杀菌装置制造方法及图纸

杀菌装置包括：配管，具有流入口和排出口并供流体流动；以及光源部，设置于所述配管的一侧并向所述流体提供光，其中，所述配管的至少一部分设置为螺旋形，所述流入口和所述排出口中的至少一个布置于所述光射出区域内。

Sterilization device

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】杀菌装置
本专利技术涉及一种杀菌装置，尤其涉及一种向被处理对象提供光而对被处理对象进行杀菌的杀菌装置。
技术介绍
最近，由于工业化造成的污染日益严重，并且人们对环境的关注正在增加，同时健康生活(well-being)趋势也正在扩散。据此，对于干净的水或干净的空气的需求逐渐增长，因此正在开发能够提供干净的水或干净的空气的净水器、空气净化器等的多种相关产品。
技术实现思路
技术问题本专利技术的目的在于提供一种对被处理对象进行高效杀菌的装置。技术方案根据本专利技术的一实施例的一种杀菌装置包括：配管，具有流入口和排出口并供流体流动；以及光源部，设置于所述配管的一侧并向所述流体提供光，其中，所述配管的至少一部分设置为螺旋形，所述流入口和所述排出口中的至少一个布置于所述光射出区域内。在本专利技术的一实施例中，所述配管的至少一部分可以透明。在本专利技术的一实施例中，所述流入口和所述排出口中的一个可以对应于所述螺旋形的中心。在本专利技术的一实施例中，所述光源部可以包括基板和布置于所述基板上的至少一个以上的发光元件。在本专利技术的一实施例中，所述配管可以置于预定的虚拟的面上，所述面为平面。在本专利技术的一实施例中，所述平面可以与所述基板平行。在本专利技术的一实施例中，所述流入口和所述排出口可以布置于所述平面的同一侧。在本专利技术的一实施例中，所述流入口和所述排出口中的一个可以布置于所述平面的一侧，另一个布置于所述平面的另一侧。在本专利技术的一实施例中，所述流入口和所述排出口中的至少一个可以沿与所述平面平行的方向布置。在本专利技术的一实施例中，所述配管可以置于预定的虚拟的面上，所述虚拟的面是漏斗形状的内侧面。在本专利技术的一实施例中，所述漏斗形状的内侧面与所述基板的上面构成的角度可以是0度至20度。在本专利技术的一实施例中，所述配管可以具有柔性。在本专利技术的一实施例中，穿过所述配管的中心的线可以是具有预定曲率的曲线。在本专利技术的一实施例中，当从平面上观察时，所述配管的一部分可以与所述配管的另一部分重叠。在本专利技术的一实施例中，当从平面上观察时，所述配管的一部分与所述配管的另一部分重叠的面积可以是整个配管面积的50％以下。在本专利技术的一实施例中，杀菌装置还可以包括收容所述配管及所述光源部的壳体。并且，杀菌装置还可以包括与所述壳体紧固且覆盖所述壳体的盖部。在本专利技术的一实施例中，在所述壳体和所述盖部中的至少一个可以具有与所述流入口及所述排出口对应的开口。上述的杀菌装置可以采用于水供应器，水供应器可以包括：储水槽，收容水；以及水处理装置，连接于所述储水槽并对所述水进行处理。根据本专利技术的一实施例的杀菌装置可以设置为多样的形态，杀菌装置可以包括：壳体，包括底面部和从所述底面部向上方延伸的侧壁部，并且具有通过所述底面部和所述侧壁部限定的收容空间；反射部，设置于所述底面部上，并且具有从所述底面部凸出的反射曲面；支撑部，设置于所述反射部上且具有透光性；以及发光元件，设置于所述侧壁部而提供光，当通过与所述底面部垂直且穿过所述底面部中心的线截取所述曲面时，对应于所述曲面的曲线与抛物线的一部分对应，从所述底面部到所述抛物线的焦点的距离可以大于从所述底面部到所述反射曲面的顶点的距离。在本专利技术的一实施例中，当从平面上观察时所述曲面可以在所述底面部的中心处具有与所述底面部的高度最大的顶点。在本专利技术的一实施例中，所述曲面中，与所述底面部的高度可以从所述底面部的中心向底面部的外侧方向变小。在本专利技术的一实施例中，所述反射部的直径可以小于所述底面部的直径。在本专利技术的一实施例中，所述底面部的宽度可以大于所述侧壁部的高度。在本专利技术的一实施例中，所述发光元件可以设置为多个，并且设置于所述侧壁部上且向所述收容空间内提供光。在本专利技术的一实施例中，还可以包括：阻断部，设置于所述侧壁部的远离所述底面部的端部且阻断从所述发光元件射出的光的一部分。在本专利技术的一实施例中，当从平面上观察时，所述阻断部可以沿所述底面部的边缘部位设置。在本专利技术的一实施例中，还可以包括：配管，设置于所述壳体内，并且布置于与所述底面部相面对的面而供流体流动。从所述底面部到所述抛物线的焦点的距离可以大于从所述底面部到所述配管的距离。在本专利技术的一实施例中，被所述光所杀菌的被杀菌对象可以隔着所述支撑部而与所述发光元件相对。在本专利技术的一实施例中，所述被杀菌对象可以是粉饼化妆品的粉扑。有益效果根据本专利技术的一实施例的杀菌装置能够在短时间内对被处理对象进行高效杀菌。附图说明图1是示出根据本申请的实施例的杀菌装置的分解立体图。图2是图示根据本专利技术的实施例的杀菌装置中的配管的立体剖视图。图3是示出图2的杀菌装置中的配管的平面图。图4a至图4c是示例性图示根据本专利技术的一实施例的杀菌装置中的光源部的立体图。图5是图示根据本专利技术的实施例的杀菌装置中的配管的立体剖视图。图6是图示图5的杀菌装置中的配管的平面图，以较深的颜色显示为圆形的部分相当于流入口和排出口。图7a至图7c是图示在根据本专利技术的一实施例的杀菌装置中当具有不同形态的光射出区域时配管的形状不同地布置的情形的平面图。图8是示出根据本申请的实施例的针对预定对象的杀菌装置的分解立体图。图9a及图9b图示根据本专利技术的一实施例的杀菌装置中的一部分，是图示壳体、反射部及发光元件的立体图及剖视图。图10是图示根据本专利技术的另一实施例的杀菌装置的分解立体图。图11a及图11b图示根据本专利技术的一实施例的杀菌装置中的一部分，是图示壳体、反射部及发光元件的立体图及剖视图。图12a及图12b图示根据本专利技术的一实施例的杀菌装置中的一部分，是图示壳体、反射部及发光元件的立体图及剖视图。图13a是图示利用根据现有专利技术的一实施例的杀菌装置时的光强分布的曲线图，图13b图示在图13a中使用的杀菌装置的一部分。图14a是图示利用根据本专利技术的一实施例的杀菌装置时的光强分布的曲线图，图14b图示在图14a中使用的杀菌装置的一部分。图15a是图示利用根据本专利技术的一实施例的杀菌装置时的光强分布的曲线图，图15b图示在图15a中使用的杀菌装置的一部分。图16a是图示利用根据本专利技术的一实施例的杀菌装置时的光强分布的曲线图，图16b图示在图16a中使用的杀菌装置的一部分。图17a是图示利用根据本专利技术的一实施例的杀菌装置时的光强分布的曲线图，图17b图示在图17a中使用的杀菌装置的一部分。图18a是图示利用根据本专利技术的一实施例的杀菌装置时的光强分布的曲线图，图18b图示在图18a中使用的杀菌装置的一部分。图19是图示根据本专利技术的一实施例的流体供应器净化器的示意图。最优实施方式以下，为了以本申请的
中具有通常知识的技术人员能够容易实施本申请的技术思想的程度详细本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种杀菌装置，包括：/n壳体，包括底面部和从所述底面部向上方延伸的侧壁部，并且具有通过所述底面部和所述侧壁部限定的收容空间；/n反射部，设置于所述底面部上，并且具有从所述底面部凸出的反射曲面；/n支撑部，设置于所述反射部上且具有透光性；以及/n发光元件，设置于所述侧壁部而提供光，/n当通过与所述底面部垂直且穿过所述底面部中心的线截取所述曲面时，对应于所述曲面的曲线与抛物线的一部分对应，从所述底面部到所述抛物线的焦点的距离大于从所述底面部到所述反射曲面的顶点的距离。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180808 KR 10-2018-0092397;20190107 KR 10-2019-001.一种杀菌装置，包括：
壳体，包括底面部和从所述底面部向上方延伸的侧壁部，并且具有通过所述底面部和所述侧壁部限定的收容空间；
反射部，设置于所述底面部上，并且具有从所述底面部凸出的反射曲面；
支撑部，设置于所述反射部上且具有透光性；以及
发光元件，设置于所述侧壁部而提供光，
当通过与所述底面部垂直且穿过所述底面部中心的线截取所述曲面时，对应于所述曲面的曲线与抛物线的一部分对应，从所述底面部到所述抛物线的焦点的距离大于从所述底面部到所述反射曲面的顶点的距离。


2.根据权利要求1所述的杀菌装置，其中，
当从平面上观察时所述曲面在所述底面部的中心处具有与所述底面部的高度最大的顶点。


3.根据权利要求2所述的杀菌装置，其中，
所述曲面中，与所述底面部的高度从所述底面部的中心向底面部的外侧方向变小。


4.根据权利要求1所述的杀菌装置，其中，
所述反射部的直径小于所述底面部的直径。


5.根据权利要求1所述的杀菌装置，其中，
所述底面部的宽度大于所述侧壁部的高度。


6.根据权利要求1所述的杀菌装置，其中，
所述发光元件设置为多个，并且设置于所述侧壁部上而向所述收容空间内提供光。


7.根据权利要求6所述的杀菌装置，其中，
所述发光元件设置为等间距辐射形。


8.根据权利要求1所述的杀菌装置，其中，还包括：
阻断部，设置于所述侧壁部的远离所述底面部的端部而阻断从所述发光元件射出的光的一部分。


9.根据权利要求8所述的杀菌装置，其中，
当从平面上观察时所述阻断部沿所述底面部的边缘部位设置。


10.根据权利要求1所述的杀菌装置，其中，还包括：
配管，设置于所述壳体内，并且布置于与所述底面部相面对的面而供流体流动。


11.根据权利要求10所述的杀菌装置，其中，
从所述底面部到所述抛物线的焦点的距离大于...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔载荣，安时玄，朴起延，郑雄基，韩奎源，
申请(专利权)人：首尔伟傲世有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR