【技术实现步骤摘要】
一种石墨舟套管和石墨舟
本技术属于太阳能电池制造设备辅助配件
，具体涉及一种用于管式PECVD的石墨舟套管和石墨舟。
技术介绍
PECVD（PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition）即等离子体增强化学气相沉积法，是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片表面上沉积出所期望的薄膜，成膜质量好。目前，在工业化的晶体硅电池制备过程中，多使用PECVD的方式在基片表面沉积不同特性的薄膜，例如，常见的氮化硅薄膜、氮氧化硅薄膜等。在工业化管式PECVD镀膜工艺中，通常将具有较好的绝缘性和较高的介电强度的陶瓷套管套设在石墨舟的陶瓷杆上，置于相邻舟片之间，并与舟片紧密接触。相邻舟片之间通过陶瓷套管实现物理支撑和电学隔离，并形成电场。随着电池工艺和技术的不断发展，PECVD被应用在制备其它高效太阳能电池中，例如，隧穿氧化层钝化接触电池（Topcon），非晶硅异质结电池（HIT），此时，PECVD需要用于其它薄膜材料的积淀过程中...
【技术保护点】
1.一种石墨舟套管，其特征在于，包括具有一沿轴向方向贯通的圆柱形腔体的套管本体；所述套管本体的管壁外周上具有至少一圈槽状结构，所述槽状结构被构造为包括开设于管壁外表面的窄槽以及开设于管壁内的宽槽；所述窄槽与外部连通，所述宽槽与窄槽连通，以在管壁外周形成至少一圈用于遮挡宽槽部分槽壁处薄膜沉积的悬挂壁结构。/n
【技术特征摘要】
1.一种石墨舟套管，其特征在于，包括具有一沿轴向方向贯通的圆柱形腔体的套管本体；所述套管本体的管壁外周上具有至少一圈槽状结构，所述槽状结构被构造为包括开设于管壁外表面的窄槽以及开设于管壁内的宽槽；所述窄槽与外部连通，所述宽槽与窄槽连通，以在管壁外周形成至少一圈用于遮挡宽槽部分槽壁处薄膜沉积的悬挂壁结构。
2.如权利要求1所述的石墨舟套管，其特征在于，所述槽状结构为位于套管本体两端之间任意位置的内部槽；所述内部槽被构造为单侧槽或双侧槽；所述单侧槽中，窄槽位于宽槽的一侧；所述双侧槽中，窄槽位于宽槽两侧壁之间。
3.如权利要求2所述的石墨舟套管，其特征在于，所述双侧槽中，窄槽位于宽槽的中间位置。
4.如权利要求2所述的石墨舟套管，其特征在于，所述套管本体为陶瓷材质的中空圆柱体结构；所述套管本体的长度为L，管壁厚度为D；所述悬挂壁结构中最长的长度为S，所述窄槽的宽度为w1，所述宽槽的深度为h2；所述单侧槽中，1/3L≤S＜2/3L，1/6S≤w1≤1/3S，h2≤1/2D；所述双侧槽中，1/4L≤S≤1/2L，1/6S≤w1≤1/2S，h2≤1/2D。
5.如权利要求1所述的石墨舟套管，其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员：绪欣，许佳平，张胜军，黄思，沈梦超，张梦葛，曹育红，黄海冰，
申请(专利权)人：常州时创能源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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