用于发光成像的设备制造技术

一种设备包括空间图案中的多个成像像素，该空间图案具有被设置于像素上方的特征的形成。特征的形成的第一特征和第二特征被设置于第一像素上方。第一发光体被设置于第一特征内或第一特征上方。第二发光体被设置于第二特征内或第二特征上方。结构化照明源在第一时刻将照明图案中的第一光子的至少一部分引导到第一特征，并且在第二时刻将照明图案中的第二光子的至少一部分引导到第二特征。该结构化照明源包括照明图案生成器，该照明图案生成器具有照明图案生成器致动器，该照明图案生成器致动器被连接到照明图案生成器，以使照明图案相对于特征的形成平移或旋转。

Equipment for luminous imaging

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于发光成像的设备相关申请的交叉引用本申请要求于2018年6月14日提交的第62/684907号美国临时申请和于2018年7月5日提交的第N2021258号荷兰申请的权益；每一个申请的内容通过引用整体并入本文。
技术介绍
某些测序工具依靠各种“合成测序”(SBS)化学物来确定多核苷酸序列，诸如DNA或RNA序列。测序可以涉及利用发光成像(诸如荧光显微镜系统)识别核苷酸或相同核苷酸的局部簇，通过它们的相应的荧光标记物的发射波长。尽管开发中的一些SBS化学物可以使用单一染料，但是多种荧光染料(多达四种)通常被用于商业系统中，以便独特地识别多核苷酸中的核苷酸，诸如DNA中的A、G、C和T核苷酸。
技术实现思路
在第一方面中，一种设备包括在空间图案中布置的多个成像像素；特征的形成，被设置于多个成像像素上方；特征的形成的第一特征，该第一特征被设置于多个成像像素中的第一像素上方，特征的形成的第二特征，该第二特征被设置于第一像素上方，并且该第二特征距第一特征被在空间上移位；第一发光体，该第一发光体被设置于第一特征内或第一特征上方；第二发光体，该第二发光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种设备，包括：/n多个成像像素，被布置于空间图案中；/n特征的形成，被设置于所述多个成像像素上方；/n所述特征的形成的第一特征，所述第一特征被设置于所述多个成像像素的第一像素上方，/n所述特征的形成的第二特征，所述第二特征被设置于所述第一像素上方，并且距所述第一特征被在空间上移位；/n第一发光体，被设置于所述第一特征内或所述第一特征上方；/n第二发光体，被设置于所述第二特征内或所述第二特征上方；以及/n结构化照明源，在第一时刻将照明图案中的第一光子的至少一部分引导到所述第一特征，并且在第二时刻将所述照明图案中的第二光子的至少一部分引导到所述第二特征，所述第二时刻不同于所述第一时刻，所述第...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180705 NL 2021258;20180614 US 62/684,9071.一种设备，包括：
多个成像像素，被布置于空间图案中；
特征的形成，被设置于所述多个成像像素上方；
所述特征的形成的第一特征，所述第一特征被设置于所述多个成像像素的第一像素上方，
所述特征的形成的第二特征，所述第二特征被设置于所述第一像素上方，并且距所述第一特征被在空间上移位；
第一发光体，被设置于所述第一特征内或所述第一特征上方；
第二发光体，被设置于所述第二特征内或所述第二特征上方；以及
结构化照明源，在第一时刻将照明图案中的第一光子的至少一部分引导到所述第一特征，并且在第二时刻将所述照明图案中的第二光子的至少一部分引导到所述第二特征，所述第二时刻不同于所述第一时刻，所述第一像素选择性地接收由所述第一发光体在所述第一时刻响应于所述第一光子的所述部分而发射的发光，以及选择性地接收由所述第二发光体在所述第二时刻响应于所述第二光子的所述部分而发射的发光，其中所述结构化照明源包括照明图案生成器，所述照明图案生成器具有照明图案生成器致动器，所述照明图案生成器致动器被连接到所述照明图案生成器，以使所述照明图案相对于所述特征的形成平移或旋转。


2.根据权利要求1所述的设备，其中所述照明图案具有照明强度最大值，所述照明强度最大值具有周期性，所述周期性对应于所述多个成像像素的所述空间图案中的像素间隔。


3.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述结构化照明源用于用所述第一光子和所述第二光子泛光照明所述照明图案生成器。


4.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述结构化照明源包括激光器。


5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述照明图案生成器包含掩模层，并且所述照明图案生成器致动器包括掩模层致动器，所述掩模层致动器被连接到所述掩模层，以相对于所述特征的形成而平移或旋转所述掩模层。


6.根据权利要求5所述的设备，其中：
所述掩模层的第一位置使所述第一光子的所述部分选择性地照明所述第一特征；以及
所述掩模层的第二位置使所述第二光子的所述部分选择性地照明所述第二特征。


7.根据权利要求5或权利要求6所述的设备，其中：
所述掩模层包括交替的周期性间隔的光透射区域和不透明区域的栅格；
所述光透射区域被掩模吸收体的平行条限定，所述掩模吸收体被设置于掩模衬底上；以及
所述第一光子的所述部分和所述第二光子的所述部分被透射穿过所述光透射区域，以在所述特征的形成上照明平行照明条。


8.根据权利要求5或权利要求6所述的设备，其中：
所述掩模层包括周期性间隔的光透射区域的二维布置，所述光透射区域被限定于不透明区域上；
所述不透明区域被掩模吸收体限定，所述掩模吸收体被设置于掩模衬底上；
所述光透射区域是被限定于所述不透明区域中的所述掩模衬底的区，所述区具有的所述掩模吸收体从被设置在所述区上而被排除；以及
所述第一光子的所述部分和所述第二光子的所述部分被透射穿过所述光透射区域，以照明所述特征的形成上的对应特征。


9.根据权利要求1至权利要求4中任一项所述的设备，其中所述照明图案生成器包括：
干涉图案生成器，用于传播光，所述光在所述特征的形成上限定多光束干涉图案；
其中所述照明图案生成器致动器包括干涉图案生成器致动器，所述干涉图案生成器致动器被连接到所述干涉图案生成器，以改变所述干涉图案生成器的位置状态或旋转状态，以使所述干涉图案相对于所述特征的形成平移或旋转。


10.根据权利要求9所述的设备，其中：
所述干涉图案生成器的第一位置状态或第一旋转状态使所述第一光子的所述部分选择性地照明所述第一特征；以及
所述干涉图案生成器的第二位置状态或第二旋转状态使所述第二光子的所述部分选择性地照明所述第二特征。


11.根据权利要求9或权利要求10所述的设备，其中：
所述多波束干涉图案是双波束干涉图案；
干涉图案生成器用于将平行的线性干涉条纹投射到所述特征的形成上；以及
所述平行线性干涉条纹具有等于像素间隔的预定周期性。


12.根据权利要求9或权利要求10所述的设备，其中：
所述多波束干涉图案是来自至少四个干涉波束的干涉图案；以及
所述干涉图案是二维干涉图案，所述二维干涉图案具有干涉最大值，所述干涉最大值具有等于像素间隔的预定周期性。


13.根据权利要求9或权利要求10所述的设备，其中所述干涉图案生成器包括二维传输相位掩模，以将激光束分裂成一组干涉光束。


14.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中：所述结构化照明源包括光学部件；并且所述设备还包括控制器，所述控制器耦合到所述光学部件以控制所述光学部件，以便在所述第一时刻将所述照明图案中的所述第一光子的所述部分引导到所述第一特征，并且在所述第二时刻将所述照明图案中的所述第二光子的所述部分引导到所述第二特征。


15.根据权利要求14所述的设备，其中所述光学部件包括光束转向部件。


16.根据前述权利要求中任一项所述的设备，其中所述第二特征距所述第一特征被横向地移位。


17.根据前述权利要求中任一项所...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁大军，羌梁梁，郭明浩，
申请(专利权)人：伊鲁米纳公司，
类型：发明
国别省市：美国;US