【技术实现步骤摘要】
一种PET镀膜方法、镀膜PET
本专利技术属于镀膜
,具体涉及一种PET镀膜方法、镀膜PET。
技术介绍
类似于低反射率的减反射膜镀膜,一般用在玻璃等基板上,脆性和延展性相对不足,最重要的是无法达到吸光作用。现有镀膜技术在PET表面镀膜,PET折皱严重,膜层不均匀,光谱达不到要求。专利技术专利申请CN201510835077.5公开了一种电子设备壳体的镀膜制备工艺,并具体公开了工艺包括以下步骤:离子轰击步骤:将一面经过UV转印处理的透明PET片材置于真空镀室内,对所述PET片材的表面进行离子轰击;镀膜步骤:利用真空镀膜方式在所述PET片材的表面依次镀上SiO2膜、TiO2膜、铟膜和SiO2膜。该工艺中PET折皱严重,膜层不均匀。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术存在的问题,提出了一种耐折性好,具有反射率低于0.15%吸光作用的PET镀膜方法、镀膜PET。本专利技术是通过以下技术方案得以实现的:本专利技术一种PET镀膜方法,包括:步骤S01,在PET基板表面溅镀Ti;步骤S02,在溅镀Ti层的PET基板上进行镀膜。将Ti层作为基板和膜层之间的粘结层,避免PET折皱,膜层不均匀。作为优选,步骤S01具体包括:真空溅射镀膜机对腔体抽真空;在PET基板表面溅镀Ti。作为优选,步骤S01溅镀Ti层的厚度为20-200nm。作为优选,所述步骤S02具体包括:在溅镀Ti层的PET基板上依次溅镀Al2O3、Ti、Al2O3、SiO2 ...
【技术保护点】
1.一种PET镀膜方法,其特征在于,包括:/n步骤S01,在PET基板表面溅镀Ti;/n步骤S02,在溅镀Ti层的PET基板上进行镀膜。/n
【技术特征摘要】
1.一种PET镀膜方法,其特征在于,包括:
步骤S01,在PET基板表面溅镀Ti;
步骤S02,在溅镀Ti层的PET基板上进行镀膜。
2.根据权利要求1所述的一种PET镀膜方法,其特征在于,步骤S01具体包括:真空溅射镀膜机对腔体抽真空;在PET基板表面溅镀Ti。
3.根据权利要求2所述的一种PET镀膜方法,其特征在于,步骤S01溅镀Ti层的厚度为20-200nm。
4.根据权利要求1所述的一种PET镀膜方法,其特征在于,所述步骤S02具体包括:在溅镀Ti层的PET基板上依次溅镀Al2O3、Ti、Al2O3、SiO2。
5.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员:陆张武,徐勇军,李恭剑,王迎,徐征驰,
申请(专利权)人:浙江晶驰光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江;33
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