与外涂覆的光致抗蚀剂一起使用的涂料组合物制造技术

提供了有机涂料组合物，特别是与外涂覆的光致抗蚀剂一起使用的减反射涂料组合物，其包含1)一种或多种树脂和2)不同于1)一种或多种树脂的一种或多种PDQ化合物。

Coating composition for use with externally applied photoresist

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】与外涂覆的光致抗蚀剂一起使用的涂料组合物相关申请本申请要求2017年6月19日提交的美国申请号15/626,872的优先权权益，所述申请是2017年6月15日提交的美国申请号15624,699的继续申请，其全部内容通过援引并入本文。
本专利技术涉及用于微电子应用的组合物，并且特别是减反射涂料组合物(例如“BARC”)。本专利技术的组合物包含一种或多种取代的可光分解的淬灭剂化合物。
技术介绍
光致抗蚀剂是用于将图像转移到基底上的光敏膜。在基底上形成光致抗蚀剂涂层并且然后将所述光致抗蚀剂层通过光掩模暴露于活化辐射源。在曝光之后，使光致抗蚀剂显影以提供允许选择性加工基底的浮雕图像。用于曝光光致抗蚀剂的活化辐射的反射通常对光致抗蚀剂层中图案化的图像的分辨率造成限制。辐射从基底/光致抗蚀剂界面的反射可能使光致抗蚀剂中的辐射强度产生空间变化，从而在显影时导致不均匀的光致抗蚀剂线宽。辐射还可能从基底/光致抗蚀剂界面散射到光致抗蚀剂的不旨在进行曝光的区域，从而再次导致线宽变化。用于减少反射辐射问题的一种方法是使用插入在基底表面与本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，其包括：/na)在基底上施加一层涂料组合物，所述涂料组合物包含：1)树脂；和2)PDQ化合物；以及/nb)在所述涂料组合物层上施加一层光致抗蚀剂组合物。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，其包括：
a)在基底上施加一层涂料组合物，所述涂料组合物包含：1)树脂；和2)PDQ化合物；以及
b)在所述涂料组合物层上施加一层光致抗蚀剂组合物。


2.如权利要求1所述的方法，其中，所述PDQ化合物具有氨基磺酸根阴离子或羧酸根阴离子。


3.如权利要求2所述的方法，其中，所述PDQ化合物包含pKa大于0的阴离子。


4.如权利要求1所述的方法，其中，所述PDQ化合物具有下式(A)或(B)的结构：



其中：
R1和R2各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C12烷基、取代或未取代的C3-C12环烷基、或取代或未取代的苯基；
R3为取代或未取代的C1-C12烷基、取代或未取代的C3-C12环烷基、或取代或未取代的苯基；并且
Y是阳离子。


5.如权利要求4所述的方法，其中，Y是：





6.如权利要求4或5所述的方法，其中，R1和R2独立地为氢、甲基、环己基、金刚烷基或被金刚烷基取代的C1-C3烷基和/或R3是金刚烷基。...

【专利技术属性】
技术研发人员：李晶真，JY·安，BK·顾，沈载桓，林载峰，
申请(专利权)人：罗门哈斯电子材料韩国有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR