敞穴施肥的方法技术

本发明专利技术公开了一种敞穴施肥的方法，在灌水沟的两侧蔬菜之间的垄上挖有敞穴，敞穴在灌水沟的内侧，且向灌水沟侧敞开，敞穴的穴底高出灌水沟的沟底５ｃｍ－１０ｃｍ，穴底低于灌水的水位；每次浇水前１－２天在敞穴的穴内放入５－１５ｇ化肥，浇水时，水流入敞穴内，以溶解和扩散肥料；一次制穴，蔬菜整个生育期使用。敞穴施肥的方法较常规穴施肥减少了每次挖穴、覆土的工序，使集中施肥在日光温室蔬菜的栽培密度大和覆盖地膜的情况下得以实现；克服了冲施肥供肥强度低，肥料利用率低的缺点。这样在较易农事操作下，实现了集中施肥，提高了供肥强度，减少了肥料用量，满足了蔬菜生长的要求，保证了蔬菜的质量。

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种蔬菜种植的施肥方法，具体地说是一种敞穴施肥的方法。
技术介绍
目前，日光温室蔬菜生产的主要栽培方式为土壤栽培，灌水采用沟或畦灌的方式，追肥采用冲施肥方法。冲施肥的优点是施肥方便、省工；缺点是灌水量较大的情况下，肥料均匀地溶解在水内，肥料的浓度较低，致使土壤溶液养分浓度也较低，不利于蔬菜根系的吸收；只有在肥料量很大时，才能提高土壤溶液的浓度，满足蔬菜根系吸收的要求；部分养分直接随水移动到土壤深层，造成环境污染。因此，日光温室蔬菜在施肥栽培技术上存在的一个突出问题，就是施肥量过大。过量施肥不但增加农民的生产成本，还会造成土壤养分的积累、硝酸盐的淋洗、产品质量的变劣和土壤的盐化等环境问题。
技术实现思路
本专利技术的技术任务是提供一种化肥利用率高，生产成本低的敞穴施肥的方法。本专利技术的技术任务是按以下步骤实现的在灌水沟的两侧蔬菜之间的垄上挖有敞穴，敞穴在灌水沟的内侧，且向灌水沟侧敞开，敞穴的穴底高出灌水沟的沟底5cm-10cm，穴底低于灌水的水位；每次浇水前1-2天在敞穴的穴内放入5-15g化肥，浇水时，水流入敞穴内，以溶解和扩散肥料；一次制穴，蔬菜整个生育期使用。灌水沟的两侧本文档来自技高网...

【技术保护点】
敞穴施肥的方法，其特征在于在灌水沟的两侧蔬菜之间的垄上挖有敞穴，敞穴在灌水沟的内侧，且向灌水沟侧敞开，敞穴的穴底高出灌水沟的沟底５ｃｍ－１０ｃｍ，穴底低于灌水的水位；每次浇水前１－２天在敞穴的穴内放入５－１５ｇ化肥，浇水时，水流入敞穴内，以溶解和扩散肥料；一次制穴，蔬菜整个生育期使用。

【技术特征摘要】
1.敞穴施肥的方法，其特征在于在灌水沟的两侧蔬菜之间的垄上挖有敞穴，敞穴在灌水沟的内侧，且向灌水沟侧敞开，敞穴的穴底高出灌水沟的沟底5cm-10cm，穴底低于灌水的水位；每次浇水前1-2天在敞穴的穴内放入5-15g化肥，浇水时，水流入敞穴内，以溶解和扩散肥料；一次制穴，蔬菜整个生育期使用。2.根据权利要求1所述的敞穴施肥的方法，其特征在于灌水沟的两...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑东峰，王学君，魏建林，刘苹，王艳芹，李国生，
申请(专利权)人：山东省农业科学院土壤肥料研究所，
类型：发明
国别省市：88[中国|济南]