抗反射膜、偏光板和显示装置制造方法及图纸

技术编号:24334628 阅读:119 留言:0更新日期:2020-05-29 21:40
本发明专利技术涉及抗反射膜和使用其的显示装置,所述抗反射膜包括:硬涂层;和低折射率层,所述低折射率层包含粘合剂树脂、和具有通过动态光散射(DLS)测量的不同粒径的两种或更多种中空无机颗粒,其中具有不同粒径的两种或更多种中空无机颗粒包括一种粒径为40nm至60nm的中空无机颗粒和一种粒径为65nm至100nm的中空无机颗粒。

Antireflection film, polarizing plate and display device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】抗反射膜、偏光板和显示装置
相关申请的交叉引用本申请要求于2018年1月24日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0009002号的申请日的权益,其全部内容通过引用并入本文。本专利技术涉及抗反射膜、偏光板和显示装置。
技术介绍
通常,诸如PDP或LCD的平板显示装置配备有用于使从外部入射的光的反射最小化的抗反射膜。作为用于使光的反射最小化的方法,存在以下方法:其中使填料(例如,无机细颗粒)分散在树脂中并涂覆在基底膜上以赋予不规则性的方法(防眩光:AG涂覆),通过在基底膜上形成复数个具有不同折射率的层来利用光的干涉的方法(抗反射:AR涂覆),它们混合的方法等。其中,在AG涂覆的情况下,反射光的绝对量等于一般的硬涂覆的那些,但是可以通过利用经由不规则性的光散射来减少进入眼睛的光的量来获得低反射效果。然而,由于AG涂覆因表面不规则性而具有差的屏幕清晰度,因此近来进行了许多关于AR涂覆的研究。关于使用AR涂覆的膜,其中硬涂层(高折射率层)、低反射涂层等层合在基底膜上的多层结构已经商业化。然而,使用常规AR涂覆的膜具有的缺点是,反射率在由于来自外部的磨擦(rubbing)、摩损(friction)等而受损的部分处增加。因此,进行了许多研究以获得即使抗反射膜由于外部影响而受损也抑制反射率升高的抗反射膜。
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个目的旨在提供这样的抗反射膜:其在具有良好的机械特性(例如,高耐磨性和耐刮擦性)和优异的光学特性的同时有效地抑制由于外部摩擦或磨损而引起的反射率升高。本专利技术的另一个目的旨在提供包括所述抗反射膜并且提供高屏幕清晰度的显示装置。技术方案为了实现以上目的,本专利技术提供了抗反射膜,其包括:硬涂层;和低折射率层,所述低折射率层包含粘合剂树脂、和具有通过动态光散射(dynamiclightscattering,DLS)测量的不同粒径的两种或更多种中空无机颗粒,其中所述具有不同粒径的两种或更多种中空无机颗粒包括一种粒径为40nm至60nm的中空无机颗粒和一种粒径为65nm至100nm的中空无机颗粒。本专利技术提供了包括前述抗反射膜的偏光板。此外,本专利技术提供了包括前述抗反射膜的显示装置。在下文中,将详细描述根据本专利技术的具体实施方案的抗反射膜和包括其的显示装置。在本说明书中,(甲基)丙烯酸酯是指包括丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯二者。此外,可光固化树脂统指通过用光照射(例如,通过用可见光或紫外光照射)而聚合的聚合物树脂。此外,基于氟的化合物是指在化合物中含有至少一个氟元素的化合物。根据本专利技术的一个实施方案,可以提供抗反射膜,其包括:硬涂层;和低折射率层,所述低折射率层包含粘合剂树脂、和具有通过动态光散射(DLS)测量的不同粒径的两种或更多种中空无机颗粒,其中所述具有不同粒径的两种或更多种中空无机颗粒包括一种粒径为40nm至60nm的中空无机颗粒和一种粒径为65nm至100nm的中空无机颗粒。作为本专利技术人的研究结果,通过实验发现,在低折射率层的粘合剂树脂中包含具有不同粒径的两种或更多种中空无机颗粒的抗反射膜的情况下,具有相对小的粒径的中空无机颗粒排列在具有相对大的粒径的中空无机颗粒之间,并且低折射率层中包含的中空无机颗粒的排列得以优化,在防止由于来自外部的摩擦或磨损而引起的反射率升高的同时可以确保诸如耐磨性和耐刮擦性的物理特性,并且此外,抗反射膜在提高显示装置的屏幕的清晰度的同时可以表现出优异的机械特性,从而完成了本专利技术。此外,低折射率层中包含的中空无机颗粒为其中具有中空部分的细颗粒,并且在中空部分中包含折射率为1.0的空气,并因此其可以具有约1.20至1.40的低折射率。因此,当低折射率层中包含这些颗粒时,即使低折射率层中包含的中空无机颗粒的密度高也可以使低折射率层的折射率控制为低的,并因此可以实现低反射率。此外,一种粒径为40nm至60nm的中空无机颗粒与一种粒径为65nm至100nm的中空无机颗粒之间的重量比可以为7:3至3:7、6:4至4:6、或6.5:4.5至5:5。如果不满足该重量比范围,则中空无机颗粒的排列被扰乱,并且涂层由于外部摩擦或磨损而受损,从而引起反射率升高。根据一个实施方案的抗反射膜的特性取决于包含重量比为7:3至3:7的一种粒径为40nm至60nm的中空无机颗粒和一种粒径为65nm至100nm的中空无机颗粒的低折射率层的特性等。低折射率层中包含的中空无机颗粒的排列变得理想,因此在施加摩损期间应力可以最小化,此外,即使从外部施加摩擦或磨损,也可以抑制受损部分的反射率升高。具有不同粒径的两种或更多种中空无机颗粒可以包括一种粒径为40nm至60nm、42nm至60nm、或45nm至60nm的中空无机颗粒和一种粒径为65nm至100nm、65nm至95nm、或65nm至90nm的中空无机颗粒。当一种粒径为40nm至60nm、42nm至60nm、或45nm至60nm的中空无机颗粒的粒径小于40nm时,低折射率层的折射率增加并且反射率可能增加。当一种粒径为65nm至100nm、65nm至95nm、或65nm至90nm的中空无机颗粒的粒径大于100nm时,低折射率层的强度变弱并且耐刮擦性降低。中空无机颗粒的粒径可以通过常规已知方法确定,并且例如可以通过动态光散射(DLS)等确定。一种粒径为40nm至60nm的中空无机颗粒的粒径与一种粒径为65nm至100nm的中空无机颗粒的粒径之间的粒径差可以为5nm至60nm、7nm至40nm、或8nm至30nm。如果粒径差太小或太大,则低折射率层由于外部摩擦、磨损等而受损的部分的反射率可能增加。基于100重量份的粘合剂树脂,两种或更多种中空无机颗粒的含量可以为30重量份至500重量份、50重量份至450重量份、或60重量份至400重量份。如果含量小于30重量份,则低折射率层的反射率可能增加,而如果含量大于500重量份,则耐刮擦性由于粘合剂树脂的含量降低而降低,或者由于外部摩擦或磨损而受损的部分的反射率可能增加。另一方面,中空无机颗粒各自可以在表面上包含选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种反应性官能团。当中空无机颗粒各自在表面上包含反应性官能团时,低折射率层可以具有较高的交联度。因此,可以有效地抑制由于外部摩擦或磨损而受损的部分的反射率升高,并且可以进一步改善耐刮擦性和防污特性。此外,中空无机颗粒的表面可以涂覆有基于氟的化合物。当中空无机颗粒的表面涂覆有基于氟的化合物时,表面能可以进一步降低,并因此可以改善低折射率层的耐久性和耐刮擦性。作为用氟化合物涂覆中空无机颗粒的表面的方法,可以没有特别限制地使用常规已知的颗粒涂覆方法、聚合方法等。例如,可以使中空无机颗粒和基于氟的化合物在水和催化剂的存在下经历溶胶-凝胶反应以通过水解和缩合使基于氟的化合物与中空无机颗粒的表面结合。中空无机颗粒的具体实例包括中空二氧化硅颗粒。中空二氧化硅可以包含取本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抗反射膜,包括:硬涂层;和/n低折射率层,所述低折射率层包含粘合剂树脂、和具有通过动态光散射(DLS)测量的不同粒径的两种或更多种中空无机颗粒,/n其中所述具有不同粒径的两种或更多种中空无机颗粒包括一种粒径为40 nm至60 nm的中空无机颗粒和一种粒径为65 nm至100 nm的中空无机颗粒。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180124 KR 10-2018-00090021.一种抗反射膜,包括:硬涂层;和
低折射率层,所述低折射率层包含粘合剂树脂、和具有通过动态光散射(DLS)测量的不同粒径的两种或更多种中空无机颗粒,
其中所述具有不同粒径的两种或更多种中空无机颗粒包括一种粒径为40nm至60nm的中空无机颗粒和一种粒径为65nm至100nm的中空无机颗粒。


2.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中所述一种粒径为40nm至60nm的中空无机颗粒与所述一种粒径为65nm至100nm的中空无机颗粒之间的重量比为7:3至3:7。


3.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中所述一种粒径为40nm至60nm的中空无机颗粒的粒径与所述一种粒径为65nm至100nm的中空无机颗粒的粒径之间的粒径差为5nm至60nm。


4.根据权利要求1所述的抗反射膜,其中基于100重量份的所述粘合剂树脂,所述具有不同粒径的...

【专利技术属性】
技术研发人员:边真锡徐姃贤徐光锡张影来
申请(专利权)人:株式会社LG化学
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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