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本发明属于抛光工具加工技术领域，具体涉及一种抛光垫及其制备方法。本发明的抛光垫的磨料层由以下质量百分比的组分组成：聚集体磨料10‑22％、偶联剂1‑5％、树脂结合剂45‑65％、碳酸钙10‑20％、氧化铈10‑20％、气相二氧化硅1‑5％、...
该专利属于河南联合精密材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过河南联合精密材料股份有限公司授权不得商用。

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