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一种基于硫单质自养反硝化工艺的装置及废水处理方法制造方法及图纸

技术编号:24287485 阅读:116 留言:0更新日期:2020-05-26 19:03
本发明专利技术公开了一种基于硫单质自养反硝化工艺的装置,包括依次连接的进水系统、反应区、污泥沉淀区和出水系统,所述反应区的上端设置有第一侧边溢流槽,所述污泥沉淀区的上端设置有第二侧边溢流槽,所述第一侧边溢流槽和所述第二侧边溢流槽联通,所述第一侧边溢流槽设置有第一锯齿堰,所述第二侧边溢流槽设置有第二锯齿堰,所述反应区设置有硫磺填充床,所述硫磺填充床包括硫单质和驯化污泥,所述硫磺填充床的底部设置第一筛网,用以承托硫单质和驯化污泥,所述反应区还设置有第一排泥口,所述污泥沉淀区设有第二排泥口;本发明专利技术还公开了一种废水处理方法,处理效率高、实现垃圾渗滤液深度脱氮。

【技术实现步骤摘要】
一种基于硫单质自养反硝化工艺的装置及废水处理方法
本专利技术属于废水深度脱氮
,具体涉及一种基于硫单质自养反硝化工艺的装置及废水处理方法。
技术介绍
短程硝化-厌氧氨氧化技术作为一种高效低耗的新型脱氮方式,可以节省60%需氧量,无需额外投加碳源,已逐步应用于垃圾渗滤液脱氮处理(如中国专利2018105491807)。但是,ANAMMOX细菌将1molNH4+-N和1.32molNO2--N转化为N2的同时,会产生0.26molNO3--N,生成的NO3--N约占进水总氮的11%。此外,短程硝化反应中NH4+-N过度氧化会进一步产生NO3--N。这些因素导致出水NO3--N浓度过高,总氮超标,实际运行过程中所用的含氮废水为实验室前期短程硝化耦合厌氧氨氧化工艺(申请号:2018105491807)处理垃圾渗滤液的出水,NO3--N浓度为145±15mg/L,NO2--N浓度为45±10mg/L,NH4+-N浓度为22±5mg/L,出水NOx--N浓度在180~200mg/L。中国专利201910434299.4,名称为“厌氧氨氧化耦合本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于硫单质自养反硝化工艺的装置,其特征在于,包括依次连接的进水系统、反应区、污泥沉淀区和出水系统,/n所述反应区的上端设置有第一侧边溢流槽,所述污泥沉淀区的上端设置有第二侧边溢流槽,所述第一侧边溢流槽和所述第二侧边溢流槽联通,所述第一侧边溢流槽设置有第一锯齿堰,所述第二侧边溢流槽设置有第二锯齿堰,/n所述反应区设置有硫磺填充床,所述硫磺填充床包括硫单质和驯化污泥,所述硫磺填充床的底部设置第一筛网,用以承托硫单质和驯化污泥,/n所述反应区还设置有第一排泥口,所述污泥沉淀区设有第二排泥口。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于硫单质自养反硝化工艺的装置,其特征在于,包括依次连接的进水系统、反应区、污泥沉淀区和出水系统,
所述反应区的上端设置有第一侧边溢流槽,所述污泥沉淀区的上端设置有第二侧边溢流槽,所述第一侧边溢流槽和所述第二侧边溢流槽联通,所述第一侧边溢流槽设置有第一锯齿堰,所述第二侧边溢流槽设置有第二锯齿堰,
所述反应区设置有硫磺填充床,所述硫磺填充床包括硫单质和驯化污泥,所述硫磺填充床的底部设置第一筛网,用以承托硫单质和驯化污泥,
所述反应区还设置有第一排泥口,所述污泥沉淀区设有第二排泥口。


2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述硫磺填充床的上方设置第二筛网,用以拦截硫单质。


3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述进水系统包括进水口、进水阀、进水管和进水泵,所述进水阀和所述进水泵设在所述进水管上,所述进水口设置在反应区上,所述出水系统包括溢流出水口、出水管、回流管和回流泵,所述回流泵设在所述回流管上,所述溢流出水口设置在所述污泥沉淀区上。


4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第一锯齿堰的齿高比所述第二锯齿堰的齿高高1~2cm。


5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述硫磺填充床的底部与反应区的底部距离为4~6cm,所述硫磺填充床层顶端与第一锯齿堰的底部的距离为3~10cm。


6.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述反应区分为第一反应区和第二反应区,所述第一反应区和所述第二反应区的长宽高相同,并行放置,第一反应区和第二反应区各设置有进水系统,所述第一反应区和所述第二反应区与所述污泥沉淀区相连,所述污泥沉淀区与出水系统相连,所述第一反应区和所述第二反应区的上端分别设置有第一侧边溢流槽,所述污泥沉淀区的上端分别设置有两个第二侧边溢流槽,所述第一侧边溢流槽和所述第二侧边溢流槽联通,所述第一侧边溢流槽设置有第一锯齿堰,所述第二侧边溢流槽设置有第二锯齿堰。


7.一种权利要求1~6所述装置...

【专利技术属性】
技术研发人员:吕慧曾楚筠刁兴兴孙连鹏赵晴宋乃巧
申请(专利权)人:中山大学中山大学深圳研究院深圳市利赛实业发展有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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