【技术实现步骤摘要】
去除吸附剂孔隙内钙镁离子的装置以及方法
本专利技术涉及一种去除吸附剂孔隙内钙镁离子的装置以及方法，本专利技术属于吸附剂再生
技术介绍
吸附剂(活性炭、活性焦)用于水处理吸附工艺时，会同时吸附钙镁离子及大分子物质，这些钙镁离子与水中二氧化碳形成碳酸盐，随着时间的推移，这些碳酸盐夹杂着大分子物质会填充在吸附剂孔隙内，影响吸附性能。在对吸附剂再生活化时，这些孔隙内的碳酸盐解吸不了，因而也会影响吸附剂再生效果。
技术实现思路
本专利技术的目的之一是克服现有技术中存在的不足，提供一种结构简单、使用方便的去除吸附剂孔隙内钙镁离子的装置。本专利技术的另一目的是提供一种去除吸附剂孔隙内钙镁离子的方法。按照本专利技术提供的技术方案，所述去除吸附剂孔隙内钙镁离子的装置，包括处理罐、加料口、出料口、进液管、抽真空管、进液控制阀、抽真空控制阀与真空泵；在处理罐上设有加料口、出料口、进液管与抽真空管，在进液管上设有进液控制阀，在抽真空管上设有抽真空控制阀与真空泵；所述加料口设置在处理罐的顶面板上，...
【技术保护点】
1.一种去除吸附剂孔隙内钙镁离子的装置，包括处理罐（1）、加料口（2）、出料口（3）、进液管（4）、抽真空管（5）、进液控制阀（6）、抽真空控制阀（7）与真空泵（8）；其特征是：在处理罐（1）上设有加料口（2）、出料口（3）、进液管（4）与抽真空管（5），在进液管（4）上设有进液控制阀（6），在抽真空管（5）上设有抽真空控制阀（7）与真空泵（8）；/n所述加料口（2）设置在处理罐（1）的顶面板上，出料口（3）设置在处理罐（1）的侧壁中部下方的位置。/n
【技术特征摘要】
1.一种去除吸附剂孔隙内钙镁离子的装置，包括处理罐（1）、加料口（2）、出料口（3）、进液管（4）、抽真空管（5）、进液控制阀（6）、抽真空控制阀（7）与真空泵（8）；其特征是：在处理罐（1）上设有加料口（2）、出料口（3）、进液管（4）与抽真空管（5），在进液管（4）上设有进液控制阀（6），在抽真空管（5）上设有抽真空控制阀（7）与真空泵（8）；
所述加料口（2）设置在处理罐（1）的顶面板上，出料口（3）设置在处理罐（1）的侧壁中部下方的位置。
2.根据权利要求1所述的去除吸附剂孔隙内钙镁离子的装置，其特征是：所述处理罐（1）还具有烘干功能。
3.一种去除吸附剂孔隙内钙镁离子的方法包括以下步骤：
a、将待处理的吸附剂在150~160℃温度下烘干2.5~5小时；
b、将烘干后的吸附剂浸泡在处理药剂中，浸泡时间控制在4~72小时；
c、浸泡完成后，取出吸附剂并用水洗涤至中性。
4.根据权利要求3所述的去除吸附剂孔隙内钙镁离子的方法，其特征是：步骤a中，待处理的吸附剂在处理罐（1）内进行烘干；或者，步...
【专利技术属性】
技术研发人员：茆林凤，
申请(专利权)人：赢特环保科技无锡有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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