一种晶体材料均一化抛光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种晶体材料均一化抛光装置，包括：进给单元、夹持单元、抛光单元和控制单元；所述进给单元，用于带动工件沿设定运动轨迹在抛光单元表面运动，并实时将其运动轨迹相关信息反馈至控制单元；所述夹持单元，用于夹持工件并使工件在运动过程中自转，同时用于对工件提供一定的加载力；所述抛光单元，用于对在其表面运动的工件进行抛光；所述控制单元，用于控制所述进给单元的运动轨迹及控制夹持单元的加载力。通过上述方式，本实用新型专利技术能够保证工件去除率的均一性、提高工件的几何精度和表面质量。

A uniform polishing device for crystal materials

【技术实现步骤摘要】
一种晶体材料均一化抛光装置
本技术涉及超精密抛光
，特别是涉及一种晶体材料均一化抛光装置。
技术介绍
在抛光加工过程中，随着抛光盘的转动和工件自身的转动，抛光盘上的磨粒在工件表面形成复杂的运动轨迹，有助于提高加工精度。但是，在仅有抛光盘的转动和工件自身的转动的情况下，磨粒在工件表面形成的运动轨迹往往是有规律的、周期性的，在长时间加工过程中，抛光盘表面的损伤或缺陷会重复作用于工件表面，从而造成工件表面质量和精度的降低。因此，在抛光加工过程中，通过机械结构带动工件沿特定轨迹运动是有必要的。目前常见的抛光加工过程中，多采用沿抛光盘径向往复进给或者利用行星齿轮机构带动工件公转的方法，以上方法均可以形成复杂的工件运动轨迹，有助于提高加工精度。但以上方法产生的轨迹比较单一，不可随意更改。同时，工件在抛光盘表面运动过程中，所处位置的抛光盘线速度也随之改变，进而去除率也会改变，这会使工件的加工状态不稳定，降低加工精度。根据Preston方程γ＝KPv，在Preston系数不变K的条件下，若要维持去除率γ不变，需要载荷P随抛光速度v的改变而改变。<本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶体材料均一化抛光装置，其特征在于，包括：进给单元、夹持单元、抛光单元和控制单元；/n所述进给单元，用于带动工件沿设定运动轨迹在抛光单元上运动，并实时将其运动轨迹相关信息反馈至控制单元；/n所述夹持单元，用于夹持工件并使工件在运动过程中自转，同时用于对工件提供加载力；/n所述抛光单元，用于对工件进行抛光；/n所述控制单元，用于控制所述进给单元的运动轨迹及控制夹持单元的加载力。/n

【技术特征摘要】
1.一种晶体材料均一化抛光装置，其特征在于，包括：进给单元、夹持单元、抛光单元和控制单元；
所述进给单元，用于带动工件沿设定运动轨迹在抛光单元上运动，并实时将其运动轨迹相关信息反馈至控制单元；
所述夹持单元，用于夹持工件并使工件在运动过程中自转，同时用于对工件提供加载力；
所述抛光单元，用于对工件进行抛光；
所述控制单元，用于控制所述进给单元的运动轨迹及控制夹持单元的加载力。


2.根据权利要求1所述的晶体材料均一化抛光装置，其特征在于，所述进给单元和抛光单元平行设置，所述夹持单元与进给单元连接。


3.根据权利要求2所述的晶体材料均一化抛光装置，其特征在于，所述抛光单元包括：气体静压转台和抛光盘，所述抛光盘安装在所述气体静压转台上。


4.根据权利要求2所述的晶体材料均一化抛光装置，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：董志刚，马堃，刘子源，
申请(专利权)人：江苏集萃精凯高端装备技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32