光刻胶排放系统及光刻胶排放方法技术方案

本发明专利技术提供一种光刻胶排放系统及光刻胶排放方法，光刻胶排放系统包括：若干个光刻胶供给源，用于提供光刻胶；若干个缓冲罐，与光刻胶供给源一一对应连接；若干个第一供液管路，位于光刻胶供给源与缓冲罐之间，一端与光刻胶供给源一一对应连接，另一端与缓冲罐一一对应连接；若干个排液管路，与缓冲罐一一对应连接；若干个第二供液管路，一端与缓冲罐一一对应连接。本发明专利技术的光刻胶排放系统通过使用不同排液管路与各个缓冲罐一一对应连接，即将不同的缓冲罐使用不同的排液管路连接，不同的光刻胶供给源之间相互独立，不会造成不同光刻胶之间交叉污染，也不会存在滤出的杂质回流污染正常的光刻胶的问题。

Photoresist discharge system and photoresist discharge method

【技术实现步骤摘要】
光刻胶排放系统及光刻胶排放方法
本专利技术属于集成电路
，特别是涉及一种光刻胶排放系统及光刻胶排放方法。
技术介绍
在现有的光刻胶排放系统中，各光刻胶供给瓶与喷嘴之间的连接管路上均会设置缓冲罐(buffertank)，所述缓冲罐用于暂存光刻胶、过滤光刻胶中的气泡及杂质；同时，缓冲罐会通过一排液管路连接至厂务排污系统以将过滤出的气泡、杂质和废光刻胶排出所述缓冲罐之外。然而，目前的光刻胶排放系统中，不同的光刻胶的缓冲罐(即与存放不同光刻胶的光刻胶供给瓶相连接的不同的缓冲罐)的排液管路是相互连通的，这必然会在排出气泡、杂质和废光刻胶的过程中造成不同的光刻胶之间的交叉污染，过滤出的杂质在光刻胶回流的过程中也会经由排液管路污染正常的光刻胶，从而造成光刻胶的浪费。
技术实现思路
鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种光刻胶排放系统及光刻胶排放方法，用于解决现有技术中的光刻胶排放系统中由于连接不同的光刻胶的缓冲罐的排液管路相互连通而导致的造成不同的光刻胶之间的交叉污染的问题，以及过滤出的杂质在光刻胶回流的过程中会污本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻胶排放系统，其特征在于，所述光刻胶排放系统包括：/n若干个光刻胶供给源，用于提供光刻胶；/n若干个缓冲罐，与所述光刻胶供给源一一对应连接；/n若干个第一供液管路，位于所述光刻胶供给源与所述缓冲罐之间，一端与所述光刻胶供给源一一对应连接，另一端与所述缓冲罐一一对应连接；/n若干个排液管路，与所述缓冲罐一一对应连接；及/n若干个第二供液管路，一端与所述缓冲罐一一对应连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶排放系统，其特征在于，所述光刻胶排放系统包括：
若干个光刻胶供给源，用于提供光刻胶；
若干个缓冲罐，与所述光刻胶供给源一一对应连接；
若干个第一供液管路，位于所述光刻胶供给源与所述缓冲罐之间，一端与所述光刻胶供给源一一对应连接，另一端与所述缓冲罐一一对应连接；
若干个排液管路，与所述缓冲罐一一对应连接；及
若干个第二供液管路，一端与所述缓冲罐一一对应连接。


2.根据权利要求1所述的光刻胶排放系统，其特征在于，部分所述光刻胶供给源提供的光刻胶互不相同。


3.根据权利要求1所述的光刻胶排放系统，其特征在于，若干个所述光刻胶供给源提供的光刻胶均互不相同。


4.根据权利要求1所述的光刻胶排放系统，其特征在于，所述光刻胶供给源包括光刻胶供给瓶。


5.根据权利要求1所述的光刻胶排放系统，其特征在于，所述光刻胶排放系统还包括：
排污端口，与若干个所述排液管路远离所述缓冲罐的一端均相连接；及
厂务排污系统，与所述排污端口相连接。


6.根据权利要求1所述的光刻胶排放系统，其特征在于，所述光刻胶排放系统还包括供气管路，一端与所述光刻胶供给源相连接，另一端与气体源相连接。...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑义强，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34