甲苯二异氰酸酯釜残的应用及其制备石墨的方法、石墨及其应用技术

本发明专利技术涉及一种甲苯二异氰酸酯釜残的应用及其制备石墨的方法、石墨及其应用。具体涉及甲苯二异氰酸酯釜残在制备石墨中的应用。甲苯二异氰酸酯釜残制备石墨的方法，包括以下步骤：在绝氧环境下将温度升至500‑2000℃对甲苯二异氰酸酯釜残进行微波裂解，得到含石墨的产物。甲苯二异氰酸酯釜残在绝氧条件下进行微波裂解，可以得到含有石墨的产物。该处理甲苯二异氰酸酯釜残的方法操作简单方便，且可以生成石墨，经济效益高。

The application of toluene diisocyanate residue in kettle and its preparation method, graphite and its application

【技术实现步骤摘要】
甲苯二异氰酸酯釜残的应用及其制备石墨的方法、石墨及其应用
本专利技术涉及化工废物回收
，具体涉及一种甲苯二异氰酸酯釜残的应用及其制备石墨的方法、石墨及其应用。
技术介绍
甲苯二异氰酸酯(TDI)因其优异的性能和广泛的用途已成为异氰酸酯化合物中能够应用最多的品种之一。近几年，随着聚氨酯行业的发展对TDI的需求量也在大幅度上升，国内近几年增长速度均在7％，据有关单位预测，在未来10年内全球TDI的消费需求将以年4％的速度增长。国际和国内TDI市场均具有很大的发展空间。甲苯二异氰酸酯的生产方法有3种：光气化法、硝基化合物羰基化法和碳酸二甲酯法。光气化法制备TDI中，光气剧毒，污染严重；工艺流程长，技术复杂；生产设备投资大，产生的氯化氢对设备腐蚀性严重，生产要求苛刻，操作危险性大，存在很大的安全隐患。但是其工艺成熟，产品质量稳定，适用于工业化生产。目前为止，全世界TDI生产方法仍以光气化法。TDI的光气化法合成反应大致由5个工序组成：(1)一氧化碳和氢气反应生成光气；(2)甲苯与硝酸反应生成二硝基甲苯(DNT)；(3)DN本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种甲苯二异氰酸酯釜残在制备石墨中的应用。/n

【技术特征摘要】
1.一种甲苯二异氰酸酯釜残在制备石墨中的应用。


2.一种甲苯二异氰酸酯釜残制备石墨的方法，其特征在于，包括以下步骤：
在绝氧环境下将温度升至500-2000℃对甲苯二异氰酸酯釜残进行微波裂解，得到含石墨的产物。


3.根据权利要求2所述的甲苯二异氰酸酯釜残制备石墨的方法，其特征在于，所述甲苯二异氰酸酯釜残为液相光气化法合成甲苯二异氰酸酯时形成的釜残。


4.根据权利要求2所述的甲苯二异氰酸酯釜残制备石墨的方法，其特征在于，温度升至500-2000℃后继续微波裂解反应3-7s。


5.根据权利要求2所述的甲苯二异氰酸酯釜残制备石墨的方法，其特征在于，微波...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘俊祥，孔庆锋，刘强，曹春峰，
申请(专利权)人：北京诺芯环境科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11