净化室制造技术

提供一种在半导体装置的制造过程中能防止半导体晶片在输送时或保管时的化学污染、同是根据需要能进行局部的空调管理的净化室。由空调机２取入的进行了温度、湿度控制的空气通过天花板过滤器８被供给作业区４，在通过格栅１０被吸引的净化室１中，将风扇过滤装置９只增加配置在作业区４中配置的输送装置５及保管装置６的上方，将除去了化学烟雾的化学游离空气供给输送装置５及保管装置６。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在制造半导体装置的净化室中进行局部净化的净化室。以往，由于来自净化室环境的污染，致使半导体装置的成品率下降，所以要在与进行温度、湿度控制的同时将通常数微米级的异物除去了的净化室内进行制造。图9是表示现有的净化室的图，图中1是净化室，2是取入外界空气并进行温度、湿度控制后将空气供给净化室1的空调机。净化室1由从空调机2供给空气的天花板间壁室3、配置了生产装置等进行作业的作业区4和配置了动力供给设备及环保设备等的实用区7构成，在天花板间壁室3和作业区4之间设置了将数微米级的尘埃等异物从天花板间壁室3的空气中除去用的HEPA(High Efficiency Particulate Air)过滤器或ULPA(Ultra Low Penetration Air)过滤器等天花板过滤器8，作业区4通过台面上的格栅10与实用区7相联通，通过格栅10将作业区4的空气吸引到实用区7中，设有使空气从实用区7到天花板间壁室3循环的循环通道11。另外，为了防止来自外部空气的异物进入，净化室1内的气压比外部气压高，但由于门的开闭或从装置排放气体等而使净化室1内的气压降低，所以要经常检测净化室本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种净化室，其特征在于备有：与控制外界的空气温度、湿度的同时、使净化室内相对于外界呈正压状态供给按第１除尘程度管理的第１清洁度的空气的空调机；由上述空调机供给上述第１清洁度的空气的天花板间壁室；将天花板间壁室的第１清洁度的空气净 化为第２除尘程度的第２清洁度的空气的天花板过滤器；配置在天花板过滤器的上游侧用来将空气中指定的化学物质降低到规定的含有量的风扇过滤装置；由天花板过滤器供给按第２清洁度管理的空气、同时由上述风扇过滤装置向规定区域供给按第２除尘程度的第 ３清洁度管理的化学游离空气的作业区；位于上述作业区的格栅台下面配置了动力供给设备及环保设备等的实用区...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：长舟平，福本明，谷博司，江崎浩治，
申请(专利权)人：三菱电机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]