基于角度多路复用的宽带太赫兹分子指纹痕量检测光栅制造技术

本发明专利技术涉及光栅技术领域，提供了一种基于角度多路复用的宽带太赫兹分子指纹痕量检测光栅，所述检测光栅包括：金属层、衬底层、光栅层和共形层；其中，金属层和衬底层自下而上复合形成；光栅层呈周期性均匀分布在衬底层上；共形层在光源通过预设的动态角度扫描检测光栅时均匀涂覆在衬底层和光栅层表面。本发明专利技术实施例提供的基于角度多路复用的宽带太赫兹分子指纹痕量检测光栅，在进行痕量检测时，不但可以增加光和物质间的相互作用，还可以有效提高对待测物质的感知性能，提高了检测的精准度。

【技术实现步骤摘要】
基于角度多路复用的宽带太赫兹分子指纹痕量检测光栅
本专利技术属于光栅
，尤其涉及一种基于角度多路复用的宽带太赫兹分子指纹痕量检测光栅。
技术介绍
许多复杂分子在太赫兹频率下具有分子内或分子间的旋转或振动模式，这种模式可以通过吸收光谱的显著特征来表征。由于太赫兹探测具有非破坏性，所以在生物和安全传感应用中具有巨大的应用前景。但是，因为被检测的分子与太赫兹波长相比，尺寸相对较小，这导致被检测分子与太赫兹波之间的相互作用非常弱，因此通常要求样品具有较大的体积并且可以观察到太赫兹吸收指纹谱才可以进行分子鉴定。然而，在痕量分子的检测中，由于波长不匹配和缺少强大光源，极大阻碍了太赫兹探测向更广泛的方向发展。为了解决上述问题，科研人员利用亚波长的局部增强特性，在太赫兹天线阵列、表面等离激元和超材料等方面做了很多努力。但这些方法具有较大的固有金属阻尼，光和检测物质间的相互作用受到金属吸收干扰很强，使痕量检测的精准度不高。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种基于角度多路复用的宽带太赫兹分子指纹痕量检测光栅，旨在解决现有的检测本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.基于角度多路复用的宽带太赫兹分子指纹痕量检测光栅，其特征在于，所述检测光栅包括：金属层、衬底层、光栅层和共形层；其中，/n所述金属层和所述衬底层自下而上复合形成；/n所述光栅层呈周期性均匀分布在所述衬底层上；/n所述共形层在光源通过预设的动态角度扫描所述检测光栅时均匀涂覆在所述衬底层和所述光栅层表面。/n

【技术特征摘要】
1.基于角度多路复用的宽带太赫兹分子指纹痕量检测光栅，其特征在于，所述检测光栅包括：金属层、衬底层、光栅层和共形层；其中，
所述金属层和所述衬底层自下而上复合形成；
所述光栅层呈周期性均匀分布在所述衬底层上；
所述共形层在光源通过预设的动态角度扫描所述检测光栅时均匀涂覆在所述衬底层和所述光栅层表面。


2.如权利要求1所述的检测光栅，其特征在于，所述金属层、衬底层和光栅层组成介质光栅单元结构，所述金属层的材质为铝，所述衬底层的材质为聚甲基乙烯，所述光栅层的材质为聚乙烯。


3.如权利要求1所述的检测光栅，其特征在于，所述预设的动态角度的角度范围为5°-60°。


4.如权利要求2所述的检测光栅，其特征在于，在太赫兹波段范围内，所述聚甲基乙烯的折射率范围为1.44-1.48，所述聚乙烯的折射率范围为1.52-1.56。


5.如权利要求2所述的检测光栅，其特征在于，所述介质光栅单元结构由以下各项参数定义：所述金属层的厚度t1，所述衬底层的厚度t2，所述光栅层的厚度t3，所述光栅层的周期p，单一光栅的宽度w。

【专利技术属性】
技术研发人员：朱锦锋，李法君，江山，谢奕浓，刘雪莹，
申请(专利权)人：厦门大学，
类型：发明
国别省市：福建;35