【技术实现步骤摘要】
喷嘴及其包含所述喷嘴的喷枪
本技术涉及半导体领域，尤其涉及一种喷嘴及其包含所述喷嘴的喷枪。
技术介绍
喷涂作为表面处理的重要手段，在半导体设备零部件喷涂加工领域有着广泛的应用。作为喷涂的必要工具，喷枪性能的优劣直接决定了喷涂效果的好坏。所述喷枪包括枪体和与枪体连接的喷嘴，所述喷嘴设计决定是否能够对半导体设备零部件进行喷涂以及喷涂效果的好坏。然而，现有喷嘴难以对半导体设备零部件内高深宽比的开孔内侧壁进行喷涂工艺。
技术实现思路
本技术解决的技术问题是提供一种喷嘴及其包含所述喷嘴的喷枪，以实现在高深宽比开孔内表面喷涂静电涂料。为解决上述技术问题，本技术提供一种喷嘴，包括：出料部，所述出料部包括第一区和第二区，所述第一区的侧壁设有若干第一出料口，所述第一出料口与所述出料部的内部空间连通；引流部，所述引流部靠近所述出料部的第二区并与所述出料部的内部空间连通，且所述引流部的侧壁设有引流槽，所述引流槽与引流部的内部空间连通。可选的，所述出料部为管状结构。可选的，所述出料部的第一区的端部
【技术保护点】
1.一种用于喷枪的喷嘴，其特征在于，包括：/n出料部，所述出料部包括第一区和第二区，所述第一区的侧壁设有若干第一出料口，所述第一出料口与所述出料部的内部空间连通；/n引流部，所述引流部靠近所述出料部的第二区并与所述出料部的内部空间连通，且所述引流部的侧壁设有引流槽，所述引流槽与引流部的内部空间连通。/n
【技术特征摘要】
1.一种用于喷枪的喷嘴，其特征在于，包括：
出料部，所述出料部包括第一区和第二区，所述第一区的侧壁设有若干第一出料口，所述第一出料口与所述出料部的内部空间连通；
引流部，所述引流部靠近所述出料部的第二区并与所述出料部的内部空间连通，且所述引流部的侧壁设有引流槽，所述引流槽与引流部的内部空间连通。
2.如权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，所述出料部为管状结构。
3.如权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，所述出料部的第一区的端部设置第二出料口。
4.如权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，所述第二区的侧壁还设置若干个开口。
5.如权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，所述出料部与所述引流部之间设有挡板，所述挡板的外径大于所述出料部的外径。
6.如权利要求5所述的喷嘴，其特征在于，所述引流部的外径大于所述出料部的外径，所述挡板的外径大于所述引流部的外径。
7.如权利要求5所述的喷嘴，其特征在于，还包括：外套于所述引流部的遮蔽件，所述遮蔽件用于调节所述引流槽的大小。
8.如权利要求7所述的喷嘴，其特征在于，使所述遮蔽件沿远离或者靠近挡板的方向进行移动以调节所述引流槽的大小。
9.如权利要求7所述的喷嘴，其特征在于，所述遮蔽件侧壁具有凹槽，使所述引流部与遮蔽件沿引流部周向进行相对移动，使所述凹槽与引流槽全部重叠或者部分重叠，以调节所述引流槽开口的大小。
10.如权利要求1所述的喷嘴，其特征在于，所述第一...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨桂林，郭盛，陈星建，左涛涛，王凯麟，
申请(专利权)人：中微半导体设备上海股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。