【技术实现步骤摘要】
一种黑色聚酰亚胺薄膜及其制备方法
本专利技术涉及聚酰亚胺薄膜领域,尤其涉及一种黑色聚酰亚胺薄膜及其制备方法。
技术介绍
黑色聚酰亚胺薄膜具有良好的遮光性、绝缘性、耐热性等性能。广泛应用于光学、电子材料、航天航空领域。黑色聚酰亚胺薄膜在印刷电路板的覆盖膜应用上起到至关重要的作用。在印刷电路板的制造过程中,为了避免设置于印刷电路板的金属线路接触水汽而氧化以及保护电路板上的电路布局等技术机密,通常会覆盖黑色聚酰亚胺保护膜于电路板上。通常黑色聚酰亚胺薄膜的制作是将各种遮光物质如碳粉、石墨等颜料添加到聚酰亚胺树脂合成及制膜过程中。但该制备方法因聚酰亚胺树脂中加入了大量的碳粉导致薄膜不均一,生产过程中聚酰亚胺薄膜中的颜料可能会脱落而污染制程设备,且生产出的聚酰亚胺薄膜力学性能、电气性能大幅下降。中国专利CN104169330A将炭黑等填料加入到聚酰胺酸溶液中混合制备黑色聚酰亚胺薄膜。该法制备得到的薄膜击穿电压大幅度下降,严重影响聚酰亚胺薄膜的电学性能。中国专利CN109485892A将添加碳粉的聚酰胺酸溶液涂布在 ...
【技术保护点】
1.一种黑色聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:/n(1)将二胺单体与二酐单体在有机溶剂中进行聚合反应,得到聚酰胺酸溶液;/n(2)将步骤(1)中的聚酰胺酸溶液进行氧化处理,得到氧化的聚酰胺酸溶液;/n(3)将步骤(2)中氧化的聚酰胺酸溶液进行成膜处理,亚胺化,即得到所述黑色聚酰亚胺薄膜;其中,所述步骤(1)中二胺单体含有苯二酚结构。/n
【技术特征摘要】
1.一种黑色聚酰亚胺薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将二胺单体与二酐单体在有机溶剂中进行聚合反应,得到聚酰胺酸溶液;
(2)将步骤(1)中的聚酰胺酸溶液进行氧化处理,得到氧化的聚酰胺酸溶液;
(3)将步骤(2)中氧化的聚酰胺酸溶液进行成膜处理,亚胺化,即得到所述黑色聚酰亚胺薄膜;其中,所述步骤(1)中二胺单体含有苯二酚结构。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述苯二酚结构为邻苯二酚结构或/和对苯二酚结构。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述二胺单体为2,5-二氨基-1,4-二羟基苯、3,5-二氨基-N-(2,5-二羟苯基)苯甲酰胺、3,5-二氨基-N-(3,4-二羟基苯乙基)苯甲酰胺、4,5-二氨基-1,2-二羟基苯、2,5-二氨基-N-(2,5-二羟苯基)苯甲酰胺、2,5-二氨基-N-(3,4-二羟基苯乙基)苯甲酰胺和2,5-二氨基-N-(3,4-二羟苯基)苯甲酰胺中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述二酐单体为4,4'-氧双邻苯二甲酸酐、均苯四甲酸二酐、4,4'-对苯二氧双邻苯二甲酸酐、双酚A型二酐、3,3',4,4'-联苯四甲酸二酐、3,3',4,4'-二苯酮四酸二酐、六氟二酐、2,3,3',4...
【专利技术属性】
技术研发人员:李义涛,程堂剑,云晧,陈志钊,邓永茂,林丽平,杨刚,张凌飞,
申请(专利权)人:东莞东阳光科研发有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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