光谱仪用全反射装置的压样头制造方法及图纸

技术编号:24054750 阅读:27 留言:0更新日期:2020-05-07 12:50
一种光谱仪用全反射装置的压样头,包括压样杆、样品圈、压缩弹簧、弹簧罩和固定座。本实用新型专利技术有利于实现形状不规则、尺寸不统一的颗粒样品在光谱分析仪器上固定测试,而且操作简单方便。

Sample head of total reflection device for spectrometer

【技术实现步骤摘要】
光谱仪用全反射装置的压样头
本技术属于光谱分析领域,特别涉及一种傅里叶变换光谱仪用全反射装置的压样头。
技术介绍
傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)一般在其干涉仪输出光与检测器之间会设置样品仓,通过在样品仓内放置适当的透射、反射等测试装置并将样品以适当固定,可实现样品的透射光谱、反射光谱测量。衰减全反射装置(ATR)作为一种高灵敏光信号测试技术,将样品放置在晶体的表面,引导光束透过晶体照射到样品表面,通过测量样品表面的反射信号来提取有效光谱信息,简化了样品的制作过程,同时也极大地拓展了光谱法的应用范围,已被广泛应用于纤维、塑料、涂料、橡胶、粘合剂等高分子材料制品的表面成份分析。ATR与FTIR光谱仪相结合,发挥二者的优势,就可以在更多场合取得应用、获取更好的光谱测试灵敏度、信噪比和样品材料性质。在实际应用中,样品需要手动放置在ATR的晶体表面,且需要尽量放置在晶体的中心,通过移动压头后压紧样品,才可能获取到更好的带有样品信息的光谱图。有些样品是不规则的小颗粒,不容易拿住放置在晶体上,更不容易放置在晶体的中心处;一般的压头移动后压住样品时,可能将样品“压飞”,对样品测试带来很大的麻烦。
技术实现思路
本技术提供一种光谱仪用全反射装置的压样头,以解决压头压住样品时的不方便的操作。该压样头有利于实现形状不规则、尺寸不统一的颗粒样品在光谱分析仪器上固定测试,而且操作简单方便。本技术采用的技术解决方案如下:一种光谱仪用全反射装置的压样头,其特点在于:包括压头杆、样品圈、压缩弹簧、弹簧罩和固定座;所述的压样杆的上端与所述的固定座相连,下端即压样端呈内凹结构,所述的样品圈下端的内侧具有向外开口结构,所述的样品圈同轴地套在所述的压样杆外,所述的样品圈套在所述的弹簧罩中;该弹簧罩的上端与所述的固定座接触,在所述的样品圈和弹簧罩之间嵌入所述的压缩弹簧,所述的压头杆和样品圈之间可产生相对的上下移动。本技术的有益效果如下:本技术光谱仪用全反射装置的压样头,适用于单个颗粒样品或堆积的多个样品的光谱测试;当晶体上方堆积多个样品时,移动压样头的样品圈可抓取部分颗粒,继续向下移动压样头,其压样杆将压住抓取的一个或多个样品;样品圈和压样杆抓取和压紧颗粒样品后,样品不容易跑出压头而固定在晶体上方。本技术特别方便颗粒形状不规则、尺寸大小不统一的样品进行ATR光谱测试。附图说明图1为本技术光谱仪用全反射装置的压样头的总体示意图;图2为本技术未压样品、自由状态时的装置状态示意图;图3为本技术压样杆的示意图;图4为本技术样品圈的示意图;具体实施方式下面结合附图对本技术作进一步说明,但不应以此限制本技术的保护范围。先请参见图1,本技术光谱仪用全反射装置的压样头,包括压头杆1、样品圈2、压缩弹簧3、弹簧罩4和固定座5,所述的压样杆1的上端与所述的固定座5相连,下端即压样端呈内凹结构101,所述的样品圈2下端的内侧具有向外开口结构201,所述的样品圈2同轴地套在所述的压样杆1外,所述的样品圈2套在所述的弹簧罩4中;该弹簧罩4的上端与所述的固定座5接触,在所述的样品圈2和弹簧罩4之间嵌入所述的压缩弹簧3,所述的压头杆1和样品圈2之间可产生相对的上下移动。压样杆1的压样端有内凹结构101(如图3)。样品圈2一端的内侧具有外开口结构(如图4)。请参见图2,压样头未压样品的自由状态时,压样杆1的圆柱面103和样品圈2的内圆柱面203配合,两者可以沿圆柱面轴线相对移动。由于压缩弹簧3推力的作用,压样杆1的外台阶102和样品圈2的内台阶202紧密靠在一起。当有样品特别是多个样品放置到晶体上方时,固定座5带动整个压样头向晶体方向移动,样品圈2的外开口结构201将抓取到部分颗粒样品。压样头继续向下晶体方向移动时,外开口结构201触碰到晶体表面而不能移动,此时压样杆1可继续向下移动,其下端部内凹结构101将压住已经抓取的颗粒样品中的一个或多个,从而将样品固置在晶体表面。压样头移动可以紧紧地将样品压住在晶体的表面,样品不容易飞出压样头,此时能够测到更好的带有样品信息的光谱图。本技术的光谱仪用全反射装置的压样头,能够方便实现颗粒类样品的压紧测试,结构简单、布局紧凑。在以上叙述和说明中对本技术所进行的描述只是说明而非限定性的,且在不脱离如所附权利要求书所限定的本技术的前提下,可以对上述实施例进行各种改变、变形、或修正。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光谱仪用全反射装置的压样头,其特征在于:包括压样杆(1)、样品圈(2)、压缩弹簧(3)、弹簧罩(4)和固定座(5);/n所述的压样杆(1)的上端与所述的固定座(5)相连,下端即压样端呈内凹结构(101),所述的样品圈(2)下端的内侧具有向外开口结构(201),所述的样品圈(2)同轴地套在所述的压样杆(1)外,所述的样品圈(2)套在所述的弹簧罩(4)中;该弹簧罩(4)的上端与所述的固定座(5)接触,在所述的样品圈(2)和弹簧罩(4)之间嵌入所述的压缩弹簧(3),所述的压样杆(1)和样品圈(2)之间可产生相对的上下移动。/n

【技术特征摘要】
1.一种光谱仪用全反射装置的压样头,其特征在于:包括压样杆(1)、样品圈(2)、压缩弹簧(3)、弹簧罩(4)和固定座(5);
所述的压样杆(1)的上端与所述的固定座(5)相连,下端即压样端呈内凹结构(101),所述的样品圈(2)下端的内侧具有向外开口结构(20...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑留念李纪华黄磊
申请(专利权)人:荧飒光学科技上海有限公司
类型:新型
国别省市:上海;31

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