一种抛光垫及其制备方法技术

本发明专利技术属于抛光工具加工技术领域，具体涉及一种抛光垫及其制备方法。本发明专利技术的抛光垫的磨料层由以下质量百分比的组分组成：聚集体磨料10‑22％、偶联剂1‑5％、树脂结合剂45‑65％、碳酸钙10‑20％、氧化铈10‑20％、气相二氧化硅1‑5％、碳酸氢钠1‑5％、细丝纤维1‑3％。本发明专利技术的抛光垫磨料层中，碳酸氢钠作为成孔剂可以在固化过程中分解，产生微小气孔，有利于抛光垫抛光时进行排屑，有利于抛光效率的稳定，氧化铈、碳酸钙、气相二氧化硅、纳米氧化铝等作为填充材料能够保证工作层的强度，并且，氧化铈用作辅助磨料，气相二氧化硅能够防沉降使浆料成分均匀，细丝纤维在磨料层成型时起到骨架支撑的作用。

A polishing pad and its preparation method

【技术实现步骤摘要】
一种抛光垫及其制备方法
本专利技术属于抛光工具加工
，具体涉及一种抛光垫及其制备方法。
技术介绍
目前用于磨光、研磨或抛光的磨料可以是游离磨料，例如浆料的形式，也可以是固结磨料，例如涂覆的磨料或粘结的磨料制品。综合考虑去除速率和加工品质，由单相磨料加工而成的复合磨料(也称为聚集体磨料)越来越受欢迎，广泛用于金属加工制造、光学玻璃加工等领域。申请公布号为CN103608424A的中国专利技术专利申请公开一种包含聚集体磨料的磨料制品，可制备研磨带以用于对工件进行加工，聚集体磨料制备时使用的粘结料为玻璃粘结料，容易对工件表面造成损伤，不适宜用于对加工精度要求高的工件进行加工；申请公布号为CN110216597A的中国专利技术专利申请公开一种复合磨粒结构的树脂抛光块，包括含复合磨粒结构的磨块、弹性基体和夹具，磨块按质量百分比计包括复合磨粒8-20％、树脂结合剂50-70％、功能添加剂10-18％以及成孔剂5-15％，其中树脂结合剂为改性酚醛树脂，功能添加剂为石墨粉、滑石粉、冰晶石粉、碳酸钙、硬脂酸钠和硬脂酸锌中的至少一种，成孔剂为食盐、硫本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光垫，其特征在于，所述抛光垫的磨料层由以下质量百分比的原料固结而成：聚集体磨料10-22％、偶联剂1-5％、树脂结合剂45-65％、碳酸钙10-20％、氧化铈10-20％、气相二氧化硅1-5％、碳酸氢钠1-5％、细丝纤维1-3％。/n

【技术特征摘要】
1.一种抛光垫，其特征在于，所述抛光垫的磨料层由以下质量百分比的原料固结而成：聚集体磨料10-22％、偶联剂1-5％、树脂结合剂45-65％、碳酸钙10-20％、氧化铈10-20％、气相二氧化硅1-5％、碳酸氢钠1-5％、细丝纤维1-3％。


2.根据权利要求1所述的抛光垫，其特征在于，聚集体磨料由纳米磨粒聚集而成，粒径为1-3μm。


3.根据权利要求2所述的抛光垫，其特征在于，所述聚集体磨料的制备方法包括如下步骤：
1)将纳米磨粒、表面活性剂、硅溶胶混合均匀，得混合液；
2)将步骤1)所得的混合液与缚水剂搅拌，分离出聚集体磨料前驱体；
3)将步骤2)所得的聚集体磨料前驱体在450-750℃烧结1-3h；
其中，步骤1)中所述硅溶胶的固含量为35-55％。


4.根据权利要求1-3中任一项所述的抛光垫，其特征在于，所述抛光垫包括弹性基底以及设置在所述弹性基底上的过渡层，所述磨料层复合在无纺布基材上形成工作层，所述工作层复合在所述过渡层的表面上。


5.根据权利要求4所述的抛光垫，其特征在于，所述工...

【专利技术属性】
技术研发人员：王国微，汪静，
申请(专利权)人：河南联合精密材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：河南;41