【技术实现步骤摘要】
一种物体形状测量系统、方法和存储介质
本专利技术涉及测量
，尤其是一种物体形状测量系统、方法和存储介质。
技术介绍
白光干涉测量法(WLI)是一种用于精确测量物体形状的方法。图1所示是白光干涉测量法所使用的装置及其原理，主要包括光源、分束器件、参考镜和成像器件，形成一个类似于迈克尔干涉仪的结构，但比常规的迈克尔干涉仪少了一面镜子，而将被测物体放置在这面少了的镜子所在的位置。分束器件可以将光源发射过来的光线分为两束，一束通向参考镜并反射回来，另一束通向被测物体的表面并反射回来，这些光线将发生干涉现象，由成像器件拍摄到相应的干涉图像。其中，被测物体与分束器件之间将存在一个参考平面，其位置与参考镜与分束器件之间的相对位置有关，当被测物体的表面位于这一参考平面上时，干涉现象将达到最明显的状态。如果被测物体表面是凹凸不平的，那么被测物体相对分束器件运动时，被测物体的表面将能影响干涉图像，因此通过成像器件拍摄被测物体做相对运动过程中所形成的一系列干涉图像，并对干涉图像进行分析，可以获得被测物体表面的竖直方向坐标信息，从而测得被测物...
【技术保护点】
1.一种物体形状测量系统，其特征在于，包括：/n第一干涉装置，用于提供具有可变周期光谱的光源；/n第二干涉装置，用于接收所述第一干涉装置所提供的光源，使得光源产生干涉作用，从而形成主参考平面和次参考平面，所述次参考平面分布在所述主参考平面两侧，对所述主参考平面或次参考平面所在位置获得成像。/n
【技术特征摘要】
1.一种物体形状测量系统，其特征在于，包括：
第一干涉装置，用于提供具有可变周期光谱的光源；
第二干涉装置，用于接收所述第一干涉装置所提供的光源，使得光源产生干涉作用，从而形成主参考平面和次参考平面，所述次参考平面分布在所述主参考平面两侧，对所述主参考平面或次参考平面所在位置获得成像。
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一干涉装置和第二干涉装置当中至少一个是不平衡的。
3.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，还包括：
控制器，用于控制所述第一干涉装置所提供光源的光谱周期，和/或控制所述第二干涉装置进行成像。
4.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，所述第一干涉装置包括：
发光器件，用于发出光线；
光耦合器，具有第一接口、第二接口、第三接口和第四接口，其中所述第一接口和第二接口位于同一侧，所述第三接口和第四接口位于同一侧；
第一光导器件，连接所述发光器件与所述光耦合器的第一接口；
第二光导器件，一端连接于所述光耦合器的第二接口，另一端用于发射光线；
第三光导器件，一端连接于所述光耦合器的第三接口，另一端连接于反射器；
第四光导器件，安装有扩展器，一端连接于所述光耦合器的第四接口，另一端连接于反射器；所述扩展器用于调整所述第四光导器件的长度。
5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述第二干涉装置包括：
分束器件，用于接收所述第二光导器件发射的光线并进行分束，形成第一光束和第二光束；
参考镜，用于对所述第一光束进行原路反射，使得所述第二光束的光路上形成多个啁啾信号；...
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