有机蒸镀保护件的清洗方法技术

本发明专利技术实施例公开了一种有机蒸镀保护件的清洗方法，包括以下步骤：以N‑甲基吡咯烷酮溶液为清洗液，对所述有机蒸镀保护件进行第一次超声清洗；对第一次超声清洗后的所述有机蒸镀保护件进行第一次水洗和干燥；对干燥后的所述有机蒸镀保护件进行干冰冲洗；以及对干冰冲洗后的所述有机蒸镀保护件进行第二次水洗。本发明专利技术能够以更高的清洗效率对有机蒸镀保护件进行更深度的清洁，不仅达到高标准的洁净度要求，而且不损伤有机蒸镀保护件的表面。

Cleaning method of protective parts of organic evaporation plating

【技术实现步骤摘要】
有机蒸镀保护件的清洗方法
本专利技术涉及OLED制作
，更具体地，涉及一种有机蒸镀保护件的清洗方法。
技术介绍
采用蒸镀方式制作OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)面板，其工艺流程为：1)制作TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)基板，通过成膜、曝光、蚀刻叠加不同图形、不同材质的膜层以形成LTPS(LowTemperaturePoly-silicon，低温多晶硅薄膜)；2)将TFT基板转移到蒸镀机中进行各功能层、发光层的有机蒸镀，所谓蒸镀，就是真空中通过电流加热，电子束轰击加热和激光加热等方法，使被蒸材料蒸发成原子或分子，它们随即以较大的自由程作直线运动，碰撞基板表面而凝结，进而形成薄膜。蒸镀时，在TFT基板下方覆盖精密的金属掩膜板，以将材料蒸镀到特定的位置。3)将盖板和上述蒸镀后的基板通过胶粘结封装在一起。在上述步骤中，蒸镀是OLED制造工艺的核心工艺，在蒸镀机内进行有机蒸镀时，为了防止有机物沉积在蒸镀机的内腔，需要使用防着板对蒸镀机的内腔进行保护，防着板无法避免的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种有机蒸镀保护件的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：/n以N-甲基吡咯烷酮溶液为清洗液，对所述有机蒸镀保护件进行超声清洗；/n对第一次超声清洗后的所述有机蒸镀保护件进行第一次水洗和干燥；/n对干燥后的所述有机蒸镀保护件进行干冰冲洗；以及/n对干冰冲洗后的所述有机蒸镀保护件进行第二次水洗。/n

【技术特征摘要】
1.一种有机蒸镀保护件的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：
以N-甲基吡咯烷酮溶液为清洗液，对所述有机蒸镀保护件进行超声清洗；
对第一次超声清洗后的所述有机蒸镀保护件进行第一次水洗和干燥；
对干燥后的所述有机蒸镀保护件进行干冰冲洗；以及
对干冰冲洗后的所述有机蒸镀保护件进行第二次水洗。


2.根据权利要求1所述的有机蒸镀保护件的清洗方法，其特征在于，所述N-甲基吡咯烷酮溶液中，所述N-甲基吡咯烷酮的质量分数为50％～100％。


3.根据权利要求2所述的有机蒸镀保护件的清洗方法，其特征在于，所述N-甲基吡咯烷酮的质量分数为95％～100％。


4.根据权利要求1所述的有机蒸镀保护件的清洗方法，其特征在于，所述N-甲基吡咯烷酮溶液的加热温度为50℃～60℃，所述超声清洗的频率为20kHz～800kHz。


5.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊志红，郑思温，
申请(专利权)人：深圳仕上电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44