用于制造光学玻璃元件的成型模具和光学玻璃元件制造技术

技术编号:24399856 阅读:44 留言:0更新日期:2020-06-06 04:56
本发明专利技术涉及玻璃模造技术领域,提供了一种用于制造光学玻璃元件的成型模具和光学玻璃元件。所述模具包括基板和位于所述基板表面的镀层,所述镀层包括自所述基板表面依次层叠的过渡层和功能层;所述过渡层为包括碳化物或氮化物的陶瓷过渡层,所述功能层为包括Mo、Re、Ir和Rh组成或者包括Mo、Re、Ir和Ru组成的贵金属合金功能层。同时,本发明专利技术还提供一种光学玻璃元件。本发明专利技术通过模具的过渡层和功能层的模具表面镀层,在高折射率光学玻璃元件模造过程中提升了抗粘膜性能,过渡层的引入显著增加镀层结合力,提高了模具使用寿命。

Forming mould and optical glass element for manufacturing optical glass element

【技术实现步骤摘要】
用于制造光学玻璃元件的成型模具和光学玻璃元件
本专利技术涉及玻璃模造
,尤其涉及一种用于制造光学玻璃元件的成型和光学玻璃元件。
技术介绍
目前高折射率光学玻璃元件(折射率nd大于1.8的铅(Plumbum,Pb)系、铋(Bismuth,Bi)系等)模造过程中容易发生粘膜、镀层脱落等现象,造成模具使用寿命较短。现有专利大多针对低折射率玻璃模造开发镀层,且主要以类金刚石薄膜或铂(Platinum,Pt)Pt-Ir,Re-Ir等二元组分为主。缺少针对高折射率光学玻璃元件模造开发的镀层。针对低折射率光学玻璃元件模造开发的镀层应用于高折射率光学玻璃元件(折射率nd大于1.8的Pb系、Bi系等)模造过程中极易发生粘膜失效,不适用于高折射光学玻璃元件模造。而现有技术中针对高折射光学玻璃元件模造开发的四元镀层为单一的功能层而无过渡层,由于基底材料与镀层材料的界面特性差异较大,在反复模造过程中易脱落失效,寿命较短;而且镀层材料中含有Pt,容易与Pb和Bi发生反应造成粘膜失效。
技术实现思路
本专利技术提供一种用于制造光学玻璃元件的成型模具和光学玻璃元件,所述模具包括基板和位于所述基板表面的镀层,其中,所述镀层在高折射率光学玻璃元件(折射率nd大于1.8的Pb系、Bi系等)模造过程中抗粘膜性能优异,过渡层的引入显著增加镀层结合力,提高了模具使用寿命。本专利技术提供一种用于制造光学玻璃元件的成型模具,所述模具包括基板和位于所述基板表面的镀层,所述镀层包括自所述基板表面依次层叠的过渡层和功能层;所述过渡层为包括碳化物或氮化物的陶瓷过渡层,所述功能层为包括钼(Molybdenum,Mo)、铼(Rhenium,Re)、铱(Iridium,Ir)和铑(Rhodium,Rh)组成或者包括Mo、Re、Ir和钌(Ruthenium,Ru)组成的贵金属合金功能层。优选地,所述过渡层为包括WC或CrN的陶瓷过渡层。优选地,所述过渡层厚度为30nm-200nm。优选地,所述过渡层为包括碳化钨的陶瓷过渡层且厚度为70nm-100nm。优选地,所述过渡层为包括氮化铬的陶瓷过渡层且厚度为100nm-200nm。优选地,所述功能层包括10-50at%的Mo、5-50at%的Re、10-50at%的Ir以及10-50at%的Ru或Rh。优选地,所述功能层厚度为200nm-1000nm。此外,本专利技术还提供一种光学玻璃元件,其采用上述的模具模塑。与现有技术相比,通过模具的过渡层和功能层的模具表面镀层,在高折射率光学玻璃元件模造过程中提升了抗粘膜性能,过渡层的引入显著增加镀层结合力,提高了模具使用寿命。附图说明图1为本专利技术实施例一提供的模具表面镀层的结构示意图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。请参照图1所示,本专利技术提供一种用于制造光学玻璃元件的成型模具,所述模具包括基板和位于所述基板表面的镀层,所述镀层包括自所述基板表面依次层叠的过渡层和功能层;所述模具1表面依次附着过渡层2和功能层3;所述过渡层2为包括碳化物或氮化物的陶瓷过渡层;所述功能层3为包括Mo、Re、Ir和Rh组成或者包括Mo、Re、Ir和Ru组成的贵金属合金功能层。具体地,所述过渡层2为包括WC或CrN的陶瓷过渡层;所述过渡层2厚度a为30nm-200nm。优选的,所述过渡层2为包括碳化钨的陶瓷过渡层且厚度为70nm-100nm,所述过渡层2为包括氮化铬的陶瓷过渡层且厚度为100nm-200nm。具体地,所述功能层3包括10-50at%的Mo、5-50at%的Re、10-50at%的Ir以及10-50at%的Ru或Rh。所述功能层厚度为200nm-1000nm。请参见表1和表2,为具体一实施例中所完成的分析测试数据:表1:表2:其中,成分/at%表示该成分所占的原子百分数。其中,SF57玻璃为型号为SF57的高折射率玻璃,其折射率nd为1.84666。其中,表1中过渡层成分为WC时的测试数据,表2中过渡层成分为CrN时的测试数据。通过表1和表2的数据可以看出,简单地包括含有Re和/或Ir,或者Pt和/或Ir,或者含有Pt的多元合金镀层在模压过程中均表现较差;在功能层组分20at%Mo、10at%Re、30at%Ir和40at%Rh的情况下,WC过渡层厚度分别为30nm、50nm、70nm、100nm、150nm和200nm的测试数据中均表现优异,在WC过渡层厚度为70nm情况下,在下述完整包含功能层组分的情况下表现优异:所述功能层包括0-50at%的Mo、0-50at%的Re、10-50at%的Ir以及10-50at%的Ru或Rh。在功能层组分20at%Mo、10at%Re、30at%Ir和40at%Rh并且厚度分别为200nm、300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm和1000nm的情况下,CrN厚度分别为100nm、120nm、140nm、160nm、180nm和200nm的测试数据中均表现优异,在CrN厚度在100nm-200nm的情况下,在下述完整包含功能层组分的情况下表现优异:所述功能层包括0-50at%的Mo、0-50at%的Re、10-50at%的Ir以及10-50at%的Ru或Rh。此外,本专利技术还提供一种光学玻璃元件,其采用上述的模具模塑。与现有技术相比,本专利技术提供的用于制造光学玻璃元件的成型模具具有依次层叠于基板表面的过渡层和功能层作为镀层,镀层材料不含Pt,有效的解决了现有技术中镀层易与高折射率光学玻璃中的Pb和Bi发生反应造成粘膜的问题;过渡层的引入显著增加镀层与模具基板表面的结合力,有效防止了镀层脱落失效,提高了模具的使用寿命。由上述测试数据可知,本专利技术提供的四元镀层MoIrReRh或MoIrReRu在模压SF57玻璃500次后依然能保持完好不脱落,具有较高的抗脱落性能和抗粘膜性能,具有该镀层的模具具有较长的使用寿命。以上所述的仅是本专利技术的实施方式,在此应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术创造构思的前提下,还可以做出改进,但这些均属于本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于制造光学玻璃元件的成型模具,所述模具包括基板和位于所述基板表面的镀层,其特征在于,所述镀层包括自所述基板表面依次层叠的过渡层和功能层;所述过渡层为包括碳化物或氮化物的陶瓷过渡层,所述功能层为包括钼(Molybdenum,Mo)、铼(Rhenium,Re)、铱(Iridium,Ir)和铑(Rhodium,Rh)组成或者包括Mo、Re、Ir和钌(Ruthenium,Ru)组成的贵金属合金功能层。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于制造光学玻璃元件的成型模具,所述模具包括基板和位于所述基板表面的镀层,其特征在于,所述镀层包括自所述基板表面依次层叠的过渡层和功能层;所述过渡层为包括碳化物或氮化物的陶瓷过渡层,所述功能层为包括钼(Molybdenum,Mo)、铼(Rhenium,Re)、铱(Iridium,Ir)和铑(Rhodium,Rh)组成或者包括Mo、Re、Ir和钌(Ruthenium,Ru)组成的贵金属合金功能层。


2.根据权利要求1所述的模具,其特征在于,所述过渡层为包括碳化钨(WolframCarbon,WC)或氮化铬(ChromiumNitrogen,CrN)的陶瓷过渡层。


3.根据权利要求1或2所述的模具,其特征在于,所述过渡层...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘浩张树参蔡保贤
申请(专利权)人:瑞声通讯科技常州有限公司
类型:发明
国别省市:江苏;32

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