位移测量设备制造技术

本发明专利技术提供一种位移测量设备。能够利用小型的位移测量设备来进行使用测量光的扫描。该位移测量设备包括用于使用从光投射透镜输出的测量光进行扫描的MEMS反射镜。光投射透镜在测量光的光轴上在MEMS反射镜处或该MEMS反射镜的附近具有使测量光聚光的焦点位置。在MEMS反射镜处被反射的测量光在该测量光接近测量区域时，以带状形式扩散。

Displacement measuring equipment

【技术实现步骤摘要】
位移测量设备
本专利技术涉及用于测量测量对象的预定位置的位移的位移测量设备。
技术介绍
传统上已知有通常被称为“光切法”的使用三角测量原理的三维测量法(例如，日本特开2000-193428)。在该方法中，将带状的测量光发射到测量对象的表面以使得该测量对象被切断，并且从该测量对象的表面反射回的光由受光元件接收，由此获得高度信息。日本特开2000-193428公开了用于通过发射测量光来在与该测量光的延伸方向垂直的方向上扫描处于静止状态的测量对象以测量该测量对象的三维形状的设备。
技术实现思路
测量光的扫描机构可以由通常被称为“检流计扫描器”的公知装置来体现。检流计扫描器主要由检流计反射镜、用于支撑该反射镜的轴和用于使该轴转动的马达构成。为了将该检流计反射镜并入位移测量设备中，需要用于布置轴和马达的空间以及用于布置反射镜的空间，这使设备的结构复杂化并且增大了设备的尺寸。特别地，在小型位移测量设备中，这些问题变得显著。本专利技术是有鉴于这些情形而实现的，并且本专利技术的目的是使得能够利用小型的位移测量设备来进行使用测本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种位移测量设备，用于对测量对象的预定位置的位移进行测量，所述位移测量设备包括：/n测量光源；/n光投射透镜，其包括一个或多个透镜组，所述一个或多个透镜组用于使从所述测量光源出射的测量光在第一方向和与所述第一方向交叉的第二方向上聚光；/nMEMS反射镜，其具有设置在从所述光投射透镜出射的测量光的光轴上且绕与所述第一方向平行的轴转动的镜面，并且所述MEMS反射镜被配置为使从所述光投射透镜出射的测量光在所述第二方向上进行扫描；/n光投射窗，其被配置为允许从所述MEMS反射镜出射的测量光透过所述光投射窗并出射到所述测量对象的测量区域；/n受光元件，其被配置为接收从所述测量区域反射回的测量光，并且...

【技术特征摘要】
20181109 JP 2018-2110421.一种位移测量设备，用于对测量对象的预定位置的位移进行测量，所述位移测量设备包括：
测量光源；
光投射透镜，其包括一个或多个透镜组，所述一个或多个透镜组用于使从所述测量光源出射的测量光在第一方向和与所述第一方向交叉的第二方向上聚光；
MEMS反射镜，其具有设置在从所述光投射透镜出射的测量光的光轴上且绕与所述第一方向平行的轴转动的镜面，并且所述MEMS反射镜被配置为使从所述光投射透镜出射的测量光在所述第二方向上进行扫描；
光投射窗，其被配置为允许从所述MEMS反射镜出射的测量光透过所述光投射窗并出射到所述测量对象的测量区域；
受光元件，其被配置为接收从所述测量区域反射回的测量光，并且输出受光量分布；
位移测量单元，其被配置为基于从所述受光元件输出的受光量分布来测量所述测量对象的位移；以及
壳体，其一体地容纳所述测量光源、所述光投射透镜、所述MEMS反射镜和所述受光元件，并且附接有所述光投射窗，
其中，所述光投射透镜在所述测量光的光轴上在所述MEMS反射镜或所述MEMS反射镜附近具有使所述测量光在所述第一方向上聚光的焦点位置，并且所述光投射透镜被配置为生成带状测量光，在所述带状测量光在所述MEMS反射镜处被反射之后接近所述测量区域时，所述带状测量光在所述第一方向上扩散。


2.根据权利要求1所述的位移测量设备，其中，所述光投射透镜在所述测量区域中具有使所述测量光在所述第二方向上聚光的焦点位置。


3.根据权利要求1所述的位移测量设备，还包括：
光投射模块，其包括所述测量光源、所述光投射透镜和所述MEMS反射镜；以及
基部，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：山根规义，滨雄一郎，
申请(专利权)人：株式会社基恩士，
类型：发明
国别省市：日本;JP