本实用新型专利技术公开了一种硅片清扫装置，包括用于放置硅片的梳齿组件、对硅片进行升降的顶升组件以及从两侧对硅片进行清扫的清扫组件；梳齿组件连接于顶升组件，清扫组件包括风刀，风刀平行设置于梳齿组件两侧；梳齿组件平行间隔的设置有两组，梳齿组件包括若干等距离设置的梳齿片和固定梳齿片的基座，梳齿片上部之间形成有让位槽，梳齿片顶部开设有沿竖直方向延伸的顶升槽。能够在将硅片从一个工位转移至石英舟的过程中，对硅片进行自动清扫，提高工作效率，同时能够避免清扫时掉落的碎片再次沾附在硅片上。
A silicon chip cleaning device
【技术实现步骤摘要】
一种硅片清扫装置
本技术涉及硅片加工
，具体涉及一种硅片清扫装置。
技术介绍
硅片是太阳能电池片的载体，硅片质量的好坏直接决定了太阳能电池片转换效率的高低，太阳能电池需要一个大面积的PN结以实现光能到电能的转换，而扩散炉即为制造太阳能电池PN结的专用设备。管式扩散炉主要由石英舟的上下载部分、废气室、炉体部分和气柜部分等四大部分组成。扩散一般用三氯氧磷液态源作为扩散源。把P型硅片放在管式扩散炉的石英容器内，在850---900摄氏度高温下使用氮气将三氯氧磷带入石英容器，通过三氯氧磷和硅片进行反应，得到磷原子。经过一定时间，磷原子从四周进入硅片的表面层，并且通过硅原子之间的空隙向硅片内部渗透扩散，形成了N型半导体和P型半导体的交界面，也就是PN结。在硅片的加工过程中，将硅片从上一个工位转移至石英舟，在此之前，需要对硅片表面的碎片等进行清理，需要人工操作，处理时间长，影响整体生产产量。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种清理硅片的清扫装置，能够在将硅片从一个工位转移至石英舟的过程中，对硅片进行自动清扫，提高工作效率，同时能够避免清扫时掉落的碎片再次沾附在硅片上。为了解决上述技术问题，本技术提供了一种硅片清扫装置，包括用于放置硅片的梳齿组件、对硅片进行升降的顶升组件以及从两侧对硅片进行清扫的清扫组件；所述梳齿组件连接于所述顶升组件，所述清扫组件包括风刀，所述风刀平行设置于所述梳齿组件两侧；所述梳齿组件平行间隔的设置有两组，所述梳齿组件包括若干等距离设置的梳齿片和固定所述梳齿片的基座，所述梳齿片上部之间形成有让位槽，所述梳齿片顶部开设有沿竖直方向延伸的顶升槽。进一步的，所述风刀在高度方向上交错设置。进一步的，所述梳齿片包括位于下部的固定部及与固定部相固接的延展部，所述延展部的厚度小于固定部的厚度，固定杆穿过所述固定部以串联所述梳齿片，所述基座包括基底、侧限位板和端限位板，所述梳齿片放置于基底上，所述固定杆两端与固定在基底两端的所述端限位板固定，所述梳齿片两侧通过与基底侧边固定的侧限位板限位。进一步的，所述基座为插板，所述插板上等距离的设置有若干插槽，梳齿片插入所述插槽内，所述插板一侧面设有贯通所述插槽的锁紧螺纹孔，锁紧螺钉通过锁紧螺纹孔抵接梳齿片。进一步的，所述插槽贯穿所述插板，所述插槽一端设置有底板，所述底板与所述插板通过禁锢螺钉固定连接。进一步的，所述底板截面为凸形，所述插板底面为与所述底板配合的凹形。进一步的，所述顶升槽的底部设有向梳齿内侧倾斜的安放斜面，所述安放斜面与水平面的夹角为30°～60°。进一步的，所述顶升槽的宽度小于让位槽的宽度。进一步的，所述顶升槽的顶升部开口处设置有使所述顶升部开口逐渐外扩的引导斜面。进一步的，所述引导斜面与竖直方向之间的夹角为5°～15°。本技术的一种顶齿清扫装置与现有技术相比的有益效果是，能够在将硅片从一个工位转移至石英舟的过程中，对硅片进行自动清扫，提高工作效率，同时能够避免清扫时掉落的碎片再次沾附在硅片上。附图说明图1是本技术的整体结构示意图；图2是本技术的侧视图；图3是本技术的梳齿组件实施例一结构示意图；图4是本技术的梳齿组件实施例二结构示意图；图5是图4中A区结构侧视放大图。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本技术作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本技术并能予以实施，但所举实施例不作为对本技术的限定。参照图1、图2和图3所示，为本技术的一种硅片清扫装置的实施例一结构示意图，包括用于放置硅片40的梳齿组件10、对硅片40进行升降的顶升组件20以及从两侧对硅片40进行清扫的清扫组件30；工作时，所述梳齿组件10连接于所述顶升组件20，顶升组件20带动放置在梳齿组件10上的硅片40进行升降转移，所述清扫组件30包括风刀31，所述风刀31平行设置于所述梳齿组件10两侧，在升降转移过程中，风刀31在硅片40两侧位置固定，随着硅片40的上下移动，风刀31从两侧对硅片40进行吹扫，实现对硅片40整体的清洁。由于梳齿组件10整体较窄，为固定硅片40，所述梳齿组件10平行间隔的设置有两组，所述梳齿组件10包括若干等距离设置的梳齿片11和固定所述梳齿片11的基座12，所述梳齿片11上部之间形成有让位槽13，所述梳齿片11顶部开设有沿竖直方向延伸的顶升槽14，硅片40插在顶升槽14内，当风刀31对硅片40进行吹气清扫时，从硅片40上部掉落的碎片要么被吹落至梳齿组件10的范围之外，要么落入让位槽13内，减少卡在两梳齿片11之间或掉入顶升槽14内的概率。本实施例中，所述风刀31在高度方向上交错设置，两风刀31之间存在高度差，相当于硅片40被清扫两次，确保硅片40的洁净。参照图2所示，为本技术实施例一梳齿组件结构示意图，本实施例中，所述梳齿片11包括位于下部的固定部111及与固定部111相固接的延展部112，所述延展部112的厚度小于固定部111的厚度，固定杆113穿过所述固定部111以串联所述梳齿片11，固定杆113使梳齿片11固定部111依次紧挨排列，由于梳齿片11的延展部112厚度小于固定部111，因此相邻两延展部112之间形成有沿竖直方向延伸的让位槽13，为进一步固定梳齿片11，所述基座12包括基底121、侧限位板122和端限位板123，所述梳齿片11放置于基底121上，所述固定杆113两端与固定在基底121两端的所述端限位板123固定，所述梳齿片11两侧通过与基底121侧边固定的侧限位板122限位。本实施例中，顶升组件20为直线电机，梳齿组件10通过支撑架与直线电机相连，硅片40插在梳齿组件10的顶升槽14内，直线电机驱动梳齿组件10带动硅片40上升插入到石英舟上的硅片40安装槽中，在上升的过程中，硅片40顶部首先被风刀31吹扫，顶部的碎片等向下掉落，由于风刀31向硅片40的内部吹扫，大部分碎片吹落后从两梳齿组件10之间的缝隙掉落，一部分碎片掉落在梳齿组件10上，若不设置让位槽13，则掉落的碎片落在两顶升槽14之间的梳齿上，容易掉进顶升槽14内或再次沾附于硅片40上，而设置让位槽13后，顶升槽14两侧的梳齿片11厚度较薄，不易积攒碎片，使碎片掉落于让位槽13内，让位槽13与硅片40不相接，掉落入让位槽13内的碎片不会再对硅片40造成影响。作为优选的实施例中，为尽量避免碎片掉入顶升槽14，所述顶升槽14的宽度小于让位槽13的宽度。同时为使掉入顶升槽14的碎片能够自动滑落，所述顶升槽14的底部设有向梳齿内侧倾斜的安放斜面114，所述安放斜面114与水平面的夹角为30°～60°，且安放斜面114能够是硅片40得以以一定的角度插入梳齿片11中，并被两组梳齿组件10在其左右方向得以稳定夹持。参照图4和图5所示，为本技术梳齿组件10实施例二结构示意图，本实施例中，为方便拆卸单个梳齿片11，所述基座12设置为插板124，所述插板124上等距离本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种硅片清扫装置，其特征在于，包括用于放置硅片的梳齿组件、对硅片进行升降的顶升组件以及从两侧对硅片进行清扫的清扫组件；所述梳齿组件连接于所述顶升组件，所述清扫组件包括风刀，所述风刀平行设置于所述梳齿组件两侧；所述梳齿组件平行间隔的设置有两组，所述梳齿组件包括若干等距离设置的梳齿片和固定所述梳齿片的基座，所述梳齿片上部之间形成有让位槽，所述梳齿片顶部开设有沿竖直方向延伸的顶升槽。/n
【技术特征摘要】
1.一种硅片清扫装置，其特征在于，包括用于放置硅片的梳齿组件、对硅片进行升降的顶升组件以及从两侧对硅片进行清扫的清扫组件；所述梳齿组件连接于所述顶升组件，所述清扫组件包括风刀，所述风刀平行设置于所述梳齿组件两侧；所述梳齿组件平行间隔的设置有两组，所述梳齿组件包括若干等距离设置的梳齿片和固定所述梳齿片的基座，所述梳齿片上部之间形成有让位槽，所述梳齿片顶部开设有沿竖直方向延伸的顶升槽。
2.如权利要求1所述的一种硅片清扫装置，其特征在于，所述风刀在高度方向上交错设置。
3.如权利要求1所述的一种硅片清扫装置，其特征在于，所述梳齿片包括位于下部的固定部及与固定部相固接的延展部，所述延展部的厚度小于固定部的厚度，固定杆穿过所述固定部以串联所述梳齿片，所述基座包括基底、侧限位板和端限位板，所述梳齿片放置于基底上，所述固定杆两端与固定在基底两端的所述端限位板固定，所述梳齿片两侧通过与基底侧边固定的侧限位板限位。
4.如权利要求1所述的一种硅片清扫装置，其特征在于，所述基座为插板，所述插板上等...
【专利技术属性】
技术研发人员：张学强，戴军，张建伟，罗银兵，张巍，
申请(专利权)人：罗博特科智能科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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