【技术实现步骤摘要】
包括PID的部件承载件以及制造部件承载件的方法
本专利技术涉及一种包括PID的部件承载件以及制造部件承载件的方法。
技术介绍
电子设备如计算设备或通信设备通常包括至少一个改进的部件承载件以及被配置为使得能够实现电子设备的功能的部件,上述部件承载件比如为印刷电路板(PCB)、中间印刷电路板产品或IC-基板。为了进一步增强这种部件承载件的互连特性以及电子连接的密度并减小其大小和厚度,部件也可以通过由本申请人开发的所谓的嵌入式部件封装(ECP)技术集成在部件承载件内。然而,嵌入功能芯片的ECP基板需要热管理以促进平稳的芯片操作,并且需要附加的过程诸如预烘干以防止第一次层压以及UV冲击后的部件移动以平稳地去除粘合剂类型,以用于芯层制造。这成为制造成本增加的原因之一。由于热源(芯片),具有芯片的芯层的热管理是一问题,并且在具有一些嵌入式部件的芯层上的制造过程可能变得复杂。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种部件承载件以及制造该部件承载件的方法,通过该方法,可以进一步提高热耗散能力并简化制造过程。为了实现以上限定的目的,根据本专利技术的示例性实施方式提供了一种部件承载件以及制造该部件承载件的方法。根据本专利技术的示例性实施方式,一种制造部件承载件的方法,其中,所述方法包括:形成包括至少一个导电层结构和/或至少一个电绝缘层结构的堆叠体;利用第一光可成像电介质(PID)使堆叠体的正面侧图案化;以及使堆叠体的背面侧图案化。使用第一光可成像电介质用于正面侧层压简化了预烘干和UV冲 ...
【技术保护点】
1.一种制造部件承载件(1)的方法,其中,所述方法包括:/n形成包括至少一个导电层结构(2)和/或至少一个电绝缘层结构(3)的堆叠体;/n利用第一光可成像电介质(PID)(12)使所述堆叠体的正面侧图案化;以及/n使所述堆叠体的背面侧图案化。/n
【技术特征摘要】
1.一种制造部件承载件(1)的方法,其中,所述方法包括:
形成包括至少一个导电层结构(2)和/或至少一个电绝缘层结构(3)的堆叠体;
利用第一光可成像电介质(PID)(12)使所述堆叠体的正面侧图案化;以及
使所述堆叠体的背面侧图案化。
2.根据前一权利要求所述的方法,其中,
利用第一光可成像电介质(PID)(12)使所述堆叠体的正面侧图案化包括:用电磁辐射穿过掩模进行照射,接着对经照射的第一光可成像电介质(12)进行显影,又接着选择性地移除经显影的第一光可成像电介质(12)的经照射部分或未经照射部分。
3.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,
所述第一光可成像电介质(12)被图案化以用于接触所嵌入的部件(4、5),所述嵌入的部件在所述正面侧与相应部件(4、5)的上部主表面(6)之间具有不同的距离。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,还包括:
通过激光钻孔使所述堆叠体的背面侧图案化。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,
形成通孔(7),所述通孔包括在所述正面侧上的具有直侧壁的第一孔部分,所述第一孔部分连接到在所述背面侧上的具有逐渐变窄的侧壁的第二孔部分。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,
利用所述第一光可成像电介质(12)使所述堆叠体的正面侧图案化包括:在所述正面侧上形成具有不同竖向深度的多个孔(8)。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,
使所述堆叠体的背面侧图案化包括:在所述背面侧上形成具有基本上相同的竖向深度的多个孔(9)。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,
利用所述第一光可成像电介质(12)使所述堆叠体的正面侧图案化包括:在所述正面侧上形成具有不同水平宽度的多个孔(8)。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,还包括:
在所述部件承载件(1)的孔(7、8、9)或过孔中形成导线和/或同轴线缆。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,
提供金属芯(11),所述第一光可成像电介质(12)被施加到所述金属芯(11)。
11.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,形成所述堆叠体包括形成具有金属化侧壁的电介质芯。
12.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,
形成所述堆叠体包括:形成通孔(7),所述通孔通过所述正面侧上的所述第一光可成像电介质(12)、通过所述背面侧上的电介质(13)、以及通过从所述背面侧起进行的激光处理来形成。
13.根据前一权利要求所述的方法,其中,
在所述背面侧上的所述电介质(13)是热固化材料或第二光可成像电介质(PID)(13)。
14.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,形成所述堆叠体包括下述步骤:
提供金属芯(11);
将临时承载件(14)附接在所述金属芯(11)的背面侧上;
使第一腔体(15)形成到所述金属芯(11)中;
将半导体芯片(4)和/或无源部件(5)嵌入到所述第一腔体(15)中;
将所述第一光可成像电介质(12)施加在所述金属芯(11)的正面侧上;
使在所述第一腔体(15)处的所述第一光可成像电介质(12)图案化,以用于接触所嵌入的半导体芯片(4)和/或无源部件(5),从而在所述正面侧上形成孔(8);
将所述临时承载件(14)从所述金属芯(11)的背面侧移除;
将电介质(13)施加在所述金属芯(11)的背面侧上;
使在所述第一腔体(15)处的、位于所述背面侧上的所述电介质(13)图案化,从而在所述背面侧上形成孔(9);以及
通过金属来镀覆或填充所述孔(8、9)。
15.根据前一权利要求所述的方法,其中,
在使在所述第一腔体(15)处的、位于所述背面侧上的所述电介质(13)图案化之前:将至少一个金属层施加到所述金属芯(11)的背面侧上,使所述金属层图案化,并且将所述电介质(13)施加在经图案化的所述至少一个金属层上。
16.根据前述权利要求14和15中任一项所述的方法,还包括:
使第二腔体(16)形成到所述金属芯(11)中;
使在所述第二腔体(...
【专利技术属性】
技术研发人员:睦智秀,
申请(专利权)人:奥特斯奥地利科技与系统技术有限公司,
类型:发明
国别省市:奥地利;AT
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