用于制备卷型石墨片的聚酰亚胺膜制造技术

技术编号:24295999 阅读:42 留言:0更新日期:2020-05-26 21:16
本发明专利技术提供用于卷型石墨片的聚酰亚胺膜,所述聚酰亚胺膜通过使由二酐单体与二胺单体的反应形成的聚酰胺酸酰亚胺化来制备,其中所述聚酰亚胺膜具有2.7GPa或大于2.7GPa的模数。

Polyimide film for the preparation of rolled graphite sheet

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制备卷型石墨片的聚酰亚胺膜
本专利技术涉及用于卷型石墨片的聚酰亚胺膜。
技术介绍
通常,聚酰亚胺树脂表示高耐热树脂,其通过以下产生:使芳族二酐与芳族二胺或二异氰酸酯溶液聚合以获得聚酰胺酸衍生物,并且在高温下使聚酰胺酸衍生物闭环脱水以及酰亚胺化以获得高耐热树脂。聚酰亚胺膜表示由聚酰亚胺树脂以薄层形式产生的膜。由于聚酰亚胺膜具有优异的机械稳定性和热尺寸稳定性以及化学稳定性,因此广泛用于电子/电材料应用、太空/航空应用以及电信应用。特别地,电子装置的当前趋势趋向于轻量化、微型化、薄型化以及高度集成化。这种趋势使得每单位体积的热产生增加,随后是由此类热负载引起的问题。因此,此类电子装置的有效散热至关重要。就此而言,石墨被示例为用于此类电子装置中使用的散热构件。石墨具有石墨烯堆叠结构,其中石墨烯是由排列成六方晶格的碳原子板组成的2维片,并且具有高热导率及高机械强度。此类石墨广泛用于能量储存材料,例如二级电池、燃料电池以及超级电容器,过滤膜、化学检测器、透明电极和散热材料等。特别地,对通过使由聚酰亚胺树脂获得的聚本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于卷型石墨片的聚酰亚胺膜,所述聚酰亚胺膜通过使通过二酐单体与二胺单体的反应形成的聚酰胺酸酰亚胺化来制备,/n其中所述聚酰亚胺膜具有2.7GPa或大于2.7GPa的模数。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20171023 KR 10-2017-01377291.用于卷型石墨片的聚酰亚胺膜,所述聚酰亚胺膜通过使通过二酐单体与二胺单体的反应形成的聚酰胺酸酰亚胺化来制备,
其中所述聚酰亚胺膜具有2.7GPa或大于2.7GPa的模数。


2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺膜,其中所述二胺单体包括二氨基二苯基醚(ODA)单体和对苯二胺(PPD)单体,并且具有70:30至82:18的ODA:PPD的摩尔比。


3.根据权利要求1所述的聚酰亚胺膜,其中所述二胺单体还包括亚甲基二苯胺(MDA)单体。


4.根据权利要求3所述的聚酰亚胺膜,其中所述二胺单体具有70:30至82:18的(ODA+MDA):PPD的摩尔比。


5.根据权利要求1所述的聚酰亚胺膜,所述聚酰亚胺膜包含两种或多于两种的具有不同的平均粒径的填充物。


6.根据权利要求5所述的聚酰亚胺膜,其中所述填充物在用于产生所述石墨片的碳化和/或石墨化期间升华,在所述石墨片中形成空隙。


7.根据权利要求5所述的聚酰亚胺膜,其中所述填充物包括具有相对大的平均粒径的第一填充物和具有相对小的平均粒径的第二填充物,...

【专利技术属性】
技术研发人员:元东荣林铉才金敬洙
申请(专利权)人:韩国爱思开希可隆PI股份有限公司
类型:发明
国别省市:韩国;KR

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