一种利用低层数氧化石墨烯制备石墨烯的生产系统技术方案

本发明专利技术公开了一种利用低层数氧化石墨烯制备石墨烯的生产系统，其结构包括进料口、功能箱、滤筒，进料口安装在功能箱的上端，功能箱内部设置有超声分散筒与磨槽，磨槽位于超声分散筒的上端，并通过石墨烯排料口对接，滤筒与超声分散筒配合，磨槽内部设置有破碎辊、辊体支撑机构，破碎辊设有两个，呈同向旋转接触配合，两个破碎辊辊间承接在进料口的底部，辊体支撑机构设在破碎辊的圆周外表面，本发明专利技术橡胶刮片分布在两侧作用在破碎辊底部，用橡胶刮片将破碎辊表面粉碎的石墨烯带出，以此避免后期清理辊面时粉料扩散污染空气，并且充分利用石墨烯物料。

A production system of graphene from low-level graphene oxide

【技术实现步骤摘要】
一种利用低层数氧化石墨烯制备石墨烯的生产系统
本专利技术涉及石墨烯加工领域，特别的，是一种利用低层数氧化石墨烯制备石墨烯的生产系统。
技术介绍
赫默法是通过Hummer法制备氧化石墨，将氧化石墨放入水中超声分散，形成均匀分散、质量浓度为0.25g/L～1g/L的氧化石墨烯溶液，再向所述的氧化石墨烯溶液中滴加质量浓度为28％的氨水；将还原剂溶于水中，形成质量浓度为0.25g/L～2g/L的水溶液；将配制的氧化石墨烯溶液和还原剂水溶液混合均匀，将所得混合溶液置于油浴条件下搅拌，反应完毕后，将混合物过滤洗涤、烘干后得到石墨烯。石墨烯在生产过程中首先需要进行粉碎，现有技术在生产加工中，采用破碎辊对石墨进行粉碎，破碎辊之间充分接触下，从而达到破碎的效果，但是被粉碎的石墨一部分会留在辊面上，目前对辊面清理大部分用刷子来清扫辊面上残留的石墨，由于附在辊面上的石墨被粉碎，若是用刷子清扫既容易溅起粉料污染空气，也会导致少部分粉碎的石墨材料无法被充分利用。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种利用低层数氧化石墨烯制备石墨烯的生产系本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种利用低层数氧化石墨烯制备石墨烯的生产系统，其特征在于：其结构包括进料口(1)、功能箱(2)、滤筒(3)，所述进料口(1)安装在功能箱(2)的上端，所述功能箱(2)内部设置有超声分散筒与磨槽，磨槽位于超声分散筒的上端，并通过石墨烯排料口对接，所述滤筒(3)与超声分散筒配合，所述磨槽内部设置有破碎辊(31)、辊体支撑机构(32)，所述破碎辊(31)设有两个，呈同向旋转接触配合，两个所述破碎辊(31)辊间承接在进料口(1)的底部，所述辊体支撑机构(32)设在破碎辊(31)的圆周外表面，所述辊体支撑机构(32)包括密封边层(321)、弧形板(322)、支承底盘(323)，所述密封边层(321)...

【技术特征摘要】
1.一种利用低层数氧化石墨烯制备石墨烯的生产系统，其特征在于：其结构包括进料口(1)、功能箱(2)、滤筒(3)，所述进料口(1)安装在功能箱(2)的上端，所述功能箱(2)内部设置有超声分散筒与磨槽，磨槽位于超声分散筒的上端，并通过石墨烯排料口对接，所述滤筒(3)与超声分散筒配合，所述磨槽内部设置有破碎辊(31)、辊体支撑机构(32)，所述破碎辊(31)设有两个，呈同向旋转接触配合，两个所述破碎辊(31)辊间承接在进料口(1)的底部，所述辊体支撑机构(32)设在破碎辊(31)的圆周外表面，所述辊体支撑机构(32)包括密封边层(321)、弧形板(322)、支承底盘(323)，所述密封边层(321)紧密接触于破碎辊(31)表面，所述密封边层(321)与弧形板(322)为一体化结构，所述弧形板(322)用支承底盘(323)固定。


2.根据权利要求1所述的一种利用低层数氧化石墨烯制备石墨烯的生产系统，其特征在于：所述弧形板(322)包括橡胶刮片(221)、遮挡斜板(222)、风轮(223)、扩散腔(224)、接触垫条(225)，所述橡胶刮片(221)设在接触垫条(225)的两端，所述橡胶刮片(221)与破碎辊(31)表面紧密接触，所述遮挡斜板(222)呈130°角与支承底盘(323)安装固定，所述风轮(223)的冷却气流由扩散腔(224)通于接触垫...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛思婷，
申请(专利权)人：牛思婷，
类型：发明
国别省市：北京;11