System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 流体处理模组制造技术_技高网

流体处理模组制造技术

技术编号:40706445 阅读:3 留言:0更新日期:2024-03-22 11:06
本发明专利技术涉及一种流体处理模组,流体处理模组包括:排管,提供流体移动的通道,并具有流入口和排出口;光源模组,包括基板和至少一个发光元件,所述发光元件设置在所述基板的前面上,并将处理所述流体的光向所述排管内照射;反射器,设置在所述排管内,对于所述光具有比所述排管高的反射率,并反射来自所述光源模组的所述光;以及散热板,与所述基板的背面接触,以散发所述光源模组的热。所述流入口和所述排出口中至少一个设置为多个,以控制向所述排管内移动的所述流体的移动速度以及移动方向,所述散热板具有比所述基板的热传导率大的热传导率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种流体处理模组


技术介绍

1、最近,商业化引起的污染正在加重,由此对环境的关注度在增加的同时,乐活趋势趋势也在扩散中。由此,对干净的水或者干净的空气的需求逐渐变多,正在开发与能够提供干净的水以及干净的空气的水处理装置、空气净化器等有关的多种产品。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于,提供一种有效处理空气或者水之类的流体的装置。

2、根据本申请的实施例的流体处理模组包括:排管,提供流体移动的通道,并具有流入口和排出口;光源模组,包括基板和至少一个发光元件,所述发光元件设置在所述基板的前面上,并将处理所述流体的光向所述排管内照射;反射器,设置在所述排管内,对于所述光具有比所述排管高的反射率,并反射从所述光源模组射出的所述光;以及散热板,与所述基板的背面接触,以散发所述光源模组的热。所述流入口和所述排出口中至少一个设置为多个,以控制向所述排管内移动的所述流体的移动速度以及移动方向,所述散热板具有比所述基板的热传导率大的热传导率。

3、根据本专利技术的一实施例,可以是,所述散热板具有比所述基板的面积大的面积。

4、根据本专利技术的一实施例,可以是,所述散热板由金属构成。

5、根据本专利技术的一实施例,可以是,所述流入口和所述排出口的数量可以互不相同。

6、根据本专利技术的一实施例,可以是,所述排管具有沿长度方向延伸的主体和分别沿所述主体的长度方向配置的第一端部和第二端部。

7、根据本专利技术的一实施例,可以是,所述散热板具有比所述主体的直径更大的直径。

8、根据本专利技术的一实施例,可以是,所述流入口和所述排出口设置在彼此不同的端部侧。

9、根据本专利技术的一实施例,可以是,当从所述排管的长度方向观察时,所述流入口和所述排出口将所述排管的中心位于中间彼此沿相同的方向与所述排管连接。

10、根据本专利技术的一实施例,可以是,当从所述排管的长度方向观察时,所述流入口和所述排出口彼此沿不同的方向与所述排管连接。

11、根据本专利技术的一实施例,可以是,还包括:反射器,设置在所排管内,反射从所述光源模组射出的光。

12、根据本专利技术的一实施例,可以是,所述反射器对于所述光具有比所述排管高的反射率。

13、根据本专利技术的一实施例,可以是,流体处理模组中,所述反射器还包括:第一反射器,设置在所述排管的内壁;以及第二反射器,设置在所光源模组的所述基板上。根据本专利技术的一实施例,可以是,所述第二反射器具有暴露所述发光元件的开口,构成所述开口的内侧面倾斜。

14、根据本专利技术的一实施例,所述反射器可以由多孔性材质构成,所述反射器的反射率可以为80%以上。

15、根据本专利技术的一实施例,可以是,所述流入口设置为两个,所述排出口设置为一个。

16、根据本专利技术的一实施例,可以是,所述流入口和所述排出口的直径彼此相同或者彼此不同。

17、根据本专利技术的一实施例,可以是,所述流体处理模组可以用于供水装置,供水装置可以包括:储水槽,用于容纳水;以及水处理装置,与所述储水槽连接,用于处理所述水。

18、本专利技术提供一种处理效率高且可靠性高的流体处理模组。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种流体处理模组,包括:

2.根据权利要求1所述的流体处理模组,其中,

3.根据权利要求1所述的流体处理模组,其中,

4.根据权利要求1所述的流体处理模组,其中,

5.根据权利要求4所述的流体处理模组,其中,

6.根据权利要求5所述的流体处理模组,其中,

7.根据权利要求1所述的流体处理模组,还包括:

8.根据权利要求7所述的流体处理模组,其中,

9.根据权利要求7所述的流体处理模组,其中,

10.根据权利要求1所述的流体处理模组,还包括:

【技术特征摘要】

1.一种流体处理模组,包括:

2.根据权利要求1所述的流体处理模组,其中,

3.根据权利要求1所述的流体处理模组,其中,

4.根据权利要求1所述的流体处理模组,其中,

5.根据权利要求4所述的流体处理模组,其中,

6....

【专利技术属性】
技术研发人员:李宰昊崔载荣郑雄基韩奎源
申请(专利权)人:首尔伟傲世有限公司
类型:发明
国别省市:

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