近红外线截止滤光片的制造方法、层叠体及套件技术

本发明专利技术提供一种能够以优异的生产率制造平面性高的近红外线截止滤光片的近红外线截止滤光片的制造方法、层叠体及套件。该近红外线截止滤光片的制造方法包括：在基板的表面形成支承体层的工序；在支承体层的表面涂布包含近红外线吸收剂的近红外线吸收组合物而形成近红外线吸收组合物层的工序；对近红外线吸收组合物层进行固化处理而形成近红外线截止滤光片层的工序；从基板剥离由支承体和近红外线截止滤光片层而成的层叠体的工序；及从基板剥离的层叠体中，剥离支承体层的工序。

Manufacturing method, stack and kit of NIR cut-off filter

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】近红外线截止滤光片的制造方法、层叠体及套件
本专利技术涉及一种近红外线截止滤光片的制造方法。并且，涉及一种使用于近红外线截止滤光片的制造方法中的层叠体及套件。
技术介绍
在视频摄像机、数码照相机、带有照相机功能的移动电话等中使用作为彩色图像的固体成像元件的电荷耦合器件(CCD)或互补型金属氧化膜半导体(CMOS)等。这些固体成像元件由于其受光部中使用对近红外线具有灵敏度的硅光电二极管，因此必须进行可见度修正，而常使用近红外线截止滤光片。作为近红外线截止滤光片，使用在玻璃基板等刚性高的基板上涂布包含近红外线吸收剂的组合物而制成的膜等。例如，在专利文献1中，记载有一种滤光器，其具备基板及配设于基板上的粘合层，所述粘合层含有：四氮杂卟啉系色素、包含二亞胺盐的非晶质体的二亞胺系近红外线吸收色素、紫外线吸收剂、包含铜络合物或镍络合物的光稳定剂、丙烯酸系粘合剂。并且，0174～0177段中记载有如下内容：在PET(聚对苯二甲酸乙二酯)薄膜的表面形成有硅酮树脂层的剥离薄膜上，涂布粘合剂组合物并进行干燥而形成厚度为25μm的近红外线吸收粘合层来制造粘合膜，并将所获得的粘合膜贴合于防反射膜之后，剥去剥离膜，并且将其贴合于玻璃基板上来制造滤光器。在专利文献2中，记载有红外线截止膜，其具有：透明基材；近红外线吸收层，包含极大吸收波长为750nm～920nm的近红外线吸收剂；及至少1层近红外线反射层，固定胆甾醇型液晶相而成。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-001649号公报<br>专利文献2：日本特开2014-071356号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题在使用包含近红外线吸收剂的组合物来形成膜时，为了膜的平面性或抑制厚度的不均匀等，在玻璃基板等刚性高的基板上涂布包含近红外线吸收剂的组合物来制膜。以往，作为近红外线截止滤光片，以将前述膜层叠于玻璃基板等的状态来使用，但近年来研究了对前述膜本身赋予刚性来作为具有自支承性(自立性)的膜，并从基板等剥离制膜后的膜来使用的技术。然而，根据本专利技术人的研究，在从基板等剥离制膜后的膜时，膜上也有时会产生龟裂或破裂等。尤其是在膜的刚性高的情况下，有时不易从基板进行剥离，在剥离时，膜容易产生龟裂或破裂等。若在剥离时，膜上产生龟裂或破裂等，则由于产品的成品率降低，因此导致生产率降低。另外，在专利文献1、2中，将使用包含近红外线吸收剂的组合物来获得的膜层叠在基板上而使用，或者将其粘贴至其他部件并进行层压而使用，但并没有关于从基板等仅剥离使用包含近红外线吸收剂的组合物而获得的膜的记载。因此，本专利技术的目的在于提供一种能够以优异的生产率制造平面性高的近红外线截止滤光片的近红外线截止滤光片的制造方法、层叠体及套件。用于解决技术课题的手段本专利技术人等进行了深入研究的结果，发现通过后述工序能够以优异的生产率制造平面性高的近红外线截止滤光片，从而完成了本专利技术。本专利技术提供以下。＜1＞一种近红外线截止滤光片的制造方法，其包括：在基板的表面形成支承体层的工序；在支承体层的表面涂布包含近红外线吸收剂的近红外线吸收组合物而形成近红外线吸收组合物层的工序；对近红外线吸收组合物层进行固化处理而形成近红外线截止滤光片层的工序；从基板剥离由支承体层和近红外线截止滤光片层而成的层叠体的工序；及从基板剥离的层叠体中，剥离支承体层的工序。＜2＞根据＜1＞所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，基板的平面度为14μm以下，并且在23℃下的每1mm宽度的弯曲刚性大于支承体层的弯曲刚性。＜3＞根据＜1＞或＜2＞所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，支承体层包含高分子薄膜。＜4＞根据＜3＞所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，高分子薄膜的软化温度高于近红外线吸收组合物层的固化处理时的最高到达温度。＜5＞根据＜3＞或＜4＞所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，高分子薄膜在23℃下的断裂伸长率为5％以上且高于近红外线截止滤光片层的断裂伸长率，高分子薄膜在23℃下的每1mm宽度的弯曲刚性为4×10-6Pa·m4以下且小于近红外线截止滤光片层的每1mm宽度的弯曲刚性。＜6＞根据＜1＞至＜5＞中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，支承体层在近红外线截止滤光片层侧的剥离力为9N/25mm以下。＜7＞根据＜1＞至＜6＞中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，支承体层在基板侧的剥离力为15.5N/25mm以下。＜8＞根据＜1＞至＜7＞中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，支承体层在近红外线截止滤光片层侧的剥离力大于基板侧的剥离力。＜9＞根据＜1＞至＜7＞中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，支承体层在近红外线截止滤光片层侧的剥离力小于基板侧的剥离力。＜10＞根据＜1＞至＜7＞中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，支承体层在近红外线截止滤光片层侧的剥离力与基板侧的剥离力相同。＜11＞根据＜1＞至＜10＞中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，形成近红外线吸收组合物层的工序中，在支承体层的表面涂布近红外线吸收组合物而形成近红外线吸收组合物层，并且在支承体层的表面的至少一部分形成未设置有近红外线吸收组合物层的空白部。＜12＞根据＜1＞至＜11＞中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，支承体层的膜厚为1～1000μm。＜13＞根据＜1＞至＜12＞中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，近红外线截止滤光片层的膜厚为1～500μm。＜14＞根据＜1＞至＜13＞中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，近红外线截止滤光片层在23℃下的每1mm宽度的弯曲刚性为5×10-6Pa·m4以下，并且在23℃下的断裂伸长率为10％以下。＜15＞根据＜1＞至＜14＞中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，近红外线吸收组合物包含铜络合物及树脂。＜16＞根据＜15＞所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，树脂包含具有交联性基团的树脂。＜17＞根据＜15＞或＜16＞所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，近红外线吸收组合物包含具有交联性基团的单体。＜18＞一种层叠体，其具有：基板、支承体层及包含近红外线吸收剂的近红外线截止滤光片层，支承体层的一个面与基板接触，支承体层的另一个面与近红外线截止滤光片层接触，支承体层具有高分子薄膜，基板的平面度为14μm以下，并且在23℃下的每1mm宽度的弯曲刚性大于支承体层的弯曲刚性。＜19＞一种套件，其使用于＜1＞至＜17＞中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法中，所述套件具有：支承体层，具有本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种近红外线截止滤光片的制造方法，包括：/n在基板的表面形成支承体层的工序；/n在所述支承体层的表面涂布包含近红外线吸收剂的近红外线吸收组合物而形成近红外线吸收组合物层的工序；/n对所述近红外线吸收组合物层进行固化处理而形成近红外线截止滤光片层的工序；/n从所述基板剥离所述支承体层与所述近红外线截止滤光片层的层叠体的工序；及/n从由所述基板剥离的层叠体剥离所述支承体层的工序。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170921 JP 2017-1813351.一种近红外线截止滤光片的制造方法，包括：
在基板的表面形成支承体层的工序；
在所述支承体层的表面涂布包含近红外线吸收剂的近红外线吸收组合物而形成近红外线吸收组合物层的工序；
对所述近红外线吸收组合物层进行固化处理而形成近红外线截止滤光片层的工序；
从所述基板剥离所述支承体层与所述近红外线截止滤光片层的层叠体的工序；及
从由所述基板剥离的层叠体剥离所述支承体层的工序。


2.根据权利要求1所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，
所述基板的平面度为14μm以下，并且所述基板在23℃下的每1mm宽度的弯曲刚性大于所述支承体层的弯曲刚性。


3.根据权利要求1或2所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，
所述支承体层包含高分子薄膜。


4.根据权利要求3所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，
所述高分子薄膜的软化温度高于所述近红外线吸收组合物层的固化处理时的最高到达温度。


5.根据权利要求3或4所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，
所述高分子薄膜在23℃下的断裂伸长率为5％以上且高于近红外线截止滤光片层的断裂伸长率，
所述高分子薄膜在23℃下的每1mm宽度的弯曲刚性为4×10-6Pa·m4以下且小于近红外线截止滤光片层的每1mm宽度的弯曲刚性。


6.根据权利要求1至5中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，
所述支承体层在近红外线截止滤光片层侧的剥离力为9N/25mm以下。


7.根据权利要求1至6中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，
所述支承体层在所述基板侧的剥离力为15.5N/25mm以下。


8.根据权利要求1至7中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，
所述支承体层在所述近红外线截止滤光片层侧的剥离力大于在所述基板侧的剥离力。


9.根据权利要求1至7中任一项所述的近红外线截止滤光片的制造方法，其中，
所述支承体层在所述近红外线截止滤光片层侧的剥离力小于在所述基板侧的剥离力。


10.根据权利要求1至7中任一项所述的近红...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤翔，片桐良伸，仓桥哲雄，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP