【技术实现步骤摘要】
一种基于锥形纳米孔的整流比及极性的调控装置
本专利技术属于利用微腔背景盐浓度及酸碱浓度对锥形纳米孔整流比调控的
，具体涉及一种基于锥形纳米孔的整流比及极性的调控装置。
技术介绍
纳米孔整流比的控制，尤其是锥形纳米孔整流比的控制，是当前微纳
持续研究探索的方向。随着物理化学，生物化学，微电子技术在微纳
的发展，在纳米结构中离子电流的整流比的操控，具有重大的意义。目前微纳
中，普遍应用的离子电流整流装置存在如下问题：如离子电流整流比较固定，对纳米孔尺寸精度要求较高；其次整流比及极性难以调节,无法根据相应的需要进行调节。本装置采用锥形纳米孔结构能有效调节整流比及极性。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本专利技术提出了一种基于锥形纳米孔的整流比及极性的调控装置，能够对锥形纳米孔的整流比及极性进行准确、高效、低成本的调节。为实现上述目的，本专利技术采用如下技术方案：一种基于锥形纳米孔的整流比及极性的调控装置，该检测装置是以微圆柱型腔-固态锥形纳米孔-微圆柱型腔连接结...
【技术保护点】
1.一种基于锥形纳米孔的整流比及极性的调控装置，其特征在于，该调控装置是以微圆柱型腔与固态锥形纳米孔以及微圆柱型腔连接结构为核心的调控装置，具体包括在硅基衬底（2）上下两侧刻蚀的上微圆柱型腔（3）、下微圆柱型腔（6），在上微圆柱型腔（3）、下微圆柱型腔（6）中充满了电解液（7），采用离子束轰击的方式将上微圆柱型腔（3）、下微圆柱型腔（6）打通制作一个锥形纳米孔（4），绝缘层（1）涂覆在上微圆柱型腔（3）、下微圆柱型腔（6）的硅基衬底（2）外表面上。/n
【技术特征摘要】
1.一种基于锥形纳米孔的整流比及极性的调控装置，其特征在于，该调控装置是以微圆柱型腔与固态锥形纳米孔以及微圆柱型腔连接结构为核心的调控装置，具体包括在硅基衬底（2）上下两侧刻蚀的上微圆柱型腔（3）、下微圆柱型腔（6），在上微圆柱型腔（3）、下微圆柱型腔（6）中充满了电解液（7），采用离子束轰击的方式将上微圆柱型腔（3）、下微圆柱型腔（6）打通制作一个锥形纳米孔（4），绝缘层（1）涂覆在上微圆柱型腔（3）、下微圆柱型腔（6）的硅基衬底（2）外表面上。
2.根据权利要求1所述的一种基于锥形纳米孔的整流比及极性的调控装置，其特征在于，微圆柱型腔-固态锥形纳米孔-微圆柱型腔连接结构将调节装置分为上下两个部分，置于装置上部的外接正电极（8）接电，置于装置下部的外接负电极（10）接地，外接正电极（8）、外接负电极（10）与电流检测设备（5）以及电源（9）构成电流检测回路。
...
【专利技术属性】
技术研发人员：彭堙寅，邓鲁豫，黄志维，丁行行，周腾，史留勇，
申请(专利权)人：海南大学，
类型：新型
国别省市：海南;46
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