【技术实现步骤摘要】
用于层状样本磁声成像的二维聚焦磁感应激励阵列及方法
本专利技术涉及一种磁声成像装置。特别是涉及一种用于层状样本磁声成像的二维聚焦磁感应激励阵列及方法。
技术介绍
新型的磁声耦合成像方法,在组织电特性的功能监测方面体现出了重要研究价值。该方法通过对组织施加正交的电磁激励,将组织的电特性参数转化为声振动,利用声学检测方法提取组织电特性,实现高分辨率的电特性功能成像。目前磁声成像研究通常采用单个脉冲激励结合层析扫描的测量方式,该方式检测精度低,且信号淹没在噪声中,对检测成像影响明显。因此,采用连续正弦激励结合二维聚焦磁感应的激励模式,可有效提高样本尤其是层状样本的在体测量的检测精度。总之,设计二维聚焦磁感应激励阵列具有重要意义。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是,提供一种能够有效提高层状样本在体测量的检测精度的用于层状样本磁声成像的二维聚焦磁感应激励阵列及方法。本专利技术所采用的技术方案是:一种用于层状样本磁声成像的二维聚焦磁感应激励阵列,包括激励平板和设置在激励平板下面的隔音平板, ...
【技术保护点】
1.一种用于层状样本磁声成像的二维聚焦磁感应激励阵列,其特征在于,包括激励平板(1)和设置在激励平板(1)下面的隔音平板(2),所述的激励平板(1)上设有n×n个线圈(4),所述线圈(4)用于对位于隔音平板(2)下面的待成像样本(3)中与各线圈所对应的部位施加磁感应激励,所述的隔音平板(2)用于隔离所述激励平板(1)上线圈产生的噪声信号对待成像样本(3)的干扰,每个所述的线圈(4)都通过所连接的导线(5)与外部的激励源相连。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于层状样本磁声成像的二维聚焦磁感应激励阵列,其特征在于,包括激励平板(1)和设置在激励平板(1)下面的隔音平板(2),所述的激励平板(1)上设有n×n个线圈(4),所述线圈(4)用于对位于隔音平板(2)下面的待成像样本(3)中与各线圈所对应的部位施加磁感应激励,所述的隔音平板(2)用于隔离所述激励平板(1)上线圈产生的噪声信号对待成像样本(3)的干扰,每个所述的线圈(4)都通过所连接的导线(5)与外部的激励源相连。
2.根据权利要求1所述的用于层状样本磁声成像的二维聚焦磁感应激励阵列,其特征在于,所述的激励平板(1)和隔音平板(2)为贴合连接。
3.根据权利要求1所述的用于层状样本磁声成像的二维聚焦磁感应激励阵列,其特征在于,所述线圈(4)是通过热熔胶固定在激励平板(1)上,或是通过柔性印制电路板技术印制在激励平板(1)上。
4.根据权利要求1所述的用于层状样本磁声成像的二维聚焦磁感应激励阵列,其特征在于,所述的n=10~10000。
5.根据权利要求1所述的用于层状样本磁声成像的二维聚焦磁感应激励阵列,其特征在于,所述的激励平板(1)上每个线圈(4)的直径为c,相邻两个线圈(4)的圆心距为a,且a>c。
6.根据权利要求5所述的用于层状样本磁声成像的二维聚焦磁感应激励阵列,其特征在于,所述的c=0.5~2mm,所述线圈(4)的线径为0...
【专利技术属性】
技术研发人员:张顺起,刘志朋,殷涛,马任,周晓青,
申请(专利权)人:中国医学科学院生物医学工程研究所,
类型:发明
国别省市:天津;12
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