外层筒体(31)的侧壁上,所述第一密封法兰(32)和所述第二密封法兰(33)密封连接。


3.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员:甘晓华王泽周波王波任光明
申请(专利权)人:南方科技大学
类型:发明
国别省市:广东;44

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